CN218698491U - 一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台 - Google Patents

Abstract

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，设置有工作台主体、承载台主体和真空腔，真空腔设于承载台主体和工作台主体之间，工作台主体设有与真空腔连通的吸附通孔阵列，吸附通孔阵列的表面设有吸附调节件，吸附调节件将吸附通孔阵列的任意部分覆盖。该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台的吸附调节件可以根据被吸附产品的形状对吸附通孔阵列的吸附面积进行调节，将没有吸附产品的吸附通孔覆盖，这样可以减少真空腔的真空度的减弱，提高吸附力。同时由于吸附通孔阵列的吸附面积可以根据产品的形状进行调节，不需要对每款产品设计匹配的吸附通孔阵列，因此不需要更换工作台，具有较高的通用性。

Description

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台

技术领域

本实用新型涉及电子材料技术领域，特别涉及一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台。

背景技术

真空吸附台是一种常用的工件支撑设备，其用于在线路板制造、液晶显示面板制造、半导体工艺、光学薄膜制造等领域中支撑并定位工件，以便对工件进行各种处理。

厚膜陶瓷产品印刷加工时需要用真空吸附固定。但由于很多陶瓷产品内部打了很多孔，且不同的产品的孔的位置不同，需要选取特定的位置进行吸附。

常见的真空吸附台设有真空腔和位于真空腔上的吸附平台，吸附平台设有大面积的吸附通孔。但面对具有多孔和不同形状的厚膜陶瓷产品，常规的吸附台一般采用真空度更高的真空腔来提高对厚膜陶瓷产品的吸附力，但该方式的缺点是能耗高，对真空腔设备的要求高。另外还有一种方式是吸附孔的排列面积与厚膜陶瓷产品的被吸附部位的面积相匹配，但该方式的缺点是需要根据不同的厚膜陶瓷产品设计不同的吸附孔排列形状，当厚膜陶瓷产品改变时还需要更换相匹配的吸附台。

因此，针对现有技术不足，提供一种吸附力强、通用不同产品的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台以解决现有技术不足甚为必要。

发明内容

本实用新型的目的在于避免现有技术的不足之处而提供一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台。该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台的吸附面积可调，具有吸附力强和通用性高的特点。

本实用新型的上述目的通过以下技术措施实现：

提供一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，设置有工作台主体、承载台主体和真空腔。

其中，真空腔设于承载台主体和工作台主体之间。

其中，工作台主体设有与真空腔连通的吸附通孔阵列。

其中，吸附通孔阵列的表面覆盖有吸附调节件。

具体的，将吸附通孔阵列被吸附调节件覆盖的区域定义为调节面。

将吸附通孔阵列没有被吸附调节件覆盖的区域定义为吸附面。

厚膜陶瓷基板贴合于吸附面的部分或者全部区域。

具体的，工作台主体在与承载台主体在相对的一面设有凹槽，当工作台主体和承载台主体相贴合时，凹槽形成空腔。

或者其中，承载台主体在与工作台主体相对的一面设有凹槽，当工作台主体和承载台主体相贴合时，凹槽形成空腔。

或者工作台主体相对承载台主体的一面设置有第一凹槽，承载台主体相对于工作台主体的一面设置有第二凹槽，第一凹槽与第二凹槽匹配，当工作台主体和承载台主体相贴合时，第一凹槽、第二凹槽整体形成空腔。

其中，空腔通过真空通孔与真空泵连接形成真空腔。

具体的，吸附通孔阵列设有主吸附区、定位区和边界区。

其中，主吸附区、定位区和边界区由内而外依次排列。

或者主吸附区、定位区和边界区由内而外依次排列构成最小吸附通孔阵列单元，最小吸附通孔阵列单元以矩阵式排列。

具体的，主吸附区由主吸附通孔以矩阵式排列构成。

其中，定位区由定位吸附通孔构成，定位吸附通孔环绕在主吸附区外周并与主吸附通孔形成矩阵排列。

其中，边界区由边界吸附通孔构成，边界吸附通孔环绕在定位区外周并同时与主吸附通孔、定位吸附通孔形成矩阵排列。

其中，主吸附区、定位区、边界区的面积依次减小。

其中，主吸附通孔为正多边形通孔或圆形通孔。

其中，定位吸附通孔为直角通孔。

其中，边界吸附通孔为长方形通孔。

其中，主吸附通孔、定位吸附通孔和边界吸附通孔的直径范围是2～5mm，间距范围是4～10mm。

具体的，承载台主体在与工作台主体相贴合的位置设有吸附固定通孔，吸附固定通孔与真空腔连通。

或者工作台主体设有螺丝通孔，承载台主体设有与螺丝通孔相对的螺丝孔。

其中，螺丝通孔和螺丝孔通过插入螺钉将工作台主体和承载台主体固定连接。

具体的，吸附调节件设置有吸附膜辊，吸附膜辊是由吸附膜卷绕于轴所形成的结构。

其中，轴设于工作台主体，吸附膜从轴中拉伸出来覆盖于吸附通孔阵列。

具体的，工作台主体还固定有相互平行的第一导轨和第二导轨。

其中，第一导轨和第二导轨分别设于吸附通孔阵列的两侧。

其中，吸附膜辊设置有横向子吸附膜辊和纵向子吸附膜辊。其中，横向子吸附膜辊与第一导轨、第二导轨垂直，并且横向子吸附膜辊的两端分别滑动装配于第一导轨和第二导轨。

其中，纵向子吸附膜辊与第一导轨、第二导轨同向，并且活动套设于第一导轨或第二导轨或者同时套设于第一导轨和第二导轨。

其中，横向子吸附膜辊、纵向子吸附膜辊的数量均为1至2 个。

具体的，横向子吸附膜辊的两端分别固定有滑轮，滑轮分别对应装配于第一导轨、第二导轨。

具体的，纵向子吸附膜辊的纵向轴为中空管，中空管活动套设于第一导轨或者第二导轨中的至少一个。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，设置有工作台主体、承载台主体和真空腔，真空腔设于承载台主体和工作台主体之间，工作台主体设有与真空腔连通的吸附通孔阵列，吸附通孔阵列的表面覆盖有吸附调节件。该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台的吸附调节件可以根据被吸附产品的形状对吸附通孔阵列的吸附面积进行调节，将没有吸附产品的吸附通孔覆盖，这样可以缓解真空腔的真空度的降低，提高吸附力。同时由于吸附通孔阵列的吸附面积可以根据产品的形状进行调节，不需要对每款产品设计匹配的吸附通孔阵列，因此不需要更换工作台，具有较高的通用性。

附图说明

利用附图对本实用新型作进一步的说明，但附图中的内容不构成对本实用新型的任何限制。

图1是一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台的俯视图。

图2是一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台的主视图。

图3是实施例4中吸附通孔阵列的示意图。

图4是实施例6的示意图。

图5是实施例3的示意图。

图6是实施例8的示意图。

图7是实施例13的示意图。

在图1至图7中，包括有：

工作台主体100、

吸附通孔阵列110、螺丝通孔120、第一凹槽130、第一导轨 140、第二导轨150、

主吸附区111、定位区112、边界区113、

主吸附通孔1111、定位吸附通孔1121、边界吸附通孔1131、承载台主体200、

真空通孔210、螺丝孔220、第二凹槽230、吸附固定通孔240、真空腔300、

吸附调节件400、

吸附膜410、轴420、

横向子吸附膜辊421、纵向子吸附膜辊422、

滑轮4211。

具体实施方式

结合以下实施例对本实用新型的技术方案作进一步说明。

实施例1。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图1至2 所示，设置有工作台主体100、承载台主体200和真空腔300。

其中，真空腔300设于承载台主体200和工作台主体100之间。

其中，工作台主体100设有与真空腔300连通的吸附通孔阵列110。

其中，吸附通孔阵列110的表面设有吸附调节件400。

吸附调节件400是能够将吸附通孔封闭的任意形状的片状体，比如纸张、透明胶带、美纹胶纸等。由于厚膜陶瓷产品的形状大小各异，将厚膜陶瓷产品放置在工作台主体的吸附通孔阵列110 中时，厚膜陶瓷产品有时不能完全覆盖吸附通孔阵列110，而吸附通孔阵列110中没有覆盖的吸附通孔就不会发挥吸附作用，反而会连通真空腔300和空气，造成真空腔300的真空度降低。本实用新型采用吸附调节件400对没有被厚膜陶瓷产品覆盖的吸附通孔进行覆盖，阻断真空腔300和空气的连通，保持真空腔300的真空度，有效提高吸附通孔对厚膜陶瓷产品的吸附力。同时由于厚膜陶瓷产品的形状大小各异，本发明采用可调节形状大小的吸附调节件400，将没有被厚膜陶瓷产品覆盖的吸附通孔进行覆盖，无需再针对不同的厚膜陶瓷产品重新设计不同形状的吸附通孔阵列110，也无需针对不同的厚膜陶瓷产品更换相匹配的工作台主体 100，具有较高的通用性。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其吸附调节件400可以根据厚膜陶瓷产品的形状对吸附通孔阵列 110的吸附面积进行调节，将不需要吸附厚膜陶瓷产品的吸附通孔覆盖，这样可以减少真空腔300的真空度的减弱，提高吸附力。同时由于吸附通孔阵列110的吸附面积可以根据厚膜陶瓷产品的形状进行调节，不需要对每款厚膜陶瓷产品设计匹配的吸附通孔阵列110，因此不需要更换工作台，具有较高的通用性。

实施例2。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图1所示，其他特征与实施例1相同，还具有如下特征：

将吸附通孔阵列110被吸附调节件400覆盖的区域定义为调节面。

将吸附通孔阵列110没有被吸附调节件400覆盖的区域定义为吸附面。

厚膜陶瓷基板贴合于吸附面的部分或者全部区域。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，吸附面与非覆盖面的形状相匹配，这样，工作台主体100只对厚膜陶瓷产品与工作台主体100接触的部分进行吸附，未被厚膜陶瓷产品覆盖的吸附孔被封闭。该设计可以最大化减少真空度的损失，有效提高吸附力。

实施例3。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图5所示，其他特征与实施例1相同，还具有如下特征：

具体的，工作台主体100在和承载台主体200相对的一面设有第一凹槽130，当工作台主体100和承载台主体200相贴合时，第一凹槽130形成空腔，空腔通过真空通孔210与真空泵连接形成真空腔300。

可以理解的是，形成真空腔300的凹槽可以是设于工作台主体的第一凹槽130，也可以是设于承载台主体200的第二凹槽230，还可以是第一凹槽130和第二凹槽230组合形成真空腔300。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，由于形成真空腔300的凹槽可以灵活设于工作台主体100和/或承载台主体200，具有结构简单的特点。

实施例4。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图3所示，其他特征与实施例1相同，还具有如下特征：

吸附通孔阵列110设有主吸附区111、定位区112和边界区 113。

主吸附区111、定位区112和边界区113由内而外依次排列。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，主吸附区111在内层，可以有效吸附厚膜陶瓷产品主体。定位区 112在主吸附区111的外周且和厚膜陶瓷产品的边缘相对，可以给厚膜陶瓷产品提供位置参照。边界区113在定位区112的外周，可以避免厚膜陶瓷产品的位置超出有效吸附区。

实施例5。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例4相同，还具有如下特征：

主吸附区111、定位区112和边界区113由内而外依次排列构成最小吸附通孔阵列110单元，最小吸附通孔阵列110单元以矩阵式排列构成吸附通孔阵列110。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，由最小吸附通孔阵列110单元构成吸附通孔阵列110，可以同时在每个最小吸附通孔阵列110单元内吸附厚膜陶瓷产品。

实施例6。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图4所示，其他特征与实施例4或5相同，还具有如下特征：

主吸附区111由主吸附通孔1111以矩阵式排列构成。

其中，定位区112由定位吸附通孔1121构成，定位吸附通孔 1121环绕在主吸附区111外周并与主吸附通孔1111形成矩阵排列。

其中，边界区113由边界吸附通孔1131构成，边界吸附通孔 1131环绕在定位区112外周并同时与主吸附通孔1111、定位吸附通孔1121形成矩阵排列。

其中，主吸附区111、定位区112、边界区113的面积依次减小。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，由于主吸附区111位于中间且面积最大，可以直接有效的吸附厚膜陶瓷产品主体。定位区112位于主吸附区111外周且和厚膜陶瓷产品的边缘相对，可以给厚膜陶瓷产品放置位置提供参考，以使厚膜陶瓷产品主体的大部分置于主吸附区111。边界区113位于定位区112的外周，可以给厚膜陶瓷产品放置位置提供参考，避免产品放置超出边界，导致吸附面积变小。

实施例7。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图3至4 所示，其他特征与实施例6相同，还具有如下特征：

具体的，主吸附通孔1111为正方形。

可以理解的是，在平面图形的周长相等条件下，为了获得更大的吸附面积，可以将主吸附通孔1111设为多边形通孔。当多边形通孔的边数趋于无限大时，可以获得圆形通孔。

其中，定位吸附通孔1121为直角通孔。

其中，边界吸附通孔1131为长方形通孔。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，主吸附通孔1111为正方形，主要起吸附作用。定位吸附通孔1121 为直角通孔，起到定位作用。边界吸附通孔1131为长方形通孔，长方形通孔排列形成直线，起到边界线的作用。

实施例8。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图6所示，其他特征与实施例1相同，还具有如下特征：

具体的，承载台主体200在与工作台主体100相贴合的位置设有吸附固定通孔240。

其中，吸附固定通孔240与真空腔300连通。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，对工作台主体100和承载台主体200的固定采用吸附力吸附固定的方式，当需要更换工作台主体100时，关闭真空腔300即可消除吸附力，解除工作台主体100和承载台主体200的固定。

实施例9。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，如图2所示，其他特征与实施例1相同，还具有如下特征：

具体的，工作台主体100设有螺丝通孔120。

其中，承载台主体200设有与螺丝通孔120相对的螺丝孔220。

其中，螺丝通孔120和螺丝孔220通过插入螺钉将工作台主体100和承载台主体200固定连接。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，在不需要频繁更换工作台主体100的情况下通过螺丝固定，这样工作台主体100和承载台主体200贴合更加密闭，真空腔300的真空度更高。

实施例10。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例7相同，还具有如下特征：

具体的，主吸附通孔1111、定位吸附通孔1121和边界吸附通孔1131的直径是2mm，间距是4mm。

需要说明的是，吸附通孔的直径不仅仅限于本实施例的2mm，也可以根据需要选择2～5mm，具体可根据被吸附件的体积大小灵活选择。

需要说明的是，吸附通孔的间距不仅仅限于本实施例的4mm，也可以根据需要选择4～10mm，具体可根据被吸附件的体积大小灵活选择。

本实用新型的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，直径和间隙合适，可以适用绝大多数不同尺寸的厚膜陶瓷产品。

实施例11。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例1至10任意一项相同，如图7所示，还具有如下特征：

吸附调节件400设置有吸附膜辊，吸附膜辊是由吸附膜410 卷绕于轴420所形成的结构。

轴420设于工作台主体100，吸附膜410从轴420中拉伸出来覆盖于吸附通孔阵列110。

该真空吸附工作台，其吸附调节件400为吸附膜辊，具有可拉伸和收缩的吸附膜410。在吸附通孔阵列110上由于吸附不同大小的厚膜陶瓷基板后所形成的非覆盖面，吸附膜辊都能通过调节吸附膜410的面积对非覆盖面进行吸附覆盖，具有结构简单，使用方便的特点。

实施例12。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例11相同，如图7所示，还具有如下特征：

工作台主体100还固定有相互平行的第一导轨140和第二导轨150。

第一导轨140和第二导轨150分别设于吸附通孔阵列110的两侧。

吸附膜辊设置有横向子吸附膜辊421和纵向子吸附膜辊422。

横向子吸附膜辊421与第一导轨140、第二导轨150垂直，并且横向轴420的两端分别滑动装配于第一导轨140和第二导轨 150。

纵向子吸附膜辊422与第一导轨140、第二导轨150同向，并且活动套设于第一导轨140或第二导轨150或者同时套设于第一导轨140和第二导轨150。

横向子吸附膜辊421、纵向子吸附膜辊422的数量分别设置为1个。

横向子吸附膜辊421的横向轴420的两端分别固定有滑轮 4211，滑轮4211分别对应装配于第一导轨140、第二导轨150。

所述纵向子吸附膜辊422的纵向轴420为中空管，中空管活动套设于第一导轨140或者第二导轨150中的至少一个。

需要说明的是，当纵向子吸附膜辊422的数量为1个时，纵向子吸附膜辊422可以套设于第一导轨140或者第二导轨150的任意一个。当当纵向子吸附膜辊422的数量为2个时，纵向子吸附膜辊422同时套设于第一导轨140和第二导轨150。

该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其使用方式是这样的：

首先，将厚膜陶瓷基板横向或纵向置于真空吸附通孔阵列110 的任意一角，同时厚膜陶瓷基板的两邻两边与真空吸附通孔阵列 110的两邻两边相切；

其次，将单独的横向子吸附膜辊421滑动至吸附通孔阵列110 外围，且位于远离厚膜陶瓷基板的一端；

再次，将横向子吸附膜辊421的吸附膜410从轴420中拉伸出与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

继次，将单独的纵向子吸附膜辊422滑动至与厚膜陶瓷基板相对的位置，且位于远离厚膜陶瓷基板的导轨；

最后，将纵向子吸附膜辊422的吸附膜410从轴420中拉伸出，与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

通过以上步骤，单独的横向子吸附膜辊421和单独的纵向子吸附膜辊422的吸附膜410将吸附通孔阵列110中没有被厚膜陶瓷基板覆盖的区域完全覆盖。

该真空吸附工作台，通过导轨、滑轮4211、横向子吸附膜辊 421和纵向子吸附膜辊422组合的形式，将厚膜陶瓷基板吸附在吸附阵列的任意一角的位置。该吸附方式使得吸附调节件400在工作台主体100上移动更加灵活，移动位置更加精准。

实施例13。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例12相同，如图7所示，还具有如下特征：

横向子吸附膜辊421、纵向子吸附膜辊422的数量均设置为2 个。

该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其使用方式是这样的：

首先，将厚膜陶瓷基板横向或纵向置于真空吸附通孔阵列110 的任意位置；

其次，将两个横向子吸附膜辊421分别滑动至吸附通孔阵列 110上下两端；

再次，将横向子吸附膜辊421的吸附膜410从轴420中拉伸出分别与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

继次，将两个纵向子吸附膜辊422滑动至与厚膜陶瓷基板相对的位置；

最后，将纵向子吸附膜辊422的吸附膜410从轴420中拉伸出分别与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

通过以上步骤，两个横向子吸附膜辊421和两个纵向子吸附膜辊422的吸附膜410将吸附通孔阵列110的没有被厚膜陶瓷基板覆盖的区域覆盖。

该真空吸附工作台，通过将横向子吸附膜辊421和纵向子吸附膜辊422均设置为2个，可以将厚膜陶瓷基板固定在吸附通孔阵列110的任意位置。

实施例14。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例12相同，如图7所示，还具有如下特征：

横向子吸附膜辊421的数量设为2个，纵向子吸附膜辊422 的数量设为1个。

该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其使用方式是这样的：

首先，将厚膜陶瓷基板横向或纵向置于真空吸附通孔阵列110 的左沿或右沿；

其次，将两个横向子吸附膜辊421分别滑动至吸附通孔阵列 110上下两端；

再次，将横向子吸附膜辊421的吸附膜410从轴420中拉伸出分别与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

继次，将单独的纵向子吸附膜辊422滑动至与厚膜陶瓷基板相对的位置；

最后，将纵向子吸附膜辊422的吸附膜410从轴420中拉伸出，与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

通过以上步骤，两个横向子吸附膜辊421和单独的纵向子吸附膜辊422的吸附膜410将吸附通孔阵列110中没有被厚膜陶瓷基板覆盖的区域完全覆盖。

该真空吸附工作台，通过将横向子吸附膜辊421的数量设为2 个，纵向子吸附膜辊422的数量设为1个，可以将厚膜陶瓷基板吸附在吸附通孔阵列110的左部或右部。

实施例15。

一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其他特征与实施例12相同，如图7所示，还具有如下特征：

横向子吸附膜辊421的数量设为1个，纵向子吸附膜辊422 的数量设为2个。

该多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其使用方式是这样的：

首先，将厚膜陶瓷基板横向或纵向置于真空吸附通孔阵列110 的上沿或者下沿；

其次，将单独的横向子吸附膜辊421滑动至吸附通孔阵列110 上端或者下端；

再次，将横向子吸附膜辊421的吸附膜410从轴420中拉伸出，与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

继次，将两个的纵向子吸附膜辊422滑动至与厚膜陶瓷基板相对的位置；

最后，将纵向子吸附膜辊422的吸附膜410从轴420中拉伸出，分别与厚膜陶瓷基板的侧壁抵接，此时吸附膜410的主体覆盖于吸附通孔阵列110；

通过以上步骤，单独的横向子吸附膜辊421和两个的纵向子吸附膜辊422的吸附膜410将吸附通孔阵列110中没有被厚膜陶瓷基板覆盖的区域完全覆盖。

该真空吸附工作台，通过将横向子吸附膜辊421的数量设为1 个，纵向子吸附膜辊422的数量设为2个，可以将厚膜陶瓷基板吸附在吸附通孔阵列110的上部或下部。

最后应当说明的是，以上实施例仅用以说明本实用新型的技术方案而非对本实用新型保护范围的限制，尽管参照较佳实施例对本实用新型作了详细说明，本领域的普通技术人员应当理解，可以对本实用新型技术方案进行修改或者等同替换，而不脱离本实用新型技术方案的实质和范围。

Claims (10)

1.一种多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：包括工作台主体、承载台主体和真空腔；

所述真空腔设于承载台主体和工作台主体之间；

所述工作台主体设有与真空腔连通的吸附通孔阵列；

所述吸附通孔阵列的表面覆盖有吸附调节件。

2.根据权利要求1所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：将所述吸附通孔阵列被所述吸附调节件覆盖的区域定义为调节面；

将所述吸附通孔阵列没有被所述吸附调节件覆盖的区域定义为吸附面；

厚膜陶瓷基板贴合于所述吸附面的部分或者全部区域。

3.根据权利要求1所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述工作台主体在与所述承载台主体在相对的一面设有凹槽，当所述工作台主体和所述承载台主体相贴合时，所述凹槽形成空腔；或者

所述承载台主体在与所述工作台主体相对的一面设有凹槽，当所述工作台主体和所述承载台主体相贴合时，所述凹槽形成空腔；或者

所述工作台主体相对所述承载台主体的一面设置有第一凹槽，所述承载台主体相对于所述工作台主体的一面设置有第二凹槽，所述第一凹槽与所述第二凹槽匹配，当所述工作台主体和所述承载台主体相贴合时，第一凹槽、第二凹槽整体形成空腔；

所述空腔通过真空通孔与真空泵连接形成所述真空腔。

4.根据权利要求1所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述吸附通孔阵列设有主吸附区、定位区和边界区；

所述主吸附区、所述定位区和所述边界区由内而外依次排列；或者

所述主吸附区、所述定位区和所述边界区由内而外依次排列构成最小吸附通孔阵列单元，最小吸附通孔阵列单元以矩阵式排列。

5.根据权利要求4所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述主吸附区由主吸附通孔以矩阵式排列构成；

所述定位区由定位吸附通孔构成，定位吸附通孔环绕在主吸附区外周并与主吸附通孔形成矩阵排列；

所述边界区由边界吸附通孔构成，边界吸附通孔环绕在定位区外周并同时与主吸附通孔、定位吸附通孔形成矩阵排列；

所述主吸附区、定位区、边界区的面积依次减小；

所述主吸附通孔为正多边形通孔或圆形通孔；

所述定位吸附通孔为直角通孔；

所述边界吸附通孔为长方形通孔；

所述主吸附通孔、定位吸附通孔和边界吸附通孔的直径范围是2～5mm，间距范围是4～10mm。

6.根据权利要求1所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述承载台主体在与工作台主体相贴合的位置设有吸附固定通孔，所述吸附固定通孔与所述真空腔连通；或者

所述工作台主体设有螺丝通孔，所述承载台主体设有与螺丝通孔相对的螺丝孔，所述螺丝通孔和螺丝孔通过插入螺钉将工作台主体和承载台主体固定连接。

7.根据权利要求1至6任意一项所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述吸附调节件设置有吸附膜辊，所述吸附膜辊是由吸附膜卷绕于轴所形成的结构；

所述轴设于工作台主体，所述吸附膜从所述轴拉伸出来覆盖于所述吸附通孔阵列。

8.根据权利要求7所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述工作台主体还固定有相互平行的第一导轨和第二导轨；

所述第一导轨和第二导轨分别设于吸附通孔阵列的两侧；

所述吸附膜辊设置有横向子吸附膜辊和纵向子吸附膜辊；

所述横向子吸附膜辊与第一导轨、第二导轨垂直，并且横向子吸附膜辊的两端分别滑动装配于第一导轨和第二导轨；

所述纵向子吸附膜辊与第一导轨、第二导轨同向，并且活动套设于第一导轨或第二导轨或者同时套设于第一导轨和第二导轨；

所述横向子吸附膜辊、纵向子吸附膜辊的数量分别设置为1至2个。

9.根据权利要求8所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述横向子吸附膜辊的横向轴的两端分别固定有滑轮，滑轮分别对应装配于第一导轨、第二导轨。

10.根据权利要求8所述的多规格通用式厚膜陶瓷基板真空吸附工作台，其特征在于：所述纵向子吸附膜辊的纵向轴为中空管，中空管活动套设于第一导轨或者第二导轨中的至少一个。

Images