CN218691192U - 一种用于微纳加工的匀胶机用托盘 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，涉及匀胶机用托盘设备技术领域，包括托盘主体，所述托盘主体的内底部通过轴承转动安装有转轴，所述转轴的上端设置有真空吸块，所述真空吸块的表面上开设有吸孔，所述真空吸块的底部设置有真空仓，所述转轴的上端固定连接于真空仓的底部，所述转轴的内部开设有气道，所述气道的上端连通于真空仓。本装置通过在真空吸块上开设多组吸孔，吸孔连通于真空仓，通过多点吸附对加工部件进行固定，既保证了对加工部件的固定能力，又避免加工部件单点受力导致损坏，同时多个吸孔分摊了真空仓的吸力，能够避免单点吸力过大吸入胶水造成堵塞的问题。

Description

一种用于微纳加工的匀胶机用托盘

技术领域

本实用新型涉及匀胶机用托盘设备技术领域，具体为一种用于微纳加工的匀胶机用托盘。

背景技术

旋转涂覆技术所使用的设备是匀胶机。匀胶机有很多种称谓，又称甩胶机、匀胶台、旋转涂胶机、旋转涂膜机、旋转涂层机、旋转涂布机、旋转薄膜机、旋转涂覆仪、旋转涂膜仪、匀膜机，总的来说，他们原理都是一样的，即在高速旋转的基片上，滴注各类胶液，利用离心力使滴在基片上的胶液均匀地涂覆在基片上，厚度视不同胶液和基片间的粘滞系数而不同，也和旋转速度及时间有关。

匀胶机的托盘是其重要的组成部件之一，传统的托盘采用真空管将加工部件吸附在吸块上，由于真空孔洞只有一个，仅能对加工部件的一个点进行吸附，为了避免部件在高速旋转中脱落，就需要强大的吸力，单点具有过大的吸力不仅容易对加工部件造成损坏，而且容易吸入涂覆用的胶水，导致真空管堵塞，因此我们需要提出一种用于微纳加工的匀胶机用托盘。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，本装置通过在真空吸块上开设多组吸孔，吸孔连通于真空仓，通过多点吸附对加工部件进行固定，既保证了对加工部件的固定能力，又避免加工部件单点受力导致损坏，同时多个吸孔分摊了真空仓的吸力，能够避免单点吸力过大吸入胶水造成堵塞的问题，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，包括托盘主体，所述托盘主体的内底部通过轴承转动安装有转轴，所述转轴的上端设置有真空吸块，所述真空吸块的表面上开设有吸孔，所述真空吸块的底部设置有真空仓，所述转轴的上端固定连接于真空仓的底部，所述转轴的内部开设有气道，所述气道的上端连通于真空仓，所述托盘主体的外壁下端设置有安装块。

优选的，所述安装块在托盘主体的外壁下端呈环绕设置，所述安装块上开设有安装孔。

优选的，所述吸孔在真空吸块上呈蜂窝状分布设置，所述吸孔连通于真空仓。

优选的，所述真空吸块上设置有防滑凸环，所述防滑凸环在真空吸块共设置有六组。

优选的，所述托盘主体的顶部卡接有顶盖，所述顶盖的内顶部开设有凹槽，所述凹槽的内部安装有远红外加热板，所述凹槽的底部嵌装有透明玻璃板。

优选的，所述顶盖的底部边缘设置有卡块，所述托盘主体的顶部边缘开设有卡槽，所述卡块和卡槽相适配。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型提供的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，通过在托盘主体的内底部转动安装转轴，转轴上端设置真空吸块，真空吸块上呈蜂窝状设置有吸孔，真空吸块底部设置真空仓，转轴内开设有与真空泵等真空设备对应的气道，真空吸块上设置多组防滑凸环，使用时，将托盘主体通过固定螺丝安装在匀胶机体上，采用真空法兰等连接件使转轴和真空设备以及匀胶机的电机轴进行连接，将加工部件放置于真空吸块上，启动真空设备，多组吸孔产生的吸力对加工部件进行固定，启动匀胶机进行胶水涂覆即可，本装置通过在真空吸块上开设多组吸孔，吸孔连通于真空仓，通过多点吸附对加工部件进行固定，既保证了对加工部件的固定能力，又避免加工部件单点受力导致损坏，同时多个吸孔分摊了真空仓的吸力，能够避免单点吸力过大吸入胶水造成堵塞的问题；

2、本实用新型提供的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，通过在托盘主体的顶部卡接有顶盖，顶盖内顶部设置凹槽，凹槽内部安装远红外加热板，凹槽底部安装透明玻璃板，对加工部件涂胶完成后合上顶盖，启动远红外加热板能够将加工部件上的胶水进行快速的烘干，便于后续的加工，提高了微纳米元件加工的效率，同时，区别于传统的热风烘干，能够避免气流对尚未凝固的胶水造成影响而产生次品的问题。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型真空吸块的结构示意图；

图3为本实用新型吸孔的结构示意图；

图4为本实用新型凹槽的结构示意图。

图中：1、托盘主体；2、转轴；3、真空吸块；4、吸孔；5、真空仓；6、气道；7、安装块；8、安装孔；9、防滑凸环；10、顶盖；11、凹槽；12、远红外加热板；13、透明玻璃板；14、卡块；15、卡槽。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：

一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，包括托盘主体1，托盘主体1的内底部通过轴承转动安装有转轴2，转轴2的上端设置有真空吸块3，真空吸块3的表面上开设有吸孔4，真空吸块3的底部设置有真空仓5，转轴2的上端固定连接于真空仓5的底部，转轴2的内部开设有气道6，气道6的上端连通于真空仓5，托盘主体1的外壁下端设置有安装块7。

安装块7在托盘主体1的外壁下端呈环绕设置，安装块7上开设有安装孔8，吸孔4在真空吸块3上呈蜂窝状分布设置，吸孔4连通于真空仓5，真空吸块3上设置有防滑凸环9，防滑凸环9在真空吸块3共设置有六组，托盘主体1的顶部卡接有顶盖10，顶盖10的内顶部开设有凹槽11，凹槽11的内部安装有远红外加热板12，凹槽11的底部嵌装有透明玻璃板13，顶盖10的底部边缘设置有卡块14，托盘主体1的顶部边缘开设有卡槽15，卡块14和卡槽15相适配。

本实用新型提供的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，通过在托盘主体1的内底部转动安装转轴2，转轴2上端设置真空吸块3，真空吸块3上呈蜂窝状设置有吸孔4，真空吸块3底部设置真空仓5，转轴2内开设有与真空泵等真空设备对应的气道6，真空吸块3上设置多组防滑凸环9，使用时，将托盘主体1通过固定螺丝安装在匀胶机体上，采用真空法兰等连接件使转轴2和真空设备以及匀胶机的电机轴进行连接，将加工部件放置于真空吸块3上，启动真空设备，多组吸孔4产生的吸力对加工部件进行固定，启动匀胶机进行胶水涂覆即可，本装置通过在真空吸块3上开设多组吸孔4，吸孔4连通于真空仓5，通过多点吸附对加工部件进行固定，既保证了对加工部件的固定能力，又避免加工部件单点受力导致损坏，同时多个吸孔4分摊了真空仓5的吸力，能够避免单点吸力过大吸入胶水造成堵塞的问题；

本实用新型提供的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，通过在托盘主体1的顶部卡接有顶盖10，顶盖10内顶部设置凹槽11，凹槽11内部安装远红外加热板12，凹槽11底部安装透明玻璃板13，对加工部件涂胶完成后合上顶盖10，启动远红外加热板12能够将加工部件上的胶水进行快速的烘干，便于后续的加工，提高了微纳米元件加工的效率，同时，区别于传统的热风烘干，能够避免气流对尚未凝固的胶水造成影响而产生次品的问题。

其中，本实用新型提供的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，远红外加热板12可设置为电压、功率采用单相220V/1-3Kw或单相380V/1-3Kw以及温控范围30℃-300℃的远红外加热板。

尽管上面已经示出和描述了本实用新型的实施方式，可以理解的是，上述实施方式是示例性的，不能理解为对本实用新型的限制，本领域的普通技术人员在本实用新型的范围内可以对上述实施方式进行变化、修改、替换和变型。

Claims (6)

1.一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，包括托盘主体(1)，其特征在于：所述托盘主体(1)的内底部通过轴承转动安装有转轴(2)，所述转轴(2)的上端设置有真空吸块(3)，所述真空吸块(3)的表面上开设有吸孔(4)，所述真空吸块(3)的底部设置有真空仓(5)，所述转轴(2)的上端固定连接于真空仓(5)的底部，所述转轴(2)的内部开设有气道(6)，所述气道(6)的上端连通于真空仓(5)，所述托盘主体(1)的外壁下端设置有安装块(7)。

2.根据权利要求1所述的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，其特征在于：所述安装块(7)在托盘主体(1)的外壁下端呈环绕设置，所述安装块(7)上开设有安装孔(8)。

3.根据权利要求1所述的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，其特征在于：所述吸孔(4)在真空吸块(3)上呈蜂窝状分布设置，所述吸孔(4)连通于真空仓(5)。

4.根据权利要求1所述的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，其特征在于：所述真空吸块(3)上设置有防滑凸环(9)，所述防滑凸环(9)在真空吸块(3)共设置有六组。

5.根据权利要求1所述的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，其特征在于：所述托盘主体(1)的顶部卡接有顶盖(10)，所述顶盖(10)的内顶部开设有凹槽(11)，所述凹槽(11)的内部安装有远红外加热板(12)，所述凹槽(11)的底部嵌装有透明玻璃板(13)。

6.根据权利要求5所述的一种用于微纳加工的匀胶机用托盘，其特征在于：所述顶盖(10)的底部边缘设置有卡块(14)，所述托盘主体(1)的顶部边缘开设有卡槽(15)，所述卡块(14)和卡槽(15)相适配。

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