CN218589868U - 一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置 - Google Patents

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许开华
李炳忠
卢重阳
朱丹丹
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Abstract

本实用新型公开了一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,包括反应釜(1)、浓密器(2),反应釜(1)与浓密器(2)通过管道连接;反应釜(1)加工有卸料口(5)、物料入口(9)、水进口(12),卸料口(5)连接有卸料管道;浓密器(2)的底部与反应釜(1)的上部通过回流管道连接;浓密器(2)加工有洗水溢流出口。洗涤方法包括以下步骤:将羟基氧化钴合成过程中的物料、纯水加入到反应釜中,搅拌得到浆料;浆料溢流到浓密器中进行浓密,得到羟基氧化钴浆料和上清液;开启回流管道上的离心泵,将羟基氧化钴浆料输送到反应釜中;重复上述步骤至反应釜内的浆料中的钠离子含量小于10mg/L。本实用新型效率高、成本低。

Description

一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置
技术领域
本实用新型属于羟基氧化钴合成技术领域,具体涉及一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置。
背景技术
羟基氧化钴的合成反应,一般是将氯化钴溶液与液碱进行反应,再通入空气使二价钴氧化的过程。羟基氧化钴合成反应的产物包括含羟基氧化钴和氯化钠的混合溶液,接下来需要对夹带氯化钠溶液的羟基氧化钴的混合溶液进行洗涤,使羟基氧化钴成品固基中的钠含量合格。现有合成羟基氧化钴的产线一般是使用压滤机进行机洗,即首先对浆料固液分离后,再对滤室中的滤饼通纯水进行洗涤。这种洗涤方式因滤饼本身的结实性,导致纯水渗入不充分,洗涤效果不稳定。
实用新型内容
针对现有技术中的问题,本实用新型提供一种高效、成本低的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置。
本实用新型采用以下技术方案:
一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述装置包括反应釜(1)、浓密器(2),反应釜(1)的上部加工有浆料溢流口(3),浓密器(2)的上部加工有浆料进口(4),浆料溢流口(3)与浆料进口(4)通过溢流管道(14)连接;反应釜(1)的底部加工有卸料口(5),卸料口(5)连接有卸料管道(13),卸料管道(13)上安装有阀门;浓密器(2)的底部加工有出料口(6),反应釜(1)的上部加工有回料口(7),出料口(6)与回料口(7)通过安装有离心泵的回流管道(15)连接;浓密器(2)加工有洗水溢流出口(8),反应釜(1)加工有物料入口(9)、水进口(12)。
根据上述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述洗水溢流出口(8)加工于所述浓密器(2)的上部。
根据上述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述物料入口(9)加工于所述反应釜(1)的顶部;所述水进口(12)加工于所述反应釜(1)的顶部。
根据上述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述反应釜(1)的顶部安装有电机(10),电机(10)与电源电连接;所述反应釜(1)的内部安装有搅拌器(11),搅拌器(11)的顶部与电机(10)电连接。
本实用新型的有益技术效果:本实用新型的装置将反应釜与浓密器组合进行洗涤,由反应釜的上方加入纯水,与含羟基氧化钴的物料进行搅拌混合,得到的浆料顺着反应釜的溢流口进入到浓密器中,羟基氧化钴浆料沉至浓密器的底部,羟基氧化钴浆料通过回流管道上的离心泵返至反应釜中;浓密器的上清液为氯化钠溶液,通过浓密器上部加工的洗水溢流出口外排。如此循环往复,含羟基氧化钴的物料通过不断在反应釜与浓密器之间循环,加入的纯水起到不断稀释的作用,使氯化钠溶液外排开路,达到洗涤的目的。
附图说明
图1为本实用新型装置的结构示意图。
具体实施方式
参见图1,本实用新型的一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,包括反应釜1、浓密器2,反应釜1的上部加工有浆料溢流口3,浓密器2的上部加工有浆料进口4,浆料溢流口3与浆料进口4通过溢流管道14连接;反应釜1的底部加工有卸料口5,卸料口5连接有卸料管道13,卸料管道13上安装有阀门;浓密器2的底部加工有出料口6,反应釜1的上部加工有回料口7,出料口6与回料口7通过安装有离心泵的回流管道15连接;浓密器2加工有洗水溢流出口8,优选的,洗水溢流出口8加工于所述浓密器2的上部。反应釜1加工有物料入口9、水进口12,优选的,物料入口9加工于所述反应釜1的顶部;所述水进口12加工于所述反应釜1的顶部。反应釜1的顶部安装有电机10,电机10与电源电连接;所述反应釜1的内部安装有搅拌器11,搅拌器11的顶部与电机10电连接。
本实用新型的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置的洗涤方法,包括以下步骤:
步骤(一):将羟基氧化钴合成过程中的物料通过物料入口9加入到反应釜1中,将纯水通过水进口12加入到反应釜1中,开启搅拌器11进行搅拌,得到浆料;羟基氧化钴合成过程中的物料中包含羟基氧化钴30g/L-50g/L、钠离子30g/L-40g/L、氯离子60g/L-70g/L。羟基氧化钴合成过程中的物料与纯水的体积比为1:20-30。
步骤(二):反应釜1中的浆料通过浆料溢流口3溢流到浓密器2中进行浓密,得到羟基氧化钴浆料和上清液,上清液通过洗水溢流出口8溢流外排。
步骤(三):开启回流管道15上的离心泵,将羟基氧化钴浆料输送到反应釜1中;重复步骤(一)到步骤(三)至反应釜1内的浆料中的钠离子含量小于10mg/L,得到洗涤后的含羟基氧化钴的物料。
下面通过实施例对本实用新型的技术方案进行进一步的解释说明。
实施例1
步骤(一):将羟基氧化钴合成过程中的物料通过物料入口9加入到反应釜1中,将纯水通过水进口12加入到反应釜1中,开启搅拌器11进行搅拌,得到浆料;羟基氧化钴合成过程中的物料中包含羟基氧化钴30g/L、钠离子30g/L、氯离子60g/L。羟基氧化钴合成过程中的物料与纯水的体积比为1:20。
步骤(二):反应釜1中的浆料通过浆料溢流口3溢流到浓密器2中进行浓密,得到羟基氧化钴浆料和上清液,上清液通过洗水溢流出口8溢流外排。
步骤(三):开启回流管道15上的离心泵,将羟基氧化钴浆料输送到反应釜1中;重复步骤(一)到步骤(三)至反应釜1内的浆料中的钠离子含量小于10mg/L,得到洗涤后的含羟基氧化钴的物料。实施例1能够有效去除羟基氧化钴合成过程中的物料中的钠离子及氯离子。
实施例2
步骤(一):将羟基氧化钴合成过程中的物料通过物料入口9加入到反应釜1中,将纯水通过水进口12加入到反应釜1中,开启搅拌器11进行搅拌,得到浆料;羟基氧化钴合成过程中的物料中包含羟基氧化钴40g/L、钠离子35g/L、氯离子65g/L。羟基氧化钴合成过程中的物料与纯水的体积比为1:25。
步骤(二):反应釜1中的浆料通过浆料溢流口3溢流到浓密器2中进行浓密,得到羟基氧化钴浆料和上清液,上清液通过洗水溢流出口8溢流外排。
步骤(三):开启回流管道15上的离心泵,将羟基氧化钴浆料输送到反应釜1中;重复步骤(一)到步骤(三)至反应釜1内的浆料中的钠离子含量小于10mg/L,得到洗涤后的含羟基氧化钴的物料。实施例2能够有效去除羟基氧化钴合成过程中的物料中的钠离子及氯离子。
实施例3
步骤(一):将羟基氧化钴合成过程中的物料通过物料入口9加入到反应釜1中,将纯水通过水进口12加入到反应釜1中,开启搅拌器11进行搅拌,得到浆料;羟基氧化钴合成过程中的物料中包含羟基氧化钴50g/L、钠离子40g/L、氯离子70g/L。羟基氧化钴合成过程中的物料与纯水的体积比为1:30。
步骤(二):反应釜1中的浆料通过浆料溢流口3溢流到浓密器2中进行浓密,得到羟基氧化钴浆料和上清液,上清液通过洗水溢流出口8溢流外排。
步骤(三):开启回流管道15上的离心泵,将羟基氧化钴浆料输送到反应釜1中;重复步骤(一)到步骤(三)至反应釜1内的浆料中的钠离子含量小于10mg/L,得到洗涤后的含羟基氧化钴的物料。实施例3能够有效去除羟基氧化钴合成过程中的物料中的钠离子及氯离子。

Claims (4)

1.一种羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述装置包括反应釜(1)、浓密器(2),反应釜(1)的上部加工有浆料溢流口(3),浓密器(2)的上部加工有浆料进口(4),浆料溢流口(3)与浆料进口(4)通过溢流管道(14)连接;反应釜(1)的底部加工有卸料口(5),卸料口(5)连接有卸料管道(13),卸料管道(13)上安装有阀门;浓密器(2)的底部加工有出料口(6),反应釜(1)的上部加工有回料口(7),出料口(6)与回料口(7)通过安装有离心泵的回流管道(15)连接;浓密器(2)加工有洗水溢流出口(8),反应釜(1)加工有物料入口(9)、水进口(12)。
2.根据权利要求1所述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述洗水溢流出口(8)加工于所述浓密器(2)的上部。
3.根据权利要求1所述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述物料入口(9)加工于所述反应釜(1)的顶部;所述水进口(12)加工于所述反应釜(1)的顶部。
4.根据权利要求1所述的羟基氧化钴合成过程中的物料的洗涤装置,其特征在于,所述反应釜(1)的顶部安装有电机(10),电机(10)与电源电连接;所述反应釜(1)的内部安装有搅拌器(11),搅拌器(11)的顶部与电机(10)电连接。
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