CN218174832U

CN218174832U - 一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃及中空玻璃结构

Info

Publication number: CN218174832U
Application number: CN202221332057.8U
Authority: CN
Inventors: 李文君; 刘自乾; 潘杰
Original assignee: Hunan Qibin Energy Saving Glass Co ltd
Current assignee: Hunan Qibin Energy Saving Glass Co ltd
Priority date: 2022-05-30
Filing date: 2022-05-30
Publication date: 2022-12-30
Anticipated expiration: 2032-05-30

Abstract

本实用新型公开一种可钢化离线Low‑E镀膜玻璃及中空玻璃结构，可钢化离线Low‑E镀膜玻璃包括玻璃基板以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层、阻挡保护层、第二复合层以及顶层保护膜层，其中，所述顶层保护膜层包括氧化锆膜层，由于氧化锆膜层平整光滑致密，能更好地阻挡水蒸气、硫化物、氧化物浸蚀，能更好地保护阻挡保护层不被氧化，且氧化锆膜层强度高，能提高可钢化离线Low‑E镀膜玻璃后续加工性能。

Description

一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃及中空玻璃结构

技术领域

本实用新型涉及低辐射镀膜玻璃技术领域，具体涉及一种可钢化离线 Low-E镀膜玻璃及中空玻璃结构。

背景技术

可钢化Low-E离线镀膜玻璃，在玻璃表面镀上多层金属或其他化合物组成的膜系产品。其镀膜层具有对可见光高透过及对中远红外线高反射的特性，使其与普通玻璃及传统的建筑用镀膜玻璃相比，具有优异的隔热效果和良好的透光性。玻璃是重要的建筑材料，在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑其美学和外观特征外，更注重其热量控制、制冷成本和内部阳光投射舒适平衡等问题。市场对离线可钢化Low—E绿色节能玻璃需求越来越大，对离线可钢化Low—E可加工性能要求越来越高，同时对绿色节能玻璃的使用寿命要求也相应提高。

离线Low—E玻璃膜面较软，在受到潮气和某些氧化剂的侵袭时会缓慢氧化，且膜层牢固性差，几乎不能裸露保存，必须在很短的时间内加工成中空玻璃，在组成中空玻璃时必须去掉边部镀层。由于中空玻璃的弱呼吸作用，水蒸气、硫化物、氧化物进入空腔后，会导致离线Low-E玻璃隔热性能逐渐丧失，外观发乌、变色、逐渐出现大量霉点。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃及中空玻璃结构，旨在提高离线可钢化Low—E镀膜玻璃可加工性，提高产品抗氧化性能，提高产品使用寿命。

为实现上述目的，本实用新型提出一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃，包括玻璃基板以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层、阻挡保护层、第二复合层以及顶层保护膜层，其中，所述顶层保护膜层包括氧化锆膜层。

可选地，所述第一复合层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第一氮化硅膜层和第一陶瓷氧化锌膜层；和/或，

所述氧化锆膜层的厚度为2～3nm；和/或，

所述氧化锆膜层具有立方晶相。

可选地，所述第一镍铬合金膜层的厚度为2～3nm；和/或，

所述金属银膜层的厚度为7～12nm；和/或，

第二镍铬合金膜层的厚度为2～3nm。

可选地，所述第一氮化硅膜层的厚度为25～35nm。

可选地，所述第一陶瓷氧化锌膜层的厚度为8～15nm。

可选地，所述阻挡保护层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第一镍铬合金膜层、金属银膜层以及第二镍铬合金膜层。

可选地，所述第二复合层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第二陶瓷氧化锌膜层和第二氮化硅膜层。

可选地，所述第二陶瓷氧化锌膜层的厚度为8～15nm；和/或，

所述第二氮化硅膜层的厚度为30～45nm。

可选地，所述复合膜的厚度为85～130nm。

为实现上述目的，本实用新型提出一种中空玻璃结构，包括如上述所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，所述可钢化离线Low-E镀膜玻璃包括：

玻璃基板以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层、阻挡保护层、第二复合层以及顶层保护膜层，其中，所述顶层保护膜层包括氧化锆膜层。

本实用新型提供的技术方案中，所述可钢化离线Low-E镀膜玻璃包括基板以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层、阻挡保护层、第二复合层以及顶层保护膜层，且所述顶层保护膜层包括氧化锆膜层，由于氧化锆膜层平整光滑致密，能更好地阻挡水蒸气、硫化物、氧化物浸蚀，能更好地保护阻挡保护层不被氧化，且氧化锆膜层强度高，能提高可钢化离线Low-E镀膜玻璃后续加工性能。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅为本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他相关的附图。

图1为本实用新型提供的可钢化离线Low-E镀膜玻璃的一实施例的结构示意图；

图2为现有技术中的氧化锆膜层的显微照片示意图；

图3为图1中的氧化锆膜层的显微照片示意图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	可钢化离线Low-E镀膜玻璃	32	金属银膜层
1	玻璃基板	33	第二镍铬合金膜层
				2	第一复合层	4	第二复合层
21	第一氮化硅膜层	41	第二陶瓷氧化锌膜层
				22	第一陶瓷氧化锌膜层	42	第二氮化硅膜层
3	阻挡保护层	5	顶层保护膜层
				31	第一镍铬合金膜层	51	氧化锆膜层

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

为使本实用新型实施例的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述。实施例中未注明具体条件者，按照常规条件或制造商建议的条件进行。所用试剂或仪器未注明生产厂商者，均为可以通过市售购买获得的常规产品。另外，全文中出现的“和 /或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B 方案、或A和B同时满足的方案。此外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

为解决离线Low-E玻璃隔热性能逐渐丧失，外观发乌、变色、逐渐出现大量霉点的问题，本实用新型提出一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃，图1所示为本实用新型提供的可钢化离线Low-E镀膜玻璃的一实施例。参阅图1所示，在本实施例中，所述可钢化离线Low-E镀膜玻璃包括以下步骤：

参照图1，所述可钢化离线Low-E镀膜玻璃100包括玻璃基板1以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层2、阻挡保护层3、第二复合层4以及顶层保护膜层5，其中，所述顶层保护膜层5包括氧化锆膜层。

本实用新型提供的技术方案中，所述可钢化离线Low-E镀膜玻璃100包括基板以及设于所述玻璃基板1上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板1一侧的第一复合层2、阻挡保护层3、第二复合层4以及顶层保护膜层5，且所述顶层保护膜层5包括氧化锆膜层51，由于氧化锆膜层 51平整光滑致密，能更好地阻挡水蒸气、硫化物、氧化物浸蚀，能更好地保护阻挡保护层3不被氧化，且氧化锆膜层51强度高，能提高可钢化离线Low-E镀膜玻璃100后续加工性能。

具体地，所述氧化锆膜层51的厚度为2～3nm，能够与所述第二复合层4 很好地结合，同时可保证整个膜层的透光性。

进一步地，所述氧化锆膜层51具有立方晶相，使得所述氧化锆膜层51 更加平整光滑致密，能更好地阻挡水蒸气、硫化物、氧化物浸蚀，能更好地保护可钢化离线Low-E镀膜玻璃100的阻挡保护层3不被氧化，膜层强度更高，能提高可钢化离线Low-E镀膜玻璃100后续加工性能。能极大改善氧化锆膜层51的性能。

具体地，所述阻挡保护层3包括沿背离所述玻璃基板1方向依次设置的第一镍铬合金膜层31、金属银膜层32以及第二镍铬合金膜层33，采用膜层对称结构设置，膜层受热后热膨胀受力一致，膜层结构不易被破坏。

需要说明的是，上述实施例中，所述氧化锆膜层51的厚度、所述氧化锆膜层51具有立方晶相以及所述阻挡保护层3的具体结构的特征可以择一满足，也可以同时满足，当同时满足时，效果更好。

进一步地，在本申请的实施例中，所述第一镍铬合金膜层31的厚度为2～ 3nm，如此，所述第一镍铬合金膜层31既能很好与所述第一复合层2形成牢固的结合力，又能与金属银膜层32形成牢固的结合力，厚度为2～3nm时两者结合力效果最好，同时可保证整个膜层的透光性能。当然，在其他实施例中，所述第一镍铬合金膜层31的厚度可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

进一步地，在本申请的实施例中，所述金属银膜层32的厚度为7～12nm，如此，金属银膜层32具有低辐射功能，对大于1000nm的红外光谱具有较强的反思作用，从而减少热烈穿透金属银膜层32，起到保温隔热的作用，厚度为7～12nm时，辐射率低于0.15，既能保证对红外线的反射功能，又具有较好的可见光透过率。当然，在其他实施例中，所述金属银膜层32的厚度可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

进一步地，在本申请的实施例中，第二镍铬合金膜层33的厚度为2～3nm，如此，所述第二镍铬合金膜层33既能很好与所述第二复合层4形成牢固的结合力，又能与金属银膜层32形成牢固的结合力，厚度为2～3nm时两者结合力效果最好，也可保证整个膜层的透光性能。同时能够有效抵挡加热时，氧气对于金属银功能层的氧化作用。当然，在其他实施例中，所述第二镍铬合金膜层33的厚度可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

需要说明的是，上述实施例中，所述第一镍铬合金膜层31的厚度、所述金属银膜层32的厚度以及所述第二镍铬合金膜层33的厚度可以同时满足，也可以择一设置，当上述三者同时满足时，效果最好。

具体地，所述第一复合层2包括沿背离所述玻璃基板1方向依次设置的第一氮化硅膜层21和第一陶瓷氧化锌膜层22，如此设置，所述第一氮化硅膜层21起到与玻璃基本形成牢固的硅氧四面体作用，保证膜层与玻璃基板1的结合力牢固，同时能与第一陶瓷氧化锌膜层22形成较好结合力，保证了最终产品的膜层牢固度，及较长的使用寿命。

进一步地，在本申请的实施例中，所述第一氮化硅膜层21的厚度为25～ 35nm，在厚度为25～35nm时结合力最好，当然，在其他实施例中，所述第一化硅膜层的厚度可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

进一步地，在本申请的实施例中，所述第一陶瓷氧化锌膜层22的厚度为 8～15nm，如此，所述第一陶瓷氧化锌膜层22致密平整，能保证阻挡保护层 3形成平整膜层，厚度为8～15nm时，形成基础膜层平整，又能与第一氮化硅膜层21、第一镍铬合金膜层31形成较强的结合力，从而提供产品的加工性能。当然，在其他实施例中，所述第一陶瓷氧化锌膜层22的厚度可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

需要说明的是，所述第一陶瓷氧化锌膜层22还能保证沉积金属银膜层的平整性，从而形成完整的金属银膜层22，提高金属银膜层22的低辐射性能。

需要说明的是，上述实施例中，所述第一氮化硅膜层21的厚度和所述第一陶瓷氧化锌膜层22的厚度可以同时满足，也可以择一设置，当上述两者者同时满足时，效果最好。

具体地，所述第二复合层4包括沿背离所述玻璃基板1方向依次设置的第二陶瓷氧化锌膜层41和第二氮化硅膜层42，如此，能有效提高产品钢化时的耐热性能，阻挡氧气氧化功能银膜，并能阻挡外界酸碱物质的腐蚀，从而提高产品使用寿命。

进一步地，在本申请的实施例中，所述第二陶瓷氧化锌膜层41的厚度为 8～15nm，如此，所述第二陶瓷氧化锌膜层41致密平整，能保证所述阻挡保护层形成平整膜层，保证沉积所述阻挡保护层3的平整性，厚度为8～15nm 时，形成基础膜层平整，又能与第二氮化硅膜层42、第二镍铬合金膜层33形成较强的结合力，从而提供产品的加工性能。当然，在其他实施例中，所述第二陶瓷氧化锌膜层41的厚度可以同时满足，也可以择一设置，当上述两者者同时满足时，效果最好。

需要说明的是，第二陶瓷氧化锌膜层41致密平整，能保证金属银膜层形成平整膜层，保证沉积金属银膜层的平整性，从而形成完整的金属银膜层，提高银膜的低辐射性能。

进一步地，在本申请的实施例中，所述第二氮化硅膜层42的厚度为30～ 45nm，如此，所述第二氮化硅膜层42起到与玻璃基本形成牢固的硅氧四面体作用，保证膜层与玻璃基本的结合力牢固，厚度为30～40nm时结合力最好，能与第二陶瓷氧化锌膜层42形成较好结合力，保证了最终产品的膜层牢固度，及较长的使用寿命。当然，在其他实施例中，所述第二氮化硅膜层42的厚度可以同时满足，也可以择一设置，当上述两者者同时满足时，效果最好。

具体地，在本申请的实施例中，所述复合膜的厚度为85～130nm，如此，保证了最终产品的膜层牢固度，及较长的使用寿命。当然，在其他实施例中，所述复合膜的厚度可以根据需要进行设定，具体地，本申请对此不作限定。

具体地，本申请中氧化锆膜层51的制备为采用真空磁控溅射镀膜工艺，在高真空背景真空度下(低于5×10^-6mbar)，采用中频双旋转阴极，利用第一高电压电离工艺气体轰击金属锆靶材表面，在所述第二复合层4的表面沉积形成氧化锆膜层51，具体地，所述第一高电压电离工艺气体的流量为 1200sccm～1800sccm，所述第一高电压电离工艺气体包括氩气、氧气及氮气，且氩气：氧气＝2:3；氮气的流量为20sccm～100sccm，所述氩气的流量与所述氧气的流量比不大于2/3。

进一步地，例如，在一个实施例中，所述氩气为500sccm，氧气为750sccm，氮气为100sccm，在另外一个实施例中，所述氩气为460sccm，氧气为690sccm，氮气为50sccm，具体地，本申请对此不作限定。

通过上述氧化锆膜层51的制备方法制备出的氧化锆膜层51，由于反应溅射制备氧化锆膜层51过程供应氮气，氮气作为辅助气体有利于膜层晶型转变为氧化锆立方晶相，且随着氮气供给量的增加，形成氧化锆立方晶相显著增加。对比图2和图3，有氮气参与的反应磁控溅射膜层形貌看出，其更加平整光滑致密，能更好地阻挡水蒸气、硫化物、氧化物浸蚀，能更好地保护可钢化离线Low-E镀膜玻璃100的阻挡保护层3不被氧化，膜层强度更高，能提高可钢化离线Low-E镀膜玻璃100后续加工性能。能极大改善氧化锆膜层51 的性能。

具体地，本申请中可钢化离线Low-E镀膜玻璃100的制备包括：将所述玻璃基板1置于高真空磁控溅射镀膜设备内，通过第二高电压电离工艺气体轰击硅铝靶材表面，以在所述玻璃基板1上溅射形成第一氮化硅膜层21，其中，所述第二高电压电离工艺气体包括氩气和氮气，所述氩气和所述氮气的流量比为6～8:8～10，溅射气压为2.5～8.5×10^-3mbar，功率为60Kw，所述第一氮化硅膜层21的厚度为25～35nm；通过第三高电压电离工艺气体轰击陶瓷氧化锌靶材表面，以在所述第一氮化硅膜层21上溅射形成第一陶瓷氧化锌膜层22，其中，所述第三高电压电离工艺气体包括氩气和氧气，所述氩气和所述氧气的流量比为13～15：0.5～2，溅射气压为2.5～8.5×10^-3mbar，功率为 60Kw，所述第一陶瓷氧化锌膜层22的厚度为8～15nm；通过第四高电压电离工艺气体轰击镍铬靶材表面，以在所述第一陶瓷氧化锌膜层22上溅射形成第一镍铬合金膜层31，其中，所述第四高电压电离工艺气体包括氩气，溅射气压为2.5～5.5×10^-3mbar，功率为5Kw，所述第一镍铬合金膜层31的厚度为 2～3nm；通过第五高电压电离工艺气体轰击银靶材表面，以在所述第一镍铬合金膜层31上溅射形成金属银膜层32，其中，所述第五高电压电离工艺气体包括氩气，溅射气压为2.5～5.5×10^- ³mbar，功率为4Kw，所述金属银膜层32 的厚度为7～12nm；通过第六高电压电离工艺气体轰击镍铬靶材表面，以在所述金属银膜层32上溅射形成第二镍铬合金膜层33，其中，所述第六高电压电离工艺气体包括氩气，溅射气压为2.5～5.5×10^-3mbar，功率为5Kw，所述第二镍铬合金膜层33的厚度为2～3nm；通过第七高电压电离工艺气体轰击氧化锌铝靶材表面，以在所述第二镍铬合金膜层33上溅射形成第二陶瓷氧化锌膜层41，其中，所述第七高电压电离工艺气体包括氩气，溅射气压为2.5～ 8.5×10^-3mbar，功率为60Kw，所述第二陶瓷氧化锌膜层41的厚度为8～15nm；通过第八高电压电离工艺气体轰击硅铝靶材表面，以在所述第二陶瓷氧化锌膜层41上溅射形成第二氮化硅膜层42，其中，所述第八高电压电离工艺气体包括氩气和氮气，所述氩气和所述氮气的流量比为6～8：7～10，溅射气压为 2.5～8.5×10-3mbar，功率为60Kw，所述第二氮化硅膜层42的厚度为30～ 45nm；通过第一高电压电离工艺气体轰击金属锆靶材表面，以在所述第二氮化硅膜层42上溅射形成氧化锆膜层51，其中，所述第一高电压电离工艺气体包括氩气、氧气及氮气，功率为60Kw，所述氩气的流量为30-100sccm，所述氩气的流量与所述氧气的流量比不大于2/3，所述氧化锆膜层51的厚度为2～3nm。

进一步地，在所述玻璃基板1上溅射沉积第一氮化硅膜层21的步骤中：

靶材数量：交流旋转靶2～3个，氩气和氮气的比例为7:9，镀膜厚度为 26nm。

进一步地，在第一氮化硅膜层21上溅射沉积第一陶瓷氧化锌膜层22的步骤中：

靶材数量：交流旋转靶1个，氩气和氧气的比例为14:1，镀膜厚度为 12nm。

进一步地，在第一陶瓷氧化锌膜层22上溅射沉积第一镍铬合金膜层31 的步骤中：

靶材数量：直流平面靶1个；所述第四高电压电离工艺气体为纯氩气，镀膜厚度为2.2nm。

进一步地，在第一镍铬合金膜层31上溅射沉积金属银膜层32的步骤中：

靶材数量：直流平面靶1个；所述第五高电压电离工艺气体为纯氩气，镀膜厚度为7.5nm；

进一步地，在金属银膜层32上溅射沉积第二镍铬合金膜层33的步骤中：

靶材数量：直流平面靶1个；靶材配置为镍铬(NiCr)；所述第六高电压电离工艺气体为纯氩气，镀膜厚度为2.3nm；

进一步地，在第二镍铬合金膜层33上溅射沉积第二陶瓷氧化锌膜层41 的步骤中：

靶材数量：交流旋转1个；所述第七高电压电离工艺气体为纯氩气，镀膜厚度为12nm；

进一步地，在第二陶瓷氧化锌膜层41上溅射沉积第二氮化硅膜层42的步骤中：

靶材数量：交流旋转靶2～3个；所述第八高电压电离工艺气体中氩气和氮气的比例为7:9，镀膜厚度为34.5nm；

进一步地，在第二氮化硅膜层42上溅射沉积氧化锆膜层51的步骤中：

靶材数量：交流旋转靶1～2个，第一高电压电离工艺气体中氩气和氧气的比例2:3，镀膜厚度为2.2nm。

综上所述，可钢化离线Low-E镀膜玻璃100的复合膜的总厚度控制在 98.7nm之间，溅射室传动走速控制在3.0～3.5m/min。

所得产品试验结果：

钢化前后颜色对比

Datacolor 850测量单片值(6mm)

具体地，上述表格中，T为可见光透射率，a是X向颜色坐标，越正颜色越红；越负颜色越绿，b是Y向颜色坐标，越正颜色越黄；越负颜色越兰，L 表示玻璃表面的明亮程度。对比上述表格中的数值，可知钢化前后两款膜系颜色变化较小，室外观察肉眼很难察觉。

钢化前后性能对比

具体地，上述表格中，Tvis为可见光透射率，Rfvis可见光镀膜面反射率， Rbvis为可见光玻璃面反射率，Tsol为太阳能透过率，Rfsol为太阳能镀膜面反射率，Rbsol为太阳能玻璃面反射率。本次检测结果以美标NFRC 100-2010 为标准，检测光谱范围为250nm～25000nm，检测仪器为Lambda 950和 Frontier FT-IR。

附着力实验，清洗机洗刷后拉到室外或者灯箱前，检查膜面有无刷伤、脱膜等异常情况。分别使用DOW CORNING 982结构胶、SILANDE MF881 结构胶与Low-E膜层附着力试验，48小时后无法揭起，附着力良好。

抗氧化实验，车间放置氧化时间，每24小时一次观察一次,保持168小时未氧化。

室外暴露试验，将此Low-E结构镀膜玻璃放置室外日晒雨淋60天膜层无氧化、无脱膜。

综上所述，此款结本实用新型的可钢化离线Low-E镀膜玻璃可不除膜使用，膜层附着力强、抗氧化力强、耐候性强，产品使用寿命得到较大提高。

本实用新型还提出一种中空玻璃结构，所述中空玻璃结构包括如上述所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，所述中空玻璃结构采用了上述实施例全部的技术方案，因此同样具有上述实施例的技术方案所带来的技术效果，在此不再一一赘述。

需要说明的是，所述中空玻璃结构为6C Low-E+12A+6C中空，具体地，所述中空玻璃为6mm厚钢化Low-E玻璃+12mm厚空气层+6mm厚钢化玻璃当然，在其他实施例中，所述中空玻璃结构可以根据需要进行选定，本申请对此不作限定。

以上仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims

1.一种可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，包括玻璃基板以及设于所述玻璃基板上的复合膜，所述复合膜包括依次层叠设置于所述玻璃基板一侧的第一复合层、阻挡保护层、第二复合层以及顶层保护膜层，其中，所述顶层保护膜层包括氧化锆膜层；

其中，所述第一复合层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第一氮化硅膜层和第一陶瓷氧化锌膜层；

所述阻挡保护层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第一镍铬合金膜层、金属银膜层以及第二镍铬合金膜层；

所述第二复合层包括沿背离所述玻璃基板方向依次设置的第二陶瓷氧化锌膜层和第二氮化硅膜层。

2.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，

所述氧化锆膜层的厚度为2～3nm；和/或，

所述氧化锆膜层为具有立方晶相的氧化锆膜层。

3.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一镍铬合金膜层的厚度为2～3nm；和/或，

所述金属银膜层的厚度为7～12nm；和/或，

所述第二镍铬合金膜层的厚度为2～3nm。

4.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一氮化硅膜层的厚度为25～35nm。

5.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第一陶瓷氧化锌膜层的厚度为8～15nm。

6.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述第二陶瓷氧化锌膜层的厚度为8～15nm；和/或，

所述第二氮化硅膜层的厚度为30～45nm。

7.如权利要求1所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃，其特征在于，所述复合膜的厚度为85～130nm。

8.一种中空玻璃结构，其特征在于，包括如权利要求1至7任意一项所述的可钢化离线Low-E镀膜玻璃。