CN218089368U

CN218089368U - 一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃

Info

Publication number: CN218089368U
Application number: CN202220666505.1U
Authority: CN
Inventors: 庄宇; 陈波
Original assignee: Shanghai Yaohua Pilkington Glass Group Co ltd; SHANGHAI YAOPI ENGINEERING GLASS CO LTD
Current assignee: Shanghai Yaohua Pilkington Glass Group Co ltd; SHANGHAI YAOPI ENGINEERING GLASS CO LTD
Priority date: 2022-03-24
Filing date: 2022-03-24
Publication date: 2022-12-20
Anticipated expiration: 2032-03-24

Abstract

本实用新型提供了一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，所述可异地加工的中性色双银低辐射玻璃包括玻璃基底，所述玻璃基底的表面依次层叠有第一复合层、非金属调色层和第二复合层，所述非金属调色层包括硅单质层或硼单质层。本实用新型提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，通过设置非金属调色层可以有效调控透视颜色，同时通过第一复合层、非金属调色层和第二复合层之间的相互作用，在实现了先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证了双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

Description

一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃

技术领域

本实用新型属于镀膜玻璃技术领域，尤其涉及一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃。

背景技术

双银低辐射玻璃(双银Low-E玻璃)可以降低玻璃表面辐射率、提高玻璃对光谱的选择性，并且具有双向节能效果，在生活中的应用十分广泛，其通常采用先钢化后镀膜的生产方式，但是此种方式生产出来的双银Low-E玻璃均匀性不好，边缘效应严重，并且成本较高。

目前，采用可先镀膜后钢化的生产方式得到的可异地加工的双银Low-E玻璃具有加工方便，节能指标优异，可生产弯钢化产品以及操作方便等优点，广泛应用于建筑节能材料领域。然而，相比传统生产方式制备得到的双银Low-E玻璃，可异地加工的双银Low-E玻璃的透视颜色较深，对应玻璃透视颜色的红绿值(at)和黄蓝值值(bt)较负。

CN111138088A公开了一种双银玻璃，所述双银玻璃包括玻璃基底和依次位于玻璃基底上的第一复合介质层、第一种子层、第一功能层、第一保护层、第二复合介质层、第二种子层、第二功能层、第二保护层和第三复合介质层，其中，复合介质层均包括上子介质层、中间层和上子介质层。该双银玻璃通过双复合介质层的膜结构，可调节各层对应不同的光谱波段的吸收强度，提升双银玻璃的光学性能。

CN201817402U公开了一种可异地加工的双银低辐射玻璃，所述双银低辐射玻璃包括浮法玻璃，自浮法玻璃向外依次包括电介质层、电介质层、保护层、Ag层、保护层、隔层电介质层、保护层、Ag层、保护层、电介质层和电介质层，该双银低辐射玻璃实现了先镀膜后钢化的加工方式，并且质量可靠、具有较好隔热保温效果。

CN206157059U公开了一种中性色高透光双银低辐射镀膜玻璃，包括玻璃基片和低辐射膜层，所述低辐射膜层从玻璃基片表面开始依次为：第一介质组合层、第一红外反射层、第一金属保护层、第二介质组合层、第二红外反射层、第二阻挡层和第三介质层；其中，第一介质组合层由依次设置的氮化硅层和氧化铋层构成；第一金属保护层由依次设置的铜层和镍铬合金层构成；第二介质组合层由依次设置的氮化硅层、氧化锌锡层和氧化锌铝层构成；第二阻挡层为陶瓷氧化锌铝层；第三介质层为氮化硅层。该双银低辐射玻璃该可见光透过率高，光热比高，保温隔热效果显著。

上述文献均对双银低辐射玻璃的光学性能进行了改进和优化，但是均未能够同时实现双银低辐射玻璃的可异地加工和透过颜色呈中性色外观的效果。因此，亟需设计一种新型的双银低辐射玻璃。

实用新型内容

针对现有技术存在的不足，本实用新型的目的在于提供一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，通过设置非金属调色层可以有效调控透视颜色，从而能够在实现先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

为达此目的，本实用新型采用以下技术方案：

本实用新型提供了一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，所述可异地加工的中性色双银低辐射玻璃包括玻璃基底，所述玻璃基底的表面依次层叠有第一复合层、非金属调色层和第二复合层，所述非金属调色层包括硅单质层或硼单质层。

采用先镀膜后钢化制备双银低辐射玻璃时，钢化热处理后的膜层易氧化，易脱膜，并且透视颜色较深，趋于蓝色或绿色，与中性色相差较大。本实用新型中通过设置非金属调色层，可以有效改善双银低辐射玻璃的透视颜色，这是由于非金属调色层中的硅单质层或硼单质层可以吸收蓝色和绿色，调控整个膜层的透视颜色，从而使得钢化热处理后的透视颜色仍趋向于中性色；同时，通过第一复合层、非金属调色层和第二复合层之间的相互作用有效避免了钢化热处理后膜层易氧化和易脱落的问题，从而实现了双银低辐射玻璃的可异地加工和透过颜色呈中性色外观的技术效果。

本实用新型中的双银低辐射玻璃采用磁控溅射工艺制备得到，其中在镀制非金属调色层时，溅射气体Ar气流量较大，从而释放其膜层应力，避免产生龟裂现场，一般Ar气流量优选为900-1200sccm；此外，非金属调色层优选为硅单质层。

本实用新型提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，通过设置非金属调色层可以有效调控透视颜色，同时通过第一复合层、非金属调色层和第二复合层之间的相互作用，在实现了先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证了双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述非金属调色层的厚度为1～5nm，例如可以是1nm、1.5nm、2nm、2.5nm、3nm、3.5nm、4nm、4.5nm或5nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述非金属调色层的厚度为1～4nm，例如可以是1nm、1.3nm、1.5nm、1.8nm、2nm、2.3nm、2.5nm、2.7nm、3nm、3.2nm、3.5nm、3.8nm或4nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第一复合层包括在所述玻璃基底表面依次层叠的第一介质层、第二介质层、第一功能层、第一金属阻挡层、第三介质层和第四介质层，所述非金属调色层层叠于所述第四介质层远离所述第三介质层的一侧表面。

所述第一介质层包括SiN_x层、ZnSnO_x层或ZrO_x层中的任意一种；本实用新型中第一介质层的材质为阻挡玻璃杂质的材料，优选为SiN_x层。

所述第二介质层包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中第二介质层的材质为种子层材料，优选为AZO层。

所述第一功能层包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；本实用新型中第一功能层的材质为高红外反射材料，优选为Ag层。此外，Ag合金层的材质包括Ag/Cu合金或Ag/Au合金等。

所述第一金属阻挡层包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；本实用新型中第一金属阻挡层的材质为氧化牺牲材料，优选为NiCr层。

所述第三介质层包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中第三介质层优选为AZO层。

所述第四介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中第四介质层优选为SiN_x层。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第一介质层的厚度为15～80nm，所述第二介质层的厚度为6～20nm，所述第一功能层的厚度为6～15nm，所述第一金属阻挡层的厚度为0.5～3nm，所述第三介质层的厚度为6～20nm，所述第四介质层的厚度为20～60nm。

本实用新型中，第一介质层的厚度可以是15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm或80nm；第二介质层的厚度可以是6nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm；第一功能层的厚度可以是6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第一金属阻挡层的厚度可以是0.5nm、0.7nm、1nm、1.2nm、1.5nm、1.8nm、2nm、2.3nm、2.5nm、2.8nm或3nm；第三介质层的厚度可以是6nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm；第四介质层的厚度可以是20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm或60nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第一介质层的厚度为20～50nm，所述第二介质层的厚度为8～15nm，所述第一功能层的厚度为6～12nm，所述第一金属阻挡层的厚度为0.7～1.5nm，所述第三介质层的厚度为8～15nm，所述第四介质层的厚度为30～50nm。

本实用新型中，第一介质层的厚度可以是20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm或50nm；第二介质层的厚度可以是8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第一功能层的厚度可以是6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm或12nm；第一金属阻挡层的厚度可以是0.7nm、0.8nm、0.9nm、1nm、1.1nm、1.2nm、1.3nm、1.4nm或1.5nm；第三介质层的厚度可以是8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第四介质层的厚度可以是30nm、32nm、35nm、38nm、40nm、42nm、45nm、48nm或50nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第二复合层包括在所述非金属调色层的表面依次层叠的第五介质层、第六介质层、第二功能层、第二金属阻挡层、第七介质层、第八介质层和保护层，所述第五介质层层叠于所述非金属调色层远离所述第四介质层的一侧表面。

所述第五介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中，第五介质层优选为SiN_x层。

所述第六介质层包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中，第六介质层的材质为种子层材料，优选为AZO层。

所述第二功能层包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；本实用新型中，第二功能层的材质为高红外反射材料，优选为Ag层。此外，Ag合金层的材质包括Ag/Cu合金或Ag/Au合金等。

所述第二金属阻挡层包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；本实用新型中，第二金属阻挡层的材质为氧化牺牲材料，优选为NiCr层。

所述第七介质层包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中，第七介质层优选为AZO层。

所述第八介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中，第八介质层优选为SiN_x层。

所述保护层包括ZrO_x层、TiO_x层或CN_x层中的任意一种；本实用新型中，保护层优选为ZrO_x层。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第五介质层的厚度为20～60nm，第六介质层的厚度为6～20nm，所述第二功能层的厚度为6～15nm，所述第二金属阻挡层的厚度为0.5～3nm，所述第七介质层的厚度为6～20nm，所述第八介质层的厚度为15～80nm，所述保护层的厚度为5～10nm。

本实用新型中，第五介质层的厚度可以是20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm或60nm；第六介质层的厚度可以是6nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm；第二功能层的厚度可以是6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第二金属阻挡层的厚度可以是0.5nm、0.7nm、1nm、1.2nm、1.5nm、1.8nm、2nm、2.3nm、2.5nm、2.8nm或3nm；第七介质层的厚度可以是6nm、8nm、10nm、12nm、14nm、16nm、18nm或20nm；第八介质层的厚度可以是15nm、20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm、50nm、55nm、60nm、65nm、70nm、75nm或80nm；保护层的厚度可以是5nm、6nm、7nm、8nm、9nm或10nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第五介质层的厚度为30～50nm，所述第六介质层的厚度为8～15nm，所述第二功能层的厚度为6～12nm，所述第二金属阻挡层的厚度为0.7～1.5nm，所述第七介质层的厚度为8～15nm，所述第八介质层的厚度为20～50nm，所述保护层的厚度为5～8nm。

本实用新型中，第五介质层的厚度可以是30nm、35nm、40nm、45nm或50nm；第六介质层的厚度可以是8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第二功能层的厚度可以是6nm、7nm、8nm、9nm、10nm、11nm或12nm；第二金属阻挡层的厚度可以是0.7nm、0.8nm、0.9nm、1nm、1.1nm、1.2nm、1.3nm、1.4nm或1.5nm；第七介质层的厚度可以是8nm、9nm、10nm、11nm、12nm、13nm、14nm或15nm；第八介质层的厚度可以是20nm、25nm、30nm、35nm、40nm、45nm或50nm；保护层的厚度可以是5nm、6nm、7nm或8nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

本实用新型通过调节双银低辐射玻璃中各层的排列顺序，以及各层的厚度比例关系，有效调节了各层对不同光谱波段的吸收强度，进一步实现了先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证了双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

作为本实用新型一种优选的技术方案，所述第一复合层、非金属调色层和第二复合层的总厚度为210～270nm，例如可以是210nm、215nm、220nm、225nm、230nm、235nm、240nm、245nm、250nm、255nm、260nm、265nm或270nm，但并不仅限于所列举的数值，该数值范围内其他未列举的数值同样适用。

需要说明的是，本实用新型中所采用的材料均为本领域中技术人员公知的材料。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果为：

附图说明

图1为本实用新型一个具体实施方式提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃的结构示意图。

其中，1-玻璃基底；2-第一介质层；3-第二介质层；4-第一功能层；5-第一金属阻挡层；6-第三介质层；7-第四介质层；8-非金属调色层；9-第五介质层；10-第六介质层；11-第二功能层；12-第二金属阻挡层；13-第七介质层；14-第八介质层；15-保护层。

具体实施方式

需要理解的是，在本实用新型的描述中，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。此外，术语“第一”、“第二”等仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”等的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

需要说明的是，在本实用新型的描述中，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

下面结合附图并通过具体实施方式来进一步说明本实用新型的技术方案。

在一个具体实施方式中，本实用新型提供了一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，如图1所示，所述可异地加工的中性色双银低辐射玻璃包括玻璃基底1，所述玻璃基底1的表面依次层叠有第一复合层、非金属调色层8和第二复合层，所述非金属调色层8包括硅单质层或硼单质层。

采用先镀膜后钢化制备双银低辐射玻璃时，钢化热处理后的膜层易氧化，易脱膜，并且透视颜色较深，趋于蓝色或绿色，与中性色相差较大。本实用新型中通过设置非金属调色层8，可以有效改善双银低辐射玻璃的透视颜色，这是由于非金属调色层8中的硅单质层或硼单质层可以吸收蓝色和绿色，调控整个膜层的透视颜色，从而使得钢化热处理后的透视颜色仍趋向于中性色；同时，通过第一复合层、非金属调色层8和第二复合层之间的相互作用有效避免了钢化热处理后膜层易氧化和易脱落的问题，从而实现了双银低辐射玻璃的可异地加工和透过颜色呈中性色外观的技术效果。

本实用新型中的双银低辐射玻璃采用磁控溅射工艺制备得到，其中在镀制非金属调色层8时，溅射气体Ar气流量较大，从而释放其膜层应力，避免产生龟裂现场，一般Ar气流量优选为900-1200sccm；此外，非金属调色层8优选为硅单质层。

本实用新型提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，通过设置非金属调色层8可以有效调控透视颜色，同时通过第一复合层、非金属调色层8和第二复合层之间的相互作用，在实现了先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证了双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

进一步地，所述非金属调色层8的厚度为1～5nm；更进一步地，所述非金属调色层8的厚度为1～4nm。

进一步地，所述第一复合层包括在所述玻璃基底1表面依次层叠的第一介质层2、第二介质层3、第一功能层4、第一金属阻挡层5、第三介质层6和第四介质层7，所述非金属调色层8层叠于所述第四介质层7远离所述第三介质层6的一侧表面。

所述第一介质层2包括SiN_x层、ZnSnO_x层或ZrO_x层中的任意一种；本实用新型中第一介质层2的材质为阻挡玻璃杂质的材料。

所述第二介质层3包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中第二介质层3的材质为种子层材料。

所述第一功能层4包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；本实用新型中第一功能层4的材质为高红外反射材料。

所述第一金属阻挡层5包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；本实用新型中第一金属阻挡层5的材质为氧化牺牲材料。

所述第三介质层6包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

所述第四介质层7包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

进一步地，所述第一介质层2的厚度为15～80nm，所述第二介质层3的厚度为6～20nm，所述第一功能层4的厚度为6～15nm，所述第一金属阻挡层5的厚度为0.5～3nm，所述第三介质层6的厚度为6～20nm，所述第四介质层7的厚度为20～60nm。

进一步地，所述第一介质层2的厚度为20～50nm，所述第二介质层3的厚度为8～15nm，所述第一功能层4的厚度为6～12nm，所述第一金属阻挡层5的厚度为0.7～1.5nm，所述第三介质层6的厚度为8～15nm，所述第四介质层7的厚度为30～50nm。

进一步地，所述第二复合层包括在所述非金属调色层8的表面依次层叠的第五介质层9、第六介质层10、第二功能层11、第二金属阻挡层12、第七介质层13、第八介质层14和保护层15，所述第五介质层9层叠于所述非金属调色层8远离所述第四介质层7的一侧表面。

所述第五介质层9包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

所述第六介质层10包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；本实用新型中，第六介质层10的材质为种子层材料。

所述第二功能层11包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；本实用新型中，第二功能层11的材质为高红外反射材料。

所述第二金属阻挡层12包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；本实用新型中，第二金属阻挡层12的材质为氧化牺牲材料。

所述第七介质层13包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

所述第八介质层14包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

所述保护层15包括ZrO_x层、TiO_x层或CN_x层中的任意一种。

进一步地，所述第五介质层9的厚度为20～60nm，第六介质层10的厚度为6～20nm，所述第二功能层11的厚度为6～15nm，所述第二金属阻挡层12的厚度为0.5～3nm，所述第七介质层13的厚度为6～20nm，所述第八介质层14的厚度为15～80nm，所述保护层15的厚度为5～10nm。

进一步地，所述第五介质层9的厚度为30～50nm，所述第六介质层10的厚度为8～15nm，所述第二功能层11的厚度为6～12nm，所述第二金属阻挡层12的厚度为0.7～1.5nm，所述第七介质层13的厚度为8～15nm，所述第八介质层14的厚度为20～50nm，所述保护层15的厚度为5～8nm。

进一步地，所述第一复合层、非金属调色层8和第二复合层的总厚度为210～270nm。

实施例1

基于上述一个具体实施方式，本实施例提供了一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其中，第一介质层2是厚度为45nm的SiN_x层，第二介质层3是厚度为12nm的AZO层，第一功能层4是厚度为8.7nm的Ag层，第一金属阻挡层5是厚度为3nm的NiCr层，第三介质层6是厚度为12nm的AZO层，第四介质层7是厚度为40nm的SiN_x层，非金属调色层8是厚度为1.2nm的硅单质层，第五介质层9是厚度为34nm的SiN_x层，第六介质层10是厚度为12nm的AZO层，第二功能层11是厚度为9.2nm的Ag层，第二金属阻挡层12是厚度为3nm的NiCr层，第七介质层13是厚度为12nm的AZO层，第八介质层14是厚度为22nm的SiN_x层，保护层15是厚度为5nm的ZrO_x层。

本实施例中可异地加工的中性色双银低辐射玻璃制备工艺参数如表1。

表1

对比例1

本对比例与实施例1的区别在于，省去了非金属调色层8，其余工艺参数和操作步骤与实施例1相同。

对实施例1和对比例1提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃在钢化热处理前后的光学性能进行测试，结果见表2。

表2

表2中：T表示玻璃的可见光透过率(％)，at表示玻璃透视颜色的红绿值，bt表示玻璃透视颜色的黄蓝值，Rg表示玻璃的室外可见光反射率(％)，ag表示玻璃室外可见光反射颜色的红绿值，bg表示玻璃室外可见光反射颜色的黄蓝值。

由表2的数据可以看出：

本实用新型提供的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，通过设置非金属调色层8可以有效调控整个膜层的透视颜色，使其具有更中性的透视和反射颜色，从而更加接近于非钢膜层；同时通过第一复合层、非金属调色层8和第二复合层之间的相互作用，在实现了先镀膜后钢化的可异地加工方式的同时，保证了双银低辐射玻璃的透视颜色仍接近中性色，达到兼顾的效果。

申请人声明，以上所述仅为本实用新型的具体实施方式，但本实用新型的保护范围并不局限于此，所属技术领域的技术人员应该明了，任何属于本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，可轻易想到的变化或替换，均落在本实用新型的保护范围和公开范围之内。

Claims

1.一种可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述可异地加工的中性色双银低辐射玻璃包括玻璃基底，所述玻璃基底的表面依次层叠有第一复合层、非金属调色层和第二复合层，所述非金属调色层包括硅单质层或硼单质层；

所述第一复合层包括在所述玻璃基底表面依次层叠的第一介质层、第二介质层、第一功能层、第一金属阻挡层、第三介质层和第四介质层，所述非金属调色层层叠于所述第四介质层远离所述第三介质层的一侧表面；

所述第二复合层包括在所述非金属调色层的表面依次层叠的第五介质层、第六介质层、第二功能层、第二金属阻挡层、第七介质层、第八介质层和保护层，所述第五介质层层叠于所述非金属调色层远离所述第四介质层的一侧表面。

2.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述非金属调色层的厚度为1～5nm。

3.根据权利要求2所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述非金属调色层的厚度为1～4nm。

4.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层包括SiN_x层、ZnSnO_x层或ZrO_x层中的任意一种；

所述第二介质层包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；

所述第一功能层包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；

所述第一金属阻挡层包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；

所述第三介质层包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；

所述第四介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种。

5.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层的厚度为15～80nm，所述第二介质层的厚度为6～20nm，所述第一功能层的厚度为6～15nm，所述第一金属阻挡层的厚度为0.5～3nm，所述第三介质层的厚度为6～20nm，所述第四介质层的厚度为20～60nm。

6.根据权利要求5所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一介质层的厚度为20～50nm，所述第二介质层的厚度为8～15nm，所述第一功能层的厚度为6～12nm，所述第一金属阻挡层的厚度为0.7～1.5nm，所述第三介质层的厚度为8～15nm，所述第四介质层的厚度为30～50nm。

7.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第五介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；

所述第六介质层包括AZO层、ZnSnO_x层或TiO_x层中的任意一种；

所述第二功能层包括Ag层、Au层或Ag合金层中的任意一种；

所述第二金属阻挡层包括NiCr层、Cr层、Ni层、Ti层或Al层中的任意一种；

所述第七介质层包括AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；

所述第八介质层包括SiN_x层、AZO层、ZnSnO_x层、TZO层或TiO_x层中的任意一种；

所述保护层包括ZrO_x层、TiO_x层或CN_x层中的任意一种。

8.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第五介质层的厚度为20～60nm，第六介质层的厚度为6～20nm，所述第二功能层的厚度为6～15nm，所述第二金属阻挡层的厚度为0.5～3nm，所述第七介质层的厚度为6～20nm，所述第八介质层的厚度为15～80nm，所述保护层的厚度为5～10nm。

9.根据权利要求8所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第五介质层的厚度为30～50nm，所述第六介质层的厚度为8～15nm，所述第二功能层的厚度为6～12nm，所述第二金属阻挡层的厚度为0.7～1.5nm，所述第七介质层的厚度为8～15nm，所述第八介质层的厚度为20～50nm，所述保护层的厚度为5～8nm。

10.根据权利要求1所述的可异地加工的中性色双银低辐射玻璃，其特征在于，所述第一复合层、非金属调色层和第二复合层的总厚度为210～270nm。