CN218039092U - 真空镀膜设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种真空镀膜设备，属于显示装置制造设备技术领域。真空镀膜设备包括设备本体和天线室，设备本体包括密封扣合的第一壳体和第一顶盖，第一壳体内设有镀膜腔，镀膜腔的内底壁设置有下电极；天线室设置于镀膜腔的顶部，天线室包括第二壳体和第二顶盖，天线室的内顶壁设置有若干个线圈，天线室的内底壁铺设有陶瓷片，陶瓷片上铺设有若干个加热片，用于提高天线室的温度。本实用新型的真空镀膜设备通过缩小天线室与镀膜腔内其他区域的温差，避免异物沉积在天线室的外壁面，保证天线室的洁净度，进而使位于镀膜腔内的待加工光电面板表面清洁无异物，提升了真空镀膜设备的良率，有利于光电面板的批量化生产。

Description

真空镀膜设备

技术领域

本实用新型涉及显示装置制造设备技术领域，尤其涉及一种真空镀膜设备。

背景技术

电感耦合等离子(ICP,InductiveCoupledPlasma)处理设备，是真空镀膜设备的一种，其通过天线室内的电感线圈产生射频电磁场，使得真空腔室内的反应气体发生电离而产生等离子体，产生的等离子体可以应用于沉积在待镀膜的显示面板上。现有技术存在以下缺陷：在ICP设备进行蚀刻反应时，部分反应物由于无法及时被负压吸尘设备抽走，会在ICP设备内部形成再沉积异物。特别是位于ICP设备的真空腔室上部的天线室，天线室的温度会低于真空腔室内的温度，温度越低的位置越容易形成沉积异物，不仅影响天线室的正常工作，而且天线室底部的沉积异物脱落后及其容易掉落在待镀膜的现实面板上，降低了显示面板的良品率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜设备，其能提高天线室的温度，减少天线室外壁面异物的产生。

为实现上述目的，提供以下技术方案：

提供一种真空镀膜设备，包括：

设备本体，包括密封扣合的第一壳体和第一顶盖，所述第一壳体内设有真空的镀膜腔，所述第一壳体的顶部设置有与所述镀膜腔连通的第一开口，所述第一顶盖封堵所述第一开口，所述镀膜腔的下方设置有下电极；

天线室，设置于所述镀膜腔的顶部，所述天线室包括第二壳体和第二顶盖，所述第二壳体内设置有空腔，所述第二壳体的顶部设置有与所述空腔连通的第二开口，所述第二顶盖封堵所述第二开口，所述空腔内设置有若干个线圈，所述空腔的底部铺设有陶瓷片，所述陶瓷片靠近所述线圈的一侧面铺设有若干个加热片，所述加热片用于提高所述天线室内的温度。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，还包括金属隔板，所述金属隔板铺设于所述加热片靠近所述线圈的一侧面。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述镀膜腔的内周壁上周向设置有支撑环板，所述天线室设置于所述支撑环板上。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述第二壳体的下方设置有若干个阻隔片，所述阻隔片采用陶瓷材质制成。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述阻隔片可拆卸设置在所述第二壳体的底壁外侧。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述阻隔片开设有连接孔，螺钉的一端穿过所述连接孔螺接于所述第二壳体的下方，所述螺钉的另一端设置有防护帽。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，还包括悬挂框架，所述悬挂框架包括第一悬挂部、中间承载部和第二悬挂部，所述中间承载部贯通开设有若干个台阶孔，所述阻隔片放置于所述台阶孔内，所述第一悬挂部和所述第二悬挂部均采用紧固件连接于所述第二壳体的外壁。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述第一顶盖设置有第一高压接线端，所述第二顶盖设置有与所述线圈连接的第二高压接线端，所述第一高压接线端的一端与外接高压线连接，所述第一高压接线端的另一端与所述第二高压接线端插接。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述第一壳体的侧壁设置供显示面板通过的第三开口，所述第三开口被第一门体封堵，所述第一门体的侧边与所述第一壳体铰接。

作为真空镀膜设备的一种优选方案，所述第一壳体的侧壁设置有供显示面板通过的第四开口，所述第四开口被第二门体封堵，所述第二门体的侧边与所述第一壳体铰接，所述第一门体与所述第二门体分别设置在所述第一壳体相对的两个侧壁，且所述第一门体和所述第二门体正对设置。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果：

本实用新型所提供的真空镀膜设备，第一壳体和第一顶盖上下密封扣合，设备本体内被抽真空设备抽气，使镀膜腔内处于真空状态，在天线室内设置于高压线连接的线圈，用于发出高频电磁波，高频电磁波可以激发镀膜腔内的反应气体产生等离子体，在天线室的内底壁设置陶瓷片，电磁波容易穿透陶瓷片，使线圈产生的电磁波均匀传递到天线室外，提高电磁波的传递效率；在陶瓷片上设置若干个加热片，加热片产生热量，进而使天线室整体的温度升高，缩小天线室与镀膜腔内其他区域的温差，避免异物沉积在天线室的外壁面，保证天线室的洁净度，进而使位于镀膜腔内的待加工光电面板表面清洁无异物，提高了真空镀膜设备的良率，有利于光电面板的批量化生产。

附图说明

下面根据附图和实施例对本实用新型作进一步详细说明。

图1为本实用新型一实施例中真空镀膜设备的结构示意图。

图2为本实用新型一实施例中天线室的结构示意图。

图3为本实用新型另一实施例中悬挂框架的结构示意图。

图中：

1、设备本体；11、第一壳体；12、第一顶盖；13、镀膜腔；14、支撑环板；15、第一高压接线端；16、密封圈；2、天线室；21、第二壳体；22、第二顶盖；23、线圈；24、陶瓷片；25、加热片；26、金属隔板；27、第二高压接线端；3、阻隔片；4、悬挂框架；41、第一悬挂部；42、中间承载部；43、第二悬挂部；44、台阶孔；45、紧固件；5、外接高压线；6、第一门体；61、第一把手；7、第二门体；71、第二把手；8、下电极；9、螺钉；10、防护帽。

具体实施方式

参考下面结合附图详细描述的实施例，本实用新型的优点和特征以及实现它们的方法将变得显而易见。然而，本实用新型不限于以下公开的实施例，而是可以以各种不同的形式来实现，提供本实施例仅仅是为了完成本实用新型的公开并且使本领域技术人员充分地了解本实用新型的范围，并且本实用新型仅由权利要求的范围限定。相同的附图标记在整个说明书中表示相同的构成要素。

为了提高天线室的温度，减少天线室外壁面异物的产生，保证真空镀膜设备的正常工作，本实施例提供一种真空镀膜设备，以下结合图1至图3对本实施例的具体内容进行详细描述。

如图1结合图2所示，该真空镀膜设备包括设备本体1、天线室2和下电极8。其中设备本体1包括密封扣合的第一壳体11和第一顶盖12，第一壳体11内设有镀膜腔13，第一壳体11的顶部设置有与镀膜腔13连通的第一开口，第一顶盖12封堵第一开口，镀膜腔13的内底壁设置有下电极8。具体地，下电极8接地，待加工的光电面板可以放置在下电极8上。将天线室2设置于镀膜腔13的顶部，天线室2包括第二壳体21和第二顶盖22，第二壳体21内设置有空腔，第二壳体21的顶部设置有与空腔连通的第二开口，第二顶盖22封堵第二开口，空腔内设置有若干个线圈23，空腔内的底部铺设有陶瓷片24，陶瓷片24靠近线圈23的一侧面上铺设有若干个加热片25，加热片25用于提高天线室2内的温度。

简而言之，本实施例所提供的真空镀膜设备，第一壳体11和第一顶盖12上下密封扣合，设备本体1内被抽真空设备抽气，使镀膜腔13内处于真空状态，在天线室2内设置于高压线连接的线圈23，用于发出高频电磁波，高频电磁波可以激发镀膜腔13内的反应气体产生等离子体，在天线室2的内底壁设置陶瓷片24，电磁波容易穿透陶瓷片24，可以使线圈23产生的电磁波均匀传递到天线室2外，提高电磁波的传递效率；在陶瓷片24上设置若干个加热片25，加热片25产生热量，进而使天线室2整体的温度升高，缩小天线室2与镀膜腔13内其他区域的温差，避免异物沉积在天线室2的外壁面，保证天线室2的洁净度，进而使位于镀膜腔13内的待加工光电面板表面清洁无异物，提升了真空镀膜设备的良率，有利于光电面板的批量化生产。

示例性地，加热片25的数量和排布方式可以根据实际使用要求进行放置，在此不做过多限制。

进一步地，如图1和图2所示，天线室2内还包括金属隔板26，将金属隔板26铺设于加热片25靠近线圈23的一侧面上。电磁波容易穿透金属隔板26，便于线圈23产生的电磁波可以高效的穿出天线室2，提高天线室2的工作效率。

进一步地，如图1所示，镀膜腔13的内周壁上周向设置有支撑环板14，天线室2设置于支撑环板14上。第一顶盖12相对第一壳体11打开后，可以将天线室2从第一壳体11的开口从上向下放置到支撑环板14上。更进一步地，在支撑环板14上设置弹性缓冲垫，每次放置天线室2时，避免天线室2与支撑环板14之间发生直接碰撞，延长天线室2和支撑环板14的使用寿命。

进一步地，如图2所示，在第二壳体21的下方设置有若干个阻隔片3，阻隔片3采用陶瓷材质制成。具体地，在本实施例中，第二壳体21的外底壁可拆卸连接有若干个阻隔片3。在第二壳体21的底部设置陶瓷材质的阻隔片3，一方面，阻隔片3可以阻挡一部分异物在第二壳体21底部沉积；一方面采用陶瓷材质，避免因增加阻隔片3而导致阻碍电磁波的传递；另一方面，可以将布满沉积异物的阻隔片3快速更换，不影响正常处理工作时间。

进一步地，阻隔片3开设有连接孔，螺钉9的一端穿过连接孔螺接于第二壳体21的下方，螺钉9的另一端设置有防护帽10。采用螺钉9将阻隔片3装配到第二壳体21的下方，保证阻隔片3安装牢固。通过设置防护帽10，一方面，避免长时间使用腐蚀螺钉9，延长螺钉9的使用寿命；另一方面，避免异物沉积到螺钉9与连接孔之间，导致分析堵塞，不便于拆卸螺钉9。具体地，相邻两个阻隔片3之间接触或间隔小于1mm。

进一步地，第一顶盖12设置有第一高压接线端15，第二顶盖22设置有与线圈23连接的第二高压接线端27，第一高压接线端15的一端与外接高压线5连接，第一高压接线端15的另一端与第二高压接线端27插接。

进一步地，真空镀膜设备还包括密封圈16，密封圈16设置于第一壳体11和第一顶盖12之间。真空镀膜设备开始工作时，需要使设备本体1的镀膜腔13内维持真空状态，因此在第一壳体11和第一顶盖12之间设置有密封圈16，用来提高镀膜腔13的密封性。在其他实施例中，还可以在第一壳体11外侧开设第一环形密封槽和在第一顶盖12的内侧开设第二环形密封槽，第一环形密封槽和第二环形密封槽对应设置，密封圈16放置于第一环形密封槽和第二环形密封槽形成的密闭空间内。

进一步地，在第一壳体11的侧壁设置有供显示面板通过的第三开口，第三开口被第一门体6封堵，第一门体6的侧边与第一壳体11铰接。在第一壳体11上设置可以开启和关闭的第一门体6，方便将光电面板放到镀膜腔13内进行处理。

在其他实施例中，在第一门体6的外边框周向设置密封橡胶圈，提高第一门体6关闭后与第一壳体11之间的密封性。

进一步地，第一壳体11的侧壁设置有供显示面板通过的第四开口，第四开口被第二门体7封堵，第二门体7的侧边与第一壳体11铰接，且第一门体6和第二门体7分别设置在第一壳体11相对的两个侧壁，且第一门体6和第二门体7正对设置。在第一壳体11上设置可以开启和关闭的第二门体7，两个门体相对设置，其中一个可以作为放料口，其中另一个可以作为取料口。在本实施例中，第一门体6设置有第一把手61，第二门体7设置有第二把手71。

在其他实施例中，在第二门体7的外边框周向设置密封橡胶圈，提高第二门体7关闭后与第一壳体11之间的密封性。

本实施例中的真空镀膜设备的工作原理：

打开第一顶盖12将天线室2放到镀膜腔13的支撑环板14上，将第一顶盖12密封设置在第一壳体11上，使镀膜腔13处于真空状态，天线室2通过第一高压接线端15和第二高压接线端27与外接高压线5导电，线圈23发出高频电磁波，加热片25对天线室2进行加热，电磁波可以将反应气体产生等离子体，进而对光电面板进行处理。

在其他实施例中，真空镀膜设备的结构和上述实施例的结构类似，区别仅在于阻隔片3的设置存在差异，具体地，如图3所示，真空镀膜设备还包括悬挂框架4，悬挂框架4包括第一悬挂部41、中间承载部42和第二悬挂部43，中间承载部42贯通开设有若干个台阶孔44，阻隔片3放置于台阶孔44内，第一悬挂部41和第二悬挂部43均采用紧固件45连接于第二壳体21的外壁。当需要更换阻隔片3时，无需将每个阻隔片3都进行拆卸，只需要将悬挂框架4从第二壳体21上拆下，即可将多个阻隔片3一次性取出，方便阻隔片3的快速清洗和更换。

示例性地，紧固件45为螺栓，第一悬挂部41开设有第一通孔，第二壳体21的一侧壁设置有第一螺纹孔，螺栓穿过第一通孔与第一螺纹孔螺接。

示例性地，第二悬挂部43开设有第二通孔，第二壳体21的另一侧壁设置有第二螺纹孔，螺栓穿过第二通孔与第二螺纹孔螺接。

尽管上面已经参考附图描述了本实用新型的实施例，但是本实用新型不限于以上实施例，而是可以以各种形式制造，并且本领域技术人员将理解，在不改变本实用新型的技术精神或基本特征的情况下，可以以其他特定形式来实施本实用新型。因此，应该理解，上述实施例在所有方面都是示例性的而不是限制性的。

Claims (10)

1.一种真空镀膜设备，其特征在于，包括：

设备本体，包括密封扣合的第一壳体和第一顶盖，所述第一壳体内设有真空的镀膜腔，所述第一壳体的顶部设置有与所述镀膜腔连通的第一开口，所述第一顶盖封堵所述第一开口，所述镀膜腔的下方设置有下电极；

天线室，设置于所述镀膜腔的顶部，所述天线室包括第二壳体和第二顶盖，所述第二壳体内设置有空腔，所述第二壳体的顶部设置有与所述空腔连通的第二开口，所述第二顶盖封堵所述第二开口，所述空腔内设置有若干个线圈，所述空腔的底部铺设有陶瓷片，所述陶瓷片靠近所述线圈的一侧面铺设有若干个加热片，所述加热片用于提高所述天线室内的温度。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，还包括金属隔板，所述金属隔板铺设于所述加热片靠近所述线圈的一侧面。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述镀膜腔的内周壁上周向设置有支撑环板，所述天线室设置于所述支撑环板上。

4.根据权利要求1所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第二壳体的下方设置有若干个阻隔片，所述阻隔片采用陶瓷材质制成。

5.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻隔片可拆卸设置在所述第二壳体的底壁外侧。

6.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述阻隔片开设有连接孔，螺钉的一端穿过所述连接孔螺接于所述第二壳体的下方，所述螺钉的另一端设置有防护帽。

7.根据权利要求4所述的真空镀膜设备，其特征在于，还包括悬挂框架，所述悬挂框架包括第一悬挂部、中间承载部和第二悬挂部，所述中间承载部贯通开设有若干个台阶孔，所述阻隔片放置于所述台阶孔内，所述第一悬挂部和所述第二悬挂部均采用紧固件连接于所述第二壳体的外壁。

8.根据权利要求1至7任一项所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一顶盖设置有第一高压接线端，所述第二顶盖设置有与所述线圈连接的第二高压接线端，所述第一高压接线端的一端与外接高压线连接，所述第一高压接线端的另一端与所述第二高压接线端插接。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一壳体的侧壁设置供显示面板通过的第三开口，所述第三开口被第一门体封堵，所述第一门体的侧边与所述第一壳体铰接。

10.根据权利要求9所述的真空镀膜设备，其特征在于，所述第一壳体的侧壁设置有供显示面板通过的第四开口，所述第四开口被第二门体封堵，所述第二门体的侧边与所述第一壳体铰接，所述第一门体与所述第二门体分别设置在所述第一壳体相对的两个侧壁，且所述第一门体和所述第二门体正对设置。

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