CN217888811U - 硅片逆流清洗槽 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及一种硅片逆流清洗槽，包括顶部敞口的槽体，槽体内呈上下分布有若干顶部敞口的水盒，水盒水平设置且其一端为固定端并与相应槽体内壁固连、另一端为自由端并与相应槽体内壁之间留有第一间隙，相邻两水盒的固定端相反，每个水盒的上方均水平且转动设有清洗输送网带，清洗输送网带沿对应水盒的固定端至自由端输送且其尾端延伸至第一间隙上方并与相应槽体内壁之间留有第二间隙，位于水盒上方的清洗输送网带的上半部分的上下方均设有中空的冲洗板，两冲洗板相对的一侧上均连通有若干喷头，喷头朝向对应的水盒固定端向下倾斜设置。本实用新型可实现对硅片的多次逆流清洗，并对清洗废水有效回收再利用，清洗效果更佳，更加实用。

Description

硅片逆流清洗槽

技术领域

本实用新型属于硅片生产技术领域，具体涉及一种硅片逆流清洗槽。

背景技术

目前，在硅片的生产过程中，加工好的硅片表面通常残留有较多的灰尘杂质，对后续的包装和使用有较大不利影响。因此，需要对硅片及时进行清洗处理，而现有常规的清洗设备大都是将硅片直接放入水槽中进行晃动清洗，以使硅片上的灰尘杂质被水槽中的水带走。但由于在整个清洗过程中，水槽中的水是不变的，极易使被带走的灰尘杂质再次附着到硅片上，对硅片造成二次污染，使得整体清洗效果不佳，有待改进。

实用新型内容

有鉴于此，本实用新型的目的在于提供一种硅片逆流清洗槽，可实现对硅片的多次逆流清洗，并对清洗废水有效回收再利用，以解决上述问题。

为实现上述目的，本实用新型所采用的技术方案是：一种硅片逆流清洗槽，包括架设在一底座上且顶部敞口的槽体，所述槽体内呈上下间隔分布有若干顶部敞口的水盒，所述水盒水平设置且其一端为固定端并与相应槽体内壁固定连接、另一端为自由端并与相应槽体内壁之间留有第一间隙，相邻两水盒的固定端相反，每个水盒的上方均水平且转动设有清洗输送网带，所述清洗输送网带沿所对应水盒的固定端至自由端所在方向输送且其尾端延伸至第一间隙上方并与相应槽体内壁之间留有第二间隙，位于水盒上方的清洗输送网带的上半部分的上下方均设有中空的冲洗板，两冲洗板相对的一侧上均连通有若干喷头，所述喷头朝向对应的水盒固定端向下倾斜设置，所述底座上设有水箱、排水泵、PP棉滤芯过滤器和陶瓷滤芯过滤器，所述水箱上设有进水泵和回水泵，所述水箱的出水口通过带有第一流量调节阀的出水管与进水泵的进水口连通，所述进水泵的出水口连通有进水总管，所述进水总管上并联有若干进水支管，所述进水支管与冲洗板一一对应且其尾端由槽体后端伸入槽体并与对应的冲洗板后端连通，所述槽体的下部外侧套设有环状排水总管，所述水盒固定端均通过排水支管与排水总管连通，所述排水总管通过输送管路与排水泵的进水口连通，所述排水泵的出水口与PP棉滤芯过滤器的进水口连通，所述PP棉滤芯过滤器的出水口与陶瓷滤芯过滤器的进水口连通，所述陶瓷滤芯过滤器的出水口与回水泵的进水口连通，所述回水泵的出水口与水箱的进水口连通。

优选的，最下层的所述水盒与槽体内壁之间的第一间隙的下方水平且转动设有卸料输送网带，所述卸料输送网带由最下层水盒的自由端至固定端所在方向输送且其尾端对应的槽体底部开设有排料口，所述排料口下方的底座上设有顶部敞口的接料框。

优选的，所述卸料输送网带的上半部分的上下方均设有气体分布器，两气体分布器的出气口相对设置，所述底座上设有热风机和气泵，所述热风机的出气口通过带有第二流量调节阀的出气管与气泵的进气口连通，所述气泵的出气口上连通有进气总管，所述进气总管上并联有两进气支管，两进气支管与两气体分布器一一对应且其尾端由槽体后端伸入槽体并与对应气体分布器的后端连通。

优选的，所述接料框外侧壁上设有振动器、下部内设有网板，所述网板下方的接料框内设有红外线加热器。

优选的，所述清洗输送网带和卸料输送网带均包括两组机架，所述清洗输送网带所对应的一组机架与对应水盒的内底部固定连接、另一组机架与对应水盒的自由端外壁固定连接，所述卸料输送网带所对应的两组机架均固定在槽体内底部上，所述两组机架上均转动设有滚筒且其中一滚筒传动连接有驱动机构、两滚筒之间连接有网状输送带。

优选的，所述清洗输送网带所对应的网状输送带上间隔分布有若干弹性挡条。

优选的，所述底座的底部呈矩形阵列间隔均布有若干支撑机构，所述支撑机构包括呈上下相对设置并均由泡沫铝制成的上减震支板和下减震支板，所述上减震支板与底座固定连接，所述上减震支板与下减震支板之间连接有减震器，所述下减震支板可通过化学螺栓固定在地面上。

本实用新型的有益效果是：本实用新型设计合理，结构紧凑，使用时，可从最上层水盒所对应的清洗输送网带的上料端将待清洗的硅片有序放置到该清洗输送网带上，由该清洗输送网带带动硅片输送前进并在其卸料端将硅片卸料给其下方的另一清洗输送网带，由另一清洗输送网带带动硅片继续输送前进，以此类推，在相邻两清洗输送网带的输送方向相反的设置配合下，即可实现对硅片的多次输送，使硅片有序从槽体上部运动到槽体的下部。输送过程中，打开并调节好第一流量调节阀，运行进水泵，即可将水箱中的清洗用水经出水管、进水泵抽送到进水总管中，并经各进水支管分流到各冲洗板内，最后通过冲洗板上的喷头喷出，从而可实现对硅片上下两面的多次喷淋冲洗处理，且由于喷头是朝向对应清洗输送网带的上料端所在方向向下倾斜设置的，即清洗用水的喷射方向与硅片的运动方向相反，形成逆流，更能大大增强清洗效果，且避免了灰尘杂质对硅片的二次污染，更能保证清洗的效率和质量；

清洗时，每次清洗产生的废水均可由对应的水盒盛接，避免废水对下层清洗输送网带上的硅片造成污染。同时，运行排水泵和回水泵，即可将各水盒盛接的废水经排水支管、排水总管和输送管路输送到PP棉滤芯过滤器中。接着，废水能先后流经PP棉滤芯过滤器和陶瓷滤芯过滤器，在PP棉滤芯过滤器和陶瓷滤芯过滤器的设置配合下，即可实现对废水的高效高质量的双重过滤净化处理。最后，在回水泵的带动下，净化后的废水可重新回到水箱中循环使用，以此可大大降低清洗作业对水资源的消耗和浪费，更加经济环保。

此外，从最下层的清洗输送网带的卸料端卸料的硅片可继续掉落到卸料输送网带上，由卸料输送网带将硅片输送到排料口处并经排料口将硅片卸料给接料框。卸料输送的过程中，运行热风机和气泵，打开并调节好第二流量调节阀，即可将热风机出产的干燥热风经出气管和气泵输送给进气总管，并经两进气支管分流到两气体分布器中，由气体分布器朝向清洗后的硅片的上下两面喷出，从而能实现对清洗后的硅片的有效热风干燥处理，以尽快去除硅片表面残留的水分，更有利于对硅片的后续加工和使用。

附图说明

图1是本实用新型的主视结构示意图；

图2是本实用新型的右视结构示意图；

图3是本实用新型一组水盒及其上方的清洗输送网带的主视结构示意图；

图4是本实用新型接料框的主视结构示意图；

图5是本实用新型支撑机构的主视结构示意图。

图中标号：1为底座，2为槽体，3为水盒，4为第一间隙，5为清洗输送网带，6为第二间隙，7为冲洗板，8为喷头，9为水箱，10为进水泵，11为回水泵，12为第一流量调节阀，13为出水管，14为进水总管，15为进水支管，16为排水总管，17为排水支管，18为输送管路，19为排水泵，20为PP棉滤芯过滤器，21为陶瓷滤芯过滤器，22为卸料输送网带，23为排料口，24为接料框，25为气体分布器，26为热风机，27为气泵，28为第二流量调节阀，29为出气管，30为进气总管，31为进气支管，32为振动器，33为网板，34为红外线加热器，35为机架，36为滚筒，37为驱动机构，38为网状输送带，39为弹性挡条，40为支撑机构，4001为上减震支板，4002为下减震支板，4003为减震器，41为化学螺栓。

具体实施方式

下面结合附图及具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述：

如图1至5所示，一种硅片逆流清洗槽，包括架设在一底座1上且顶部敞口的槽体2。槽体2内呈上下间隔分布有若干顶部敞口的水盒3，水盒3水平设置且其一端为固定端并与相应槽体2的内壁固定连接、另一端为自由端并与相应槽体2的内壁之间留有第一间隙4。相邻两水盒3的固定端相反，每个水盒3的上方均水平且转动设有清洗输送网带5，清洗输送网带5沿所对应水盒3的固定端至自由端所在方向输送且其尾端延伸至第一间隙4的上方并与相应槽体2的内壁之间留有第二间隙6。位于水盒3上方的清洗输送网带5的上半部分的上下方均设有中空的冲洗板7，两冲洗板7相对的一侧上均连通有若干喷头8，喷头8朝向对应的水盒3的固定端向下倾斜设置。底座1上设有水箱9、排水泵19、PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21。水箱9上设有进水泵10和回水泵11，水箱9的出水口通过带有第一流量调节阀12的出水管13与进水泵10的进水口连通，进水泵10的出水口连通有进水总管14，进水总管14上并联有若干进水支管15，进水支管15与冲洗板7一一对应且其尾端由槽体2的后端伸入槽体2并与对应的冲洗板7的后端连通。槽体2的下部外侧套设有环状排水总管16，水盒3的固定端均通过排水支管17与排水总管16连通，排水总管16通过输送管路18与排水泵19的进水口连通，排水泵19的出水口与PP棉滤芯过滤器20的进水口连通，PP棉滤芯过滤器20的出水口与陶瓷滤芯过滤器21的进水口连通，陶瓷滤芯过滤器21的出水口与回水泵11的进水口连通，回水泵11的出水口与水箱9的进水口连通；

使用时，可从最上层水盒3所对应的清洗输送网带5的上料端将待清洗的硅片有序放置到该清洗输送网带5上，由该清洗输送网带5带动硅片输送前进并在其卸料端将硅片卸料给其下方的另一清洗输送网带5，由另一清洗输送网带5带动硅片继续输送前进，以此类推，在相邻两清洗输送网带5的输送方向相反的设置配合下，即可实现对硅片的多次输送，使硅片有序从槽体2的上部运动到槽体2的下部。输送过程中，打开并调节好第一流量调节阀12，运行进水泵10，即可将水箱9中的清洗用水经出水管11、进水泵10抽送到进水总管14中，并经各进水支管15分流到各冲洗板7内，最后通过冲洗板7上的喷头8喷出，从而可实现对硅片上下两面的多次喷淋冲洗处理，且由于喷头8是朝向对应清洗输送网带5的上料端所在方向向下倾斜设置的，即清洗用水的喷射方向与硅片的运动方向相反，形成逆流，更能大大增强清洗效果，且避免了灰尘杂质对硅片的二次污染，更能保证清洗的效率和质量；

清洗时，每次清洗产生的废水均可由对应的水盒3盛接，避免废水对下层清洗输送网带5上的硅片造成污染。同时，运行排水泵19和回水泵11，即可将各水盒3盛接的废水经排水支管17、排水总管16和输送管路18输送到PP棉滤芯过滤器20中。接着，废水能先后流经PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21，在PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21的设置配合下，即可实现对废水的高效高质量的双重过滤净化处理。最后，在回水泵11的带动下，净化后的废水可重新回到水箱中循环使用，以此可大大降低清洗作业对水资源的消耗和浪费，更加经济环保。PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21均采用现有技术即可。

在本实施例中，最下层的水盒3与槽体2的内壁之间的第一间隙4的下方水平且转动设有卸料输送网带22，卸料输送网带22由最下层水盒3的自由端至固定端所在方向输送且其尾端对应的槽体2的底部开设有排料口23，排料口23下方的底座1上设有顶部敞口的接料框24，使得在使用时，从最下层的清洗输送网带5的卸料端卸料的硅片可继续掉落到卸料输送网带22上，由卸料输送网带22将硅片输送到排料口23处并经排料口23将硅片卸料给接料框24，实现自动出料。

在本实施例中，卸料输送网带22的上半部分的上下方均设有气体分布器25，两气体分布器25的出气口相对设置。底座1上设有热风机26和气泵27，热风机26的出气口通过带有第二流量调节阀28的出气管29与气泵27的进气口连通，气泵27的出气口上连通有进气总管30，进气总管30上并联有两进气支管31，两进气支管31与两气体分布器25一一对应且其尾端由槽体2的后端伸入槽体2并与对应气体分布器25的后端连通。卸料输送的过程中，运行热风机26和气泵27，打开并调节好第二流量调节阀28，即可将热风机26出产的干燥热风经出气管29和气泵27输送给进气总管30，并经两进气支管31分流到两气体分布器25中，由气体分布器25朝向清洗后的硅片的上下两面喷出，从而能实现对清洗后的硅片的有效热风干燥处理，以尽快去除硅片表面残留的水分，更有利于对硅片的后续加工和使用。热风机26和气体分布器25均采用现有技术即可。

在本实施例中，接料框24的外侧壁上设有振动器32、下部内设有网板33，网板33下方的接料框24内设有红外线加热器34。实际使用时，可通过网板33来承载掉落到接料框24中的硅片，并能利用振动器32将承载的硅片分散摊匀。同时，运行红外线加热器34，利用其产生的辐射热能可进一步对硅片进行干燥处理，加快硅片表面残留水分的蒸发，不影响对硅片的后续加工和使用，使整个设备更加经济实用。

在本实施例中，清洗输送网带5和卸料输送网带22均包括两组机架35，清洗输送网带5所对应的一组机架35与对应水盒3的内底部固定连接、另一组机架35与对应水盒3的自由端外壁固定连接。卸料输送网带22所对应的两组机架35均固定在槽体2的内底部上。两组机架35上均转动设有滚筒36且其中一滚筒36传动连接有驱动机构37、两滚筒36之间连接有网状输送带38。实际使用时，可利用驱动机构37带有相应滚筒36转动，在同一组的两滚筒36相互配合下，即可带动相应网状输送带38转动，从而配合实现对硅片的输送。驱动机构37采用现有技术即可。网状输送带38的设置可配合实现对硅片上下两面的同时喷淋冲洗，以提高清洗效率。

在本实施例中，清洗输送网带5所对应的网状输送带38上间隔分布有若干弹性挡条39，可起到一定的缓冲防护和分隔限位作用，避免冲洗时因水流冲击力过大致使硅片产生较大位移，防止硅片重叠，更能保证逆流清洗作业顺利高效进行。

在本实施例中，底座1的底部呈矩形阵列间隔均布有若干支撑机构40，可对整个设备起到有效的稳固支撑固定作用。支撑机构40包括呈上下相对设置并均由泡沫铝制成的上减震支板4001和下减震支板4002，上减震支板4001与底座1固定连接，上减震支板4001与下减震支板4002之间连接有减震器4003，使得在使用时，可通过由具有高阻尼吸能减震性能的泡沫铝制成的上减震支板4001、下减震支板4002与两者之间的减震器4003的设置配合来起到优良的缓冲减震效果，从而更能有效保证设备工作时的平稳性，并降低设备运行时对周围环境的不利影响，使设备更加环保实用。减震器4003采用现有技术即可。下减震支板4002可通过化学螺栓41固定在地面上，可进一步增强整个设备固定的稳固牢靠性，尤其是化学螺栓41具有锚固力强、无膨胀应力、安装快捷、施工时间短等优点，且其还具有优良的耐酸碱、耐低温、耐老化、耐热、耐水渍阻燃、抗震等性能，更能保证对整个设备位置固定的长期稳定和有效性。

本实用新型的工作原理：使用时，可从最上层水盒3所对应的清洗输送网带5的上料端将待清洗的硅片有序放置到该清洗输送网带5上，由该清洗输送网带5带动硅片输送前进并在其卸料端将硅片卸料给其下方的另一清洗输送网带5，由另一清洗输送网带5带动硅片继续输送前进，以此类推，在相邻两清洗输送网带5的输送方向相反的设置配合下，即可实现对硅片的多次输送，使硅片有序从槽体2的上部运动到槽体2的下部。输送过程中，打开并调节好第一流量调节阀12，运行进水泵10，即可将水箱9中的清洗用水经出水管11、进水泵10抽送到进水总管14中，并经各进水支管15分流到各冲洗板7内，最后通过冲洗板7上的喷头8喷出，从而可实现对硅片上下两面的多次喷淋冲洗处理，且由于喷头8是朝向对应清洗输送网带5的上料端所在方向向下倾斜设置的，即清洗用水的喷射方向与硅片的运动方向相反，形成逆流，更能大大增强清洗效果，且避免了灰尘杂质对硅片的二次污染，更能保证清洗的效率和质量。清洗时，每次清洗产生的废水均可由对应的水盒3盛接，避免废水对下层清洗输送网带5上的硅片造成污染。同时，运行排水泵19和回水泵11，即可将各水盒3盛接的废水经排水支管17、排水总管16和输送管路18输送到PP棉滤芯过滤器20中。接着，废水能先后流经PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21，在PP棉滤芯过滤器20和陶瓷滤芯过滤器21的设置配合下，即可实现对废水的高效高质量的双重过滤净化处理。最后，在回水泵11的带动下，净化后的废水可重新回到水箱中循环使用；

清洗好后，从最下层的清洗输送网带5的卸料端卸料的硅片可继续掉落到卸料输送网带22上，由卸料输送网带22将硅片输送到排料口23处并经排料口23将硅片卸料给接料框24，实现自动出料。卸料输送的过程中，运行热风机26和气泵27，打开并调节好第二流量调节阀28，即可将热风机26出产的干燥热风经出气管29和气泵27输送给进气总管30，并经两进气支管31分流到两气体分布器25中，由气体分布器25朝向清洗后的硅片的上下两面喷出，从而能实现对清洗后的硅片的有效热风干燥处理，以尽快去除硅片表面残留的水分，更有利于对硅片的后续加工和使用。

以上所述仅为本实用新型的较佳实施例，并不用以限制本实用新型，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (7)

1.一种硅片逆流清洗槽，包括架设在一底座上且顶部敞口的槽体，其特征在于，所述槽体内呈上下间隔分布有若干顶部敞口的水盒，所述水盒水平设置且其一端为固定端并与相应槽体内壁固定连接、另一端为自由端并与相应槽体内壁之间留有第一间隙，相邻两水盒的固定端相反，每个水盒的上方均水平且转动设有清洗输送网带，所述清洗输送网带沿所对应水盒的固定端至自由端所在方向输送且其尾端延伸至第一间隙上方并与相应槽体内壁之间留有第二间隙，位于水盒上方的清洗输送网带的上半部分的上下方均设有中空的冲洗板，两冲洗板相对的一侧上均连通有若干喷头，所述喷头朝向对应的水盒固定端向下倾斜设置，所述底座上设有水箱、排水泵、PP棉滤芯过滤器和陶瓷滤芯过滤器，所述水箱上设有进水泵和回水泵，所述水箱的出水口通过带有第一流量调节阀的出水管与进水泵的进水口连通，所述进水泵的出水口连通有进水总管，所述进水总管上并联有若干进水支管，所述进水支管与冲洗板一一对应且其尾端由槽体后端伸入槽体并与对应的冲洗板后端连通，所述槽体的下部外侧套设有环状排水总管，所述水盒固定端均通过排水支管与排水总管连通，所述排水总管通过输送管路与排水泵的进水口连通，所述排水泵的出水口与PP棉滤芯过滤器的进水口连通，所述PP棉滤芯过滤器的出水口与陶瓷滤芯过滤器的进水口连通，所述陶瓷滤芯过滤器的出水口与回水泵的进水口连通，所述回水泵的出水口与水箱的进水口连通。

2.根据权利要求1所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，最下层的所述水盒与槽体内壁之间的第一间隙的下方水平且转动设有卸料输送网带，所述卸料输送网带由最下层水盒的自由端至固定端所在方向输送且其尾端对应的槽体底部开设有排料口，所述排料口下方的底座上设有顶部敞口的接料框。

3.根据权利要求2所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，所述卸料输送网带的上半部分的上下方均设有气体分布器，两气体分布器的出气口相对设置，所述底座上设有热风机和气泵，所述热风机的出气口通过带有第二流量调节阀的出气管与气泵的进气口连通，所述气泵的出气口上连通有进气总管，所述进气总管上并联有两进气支管，两进气支管与两气体分布器一一对应且其尾端由槽体后端伸入槽体并与对应气体分布器的后端连通。

4.根据权利要求2所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，所述接料框外侧壁上设有振动器、下部内设有网板，所述网板下方的接料框内设有红外线加热器。

5.根据权利要求2所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，所述清洗输送网带和卸料输送网带均包括两组机架，所述清洗输送网带所对应的一组机架与对应水盒的内底部固定连接、另一组机架与对应水盒的自由端外壁固定连接，所述卸料输送网带所对应的两组机架均固定在槽体内底部上，所述两组机架上均转动设有滚筒且其中一滚筒传动连接有驱动机构、两滚筒之间连接有网状输送带。

6.根据权利要求5所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，所述清洗输送网带所对应的网状输送带上间隔分布有若干弹性挡条。

7.根据权利要求1所述的硅片逆流清洗槽，其特征在于，所述底座的底部呈矩形阵列间隔均布有若干支撑机构，所述支撑机构包括呈上下相对设置并均由泡沫铝制成的上减震支板和下减震支板，所述上减震支板与底座固定连接，所述上减震支板与下减震支板之间连接有减震器，所述下减震支板可通过化学螺栓固定在地面上。

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