CN217863281U - Uv膜压局部铸造设备 - Google Patents

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CN217863281U CN202221825209.8U CN202221825209U CN217863281U CN 217863281 U CN217863281 U CN 217863281U CN 202221825209 U CN202221825209 U CN 202221825209U CN 217863281 U CN217863281 U CN 217863281U
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刘杰
马平霞
司卓凯
司鹏飞
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Abstract

本实用新型提供一种UV膜压局部铸造设备,通过基材的每个第一图案上涂覆的光油的尺寸与基材上的第一图案的尺寸一致,保证基材局部图案被准确套标涂覆光油。第二预设版距小于所述第一预设版距,以便在实际生产中将根据每张印刷品版距,实时拉伸UV膜的第二图案之间的版距到基材的第一图案的第一版距,以补偿消除累积误差,从而实现卷到卷局部连续铸造过程,可以解决UV膜加工工艺缺陷导致的UV膜版距差异问题。UV膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸,UV膜套印上的相对于第一图案多出的第二图案的部分将不会在光油压合体现,可以修正UV镭射膜上的每个第二图案的版距的拉伸实际值与基材上的对应一个第一图案的实际版距值的微小差别。

Description

UV膜压局部铸造设备
技术领域
本实用新型涉及一种UV膜压局部铸造设备。
背景技术
C平方工艺(C2),是一种UV膜压铸造工艺。英文名为Cast&Cure,两个单词各取首字母,就成了C平方名字的来源。它使用100%固含量的UV涂料,将UV涂料涂布在印刷品表面后,在涂布位置完成膜压动作的同时通过强紫外光固化涂料,模具与印刷品分离后模具上的图案效果在印刷品表面得到100%复制。模具起到的是复制及转移图案效果的作用。
C平方的工艺原理如上图所示,黄色代表印刷基材,紫色代表涂布的光油,蓝色代表铸造模具,锯齿面为模具有图案信息的一面。整个工艺分为两部分上光工艺及铸造工艺,基材可以是纸张、或者塑料薄膜等表面平整度高的材料,一般上光前的基材上已印刷了各种图案,根据工艺要求通过涂布设备的更换PS 版,树脂版,如图1所示,凹印版实现基材满版或对应图案局部UV涂料上光(如工艺原理步骤1).工艺原理步骤2、步骤3、步骤4、步骤5即为铸造工艺,模具一般采用用户设计图案的镭射薄膜,通过铸压辊压合镭射薄膜和已上光的基材,光油填充镭射薄膜表面的凸凹面,同时照射强紫外光固化涂料,使薄膜镭射效果转移到固化光油上,由于与镭射薄膜及基材的附着力相差较大,剥离镭射薄膜时固化光油及效果完整的保留在基材上,而镭射薄膜上几乎没有固化光油的残留。这样使用设计不同图案效果的镭射薄膜,通过C平方工艺既实现在印刷品表面实现满版或者局部镭射,雾面,镜面的不同视觉效果。也同时实现镭射薄膜的重复使用。
针对普通C平方工艺的加工,只能实现满幅镭射、雾面、镜面的效果,容易造成视觉疲劳,因而局部套标镭射,雾面,镜面效果是更理想的选择。局部镭射效果可有两种方式实现,一种为基材局部上光加运动方向条状镭射图案膜,这种方式局限为运动方向为简单同一图案铸造效果。另一种为基材局部上光加镭射膜局部套标方式,其优点为基材版距内局部图案可根据针对视觉效果设计任意变化不同镭射铸造效果并在此基础可以选择叠加工艺组合,生产不同效果的产品。
基材局部上光加镭射膜局部套标方式的实现的难点在于:
①理想状况下要实现镭射膜局部套标需要整卷镭射膜版距与基材版距相同,且每版距内局部套标图案位置在镭射膜与基材上相同。由于不同批次镭射膜厚度及厚度均匀性,镭射膜卷的热加工拉伸工艺,及镭射膜卷加工时张力一致性难以保证。镭射膜卷的热胀冷缩,镭射膜卷热态加工在存储冷却时,镭射膜卷内外卷芯受力不一致等众多因素导致镭射膜卷同卷内外版距存在较大偏差。不同批次生产,运输环境温度,使用环境温度及周转周期都会导致镭射膜版距的差异。由于上述原因同一规格镭射膜在使用时版距与理论版距相差2至5mm,且版距差值随机,这无法满足一般套标印刷的基本要求。
②C平方工艺为加工的后端工序,基材可能为纸、膜、复合膜等材质,尤其是膜和复合膜经过多次加工的基材,同样存在版距一致性较差,不同批次基材版距相差较大问题,这无法满足一般套标印刷的基本要求。
③C平方工艺的加工需要印刷品基材和镭射膜在转印时必须存在一定压力,并两者相对静止,不能存在滑动。也就是说非一致性版距尺寸UV镭射膜卷及基材实现卷到卷套标转印在常规方法上是不能通过整体调整材料的位置实现的,同时也解决不了累计误差。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种UV膜压局部铸造设备。
为解决上述问题,本实用新型提供一种UV膜压局部铸造设备,包括:
主辊筒9、基材进料张力辊40、出料辊42、设置于主辊筒9周围的C1加工工位和C2加工工位,主辊筒9由伺服电机驱动,上游的上光油后的基材经过基材张力辊40贴敷在主辊筒9的表面,UV膜上的第二图案转移到基材的固化的光油上后,基材通过主辊筒9的转动,输送到出料辊42,出料辊42由伺服电机驱动,经过出料辊42加工完的基材成品被输送到下一级存储设备,所述C1加工工位和C2加工工位上分别穿设有UV膜,其中,
所述C1加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C1放卷轴1、C1放卷浮辊 10、C1拉伸辊2、C1同步辊3、C1的UV主架31、C1收卷浮辊11和C1收卷轴 4,其中,C1的UV主架31上分别安装有C1前压辊32、C1后压辊34、C1前压辊气缸15、C1后压辊气缸16和C1的UV灯组33,C1前压辊32由C1前压辊气缸15控制上下移动,C1后压辊34由C1后压辊气缸16控制上下移动,C1的UV主架31由C1的UV主气缸14驱动控制上下运动;C1同步辊3的正上方设置有C1同步压辊22,C1同步压辊22由C1同步气缸44控制实现与C1同步辊3 的分离或合压;C1拉伸辊2的正上方设置有C1拉伸辊压辊23,C1拉伸辊压辊 23由C1拉伸辊气缸45控制实现与C1拉伸辊2的分离或合压,合压的C1同步辊3与C1拉伸辊2对C1同步辊3与C1拉伸辊2之间的UV膜进行动态拉伸; C1放卷轴1、C1同步辊22、C1拉伸辊2和C1收卷轴4分别由伺服电机驱动;
所述C2加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C2放卷轴5、C2放卷浮辊12、C2同步拉伸辊6、C2同步辊7、C2的UV主架37、C2收卷浮辊13和 C2收卷轴8,其中,C2的UV主架37上分别安装有C2前压辊19、C2后压辊20、 C2前压辊气缸38、C2后压辊气缸35和C2的UV灯组39,C2前压辊19由C2前压辊气缸38控制上下移动,C2后压辊20由C2后压辊气缸35控制上下移动, C2的UV主架37由C2的UV主气缸21驱动控制上下运动;C2同步辊7的正上方设置有C2同步压辊24,C2同步压辊24由C2同步气缸47控制实现与C2 同步压辊7的分离或合压;C2拉伸辊6的正上方设置有C2拉伸辊压辊25,C2 拉伸辊压辊25由C2拉伸辊气缸46控制实现与C2拉伸辊6的分离或合压,合压的C2同步辊7与C2拉伸辊6对C2同步辊7与C2拉伸辊6之间的UV膜进行动态拉伸;C2放卷轴5、C2同步辊7、C2拉伸辊6和C2收卷轴8分别由伺服电机驱动。
进一步的,在上述设备中,所述基材上按第一预设版距间隔设置有第一图案,每个第一图案上涂覆有光油,基材的每个第一图案上涂覆的光油的尺寸与基材上的第一图案的尺寸一致。
进一步的,在上述设备中,UV膜上的第二图案按第二预设版距设置,所述第二预设版距小于所述第一预设版距。
进一步的,在上述设备中,所述第二预设版距为所述第一预设版距的99.7%至98.7%。
进一步的,在上述设备中,所述UV膜上的每个第二图案的尺寸大于每个第一图案上涂覆的光油的尺寸。
进一步的,在上述设备中,所述UV膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸1mm至2mm。
进一步的,在上述设备中,所述述UV镭射膜上的第二图案的边缘比第一图案上的光油的边缘宽0.25mm至0.5mm。
进一步的,在上述设备中,第一色标传感器17,所述第一色标传感器17安装于基材进料张力辊40处,所述第一色标传感器17用于检测第一色标的实际位置;
第二色标传感器18,所述第二色标传感器18安装于C1同步辊3与前压辊 32之间,第二色标传感器18检测第二色标的实际位置。
每个第一图案上设置有第一色标,每个第二图案上设置有第二色标。
与现有技术相比,本实用新型通过基材的每个第一图案上涂覆的光油的尺寸与基材上的第一图案的尺寸一致,保证基材局部图案被准确套标涂覆光油。
另外,通过设置所述第二预设版距小于所述第一预设版距,以便在实际生产中将根据每张印刷品版距,实时拉伸UV镭射膜的第二图案之间的版距到基材的第一图案的第一版距,以补偿消除累积误差,从而实现卷到卷局部连续铸造过程,可以解决UV镭射膜加工工艺缺陷导致的镭射膜版距差异问题。
另外,通过设置UV镭射膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸,UV 镭射膜套印上的相对于第一图案多出的第二图案的部分将不会在光油压合体现,可以修正UV镭射膜上的每个第二图案的版距的拉伸实际值与基材上的对应一个第一图案的实际版距值的微小差别。
附图说明
图1是现有的UV涂料上光的示意图;
图2是本实用新型一实施例的UV膜压局部铸造设备的示意图。
具体实施方式
为使本实用新型的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂,下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细的说明。
如图2所示,本实用新型提供一种UV膜压局部铸造设备,包括:主辊筒9、基材进料张力辊40、出料辊42、设置于主辊筒9周围的C1加工工位和C2加工工位,主辊筒9由伺服电机驱动,上游的上光油后的基材经过基材张力辊40贴敷在主辊筒9的表面,UV膜上的第二图案转移到基材的固化的光油上后,基材通过主辊筒9的转动,输送到出料辊42,出料辊42由伺服电机驱动,经过出料辊42加工完的基材成品被输送到下一级存储设备,所述C1加工工位和C2加工工位上分别穿设有UV膜,其中,
所述C1加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C1放卷轴1、C1放卷浮辊 10、C1拉伸辊2、C1同步辊3、C1的UV主架31、C1收卷浮辊11和C1收卷轴 4,其中,C1的UV主架31上分别安装有C1前压辊32、C1后压辊34、C1前压辊气缸15、C1后压辊气缸16和C1的UV灯组33,C1前压辊32由C1前压辊气缸15控制上下移动,C1后压辊34由C1后压辊气缸16控制上下移动,C1的UV主架31由C1的UV主气缸14驱动控制上下运动;C1同步辊3的正上方设置有C1同步压辊22,C1同步压辊22由C1同步气缸44控制实现与C1同步辊3 的分离或合压;C1拉伸辊2的正上方设置有C1拉伸辊压辊23,C1拉伸辊压辊 23由C1拉伸辊气缸45控制实现与C1拉伸辊2的分离或合压,合压的C1同步辊3与C1拉伸辊2对C1同步辊3与C1拉伸辊2之间的UV膜进行动态拉伸; C1放卷轴1、C1同步辊22、C1拉伸辊2和C1收卷轴4分别由伺服电机驱动;
所述C2加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C2放卷轴5、C2放卷浮辊12、C2同步拉伸辊6、C2同步辊7、C2的UV主架37、C2收卷浮辊13和 C2收卷轴8,其中,C2的UV主架37上分别安装有C2前压辊19、C2后压辊20、 C2前压辊气缸38、C2后压辊气缸35和C2的UV灯组39,C2前压辊19由C2前压辊气缸38控制上下移动,C2后压辊20由C2后压辊气缸35控制上下移动, C2的UV主架37由C2的UV主气缸21驱动控制上下运动;C2同步辊7的正上方设置有C2同步压辊24,C2同步压辊24由C2同步气缸47控制实现与C2 同步压辊7的分离或合压;C2拉伸辊6的正上方设置有C2拉伸辊压辊25,C2 拉伸辊压辊25由C2拉伸辊气缸46控制实现与C2拉伸辊6的分离或合压,合压的C2同步辊7与C2拉伸辊6对C2同步辊7与C2拉伸辊6之间的UV膜进行动态拉伸;C2放卷轴5、C2同步辊7、C2拉伸辊6和C2收卷轴8分别由伺服电机驱动。
在此,C平方工艺在对卷筒材料加工时,设计了C1,C2两组C平方加工工位,配备了两组薄膜模具的收放卷,每组工位拥有独立的UV干燥系统,均可单独完成C平方工艺的膜压加工。两组系统呈卫星式布局于中心主辊筒9周围,共用中心压印滚筒。C1,C2往返交替,交替过程中生产不停,这样就可以在不更换产品的情况下实现不停机C平方工艺的加工。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,所述基材上按第一预设版距间隔设置有第一图案,每个第一图案上涂覆有光油,基材的每个第一图案上涂覆的光油的尺寸与基材上的第一图案的尺寸一致。
在此,在上光工艺中,局部上光光油的尺寸与印刷基材被上光的第一图案尺寸一致,局部上光可以采用凹印方式,保证基材局部图案被准确套标涂覆光油,一般印刷精度都能能够保证在0.2MM以内。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,UV膜上的第二图案按第二预设版距设置,所述第二预设版距小于所述第一预设版距。
在此,通过设置所述第二预设版距小于所述第一预设版距,以便在实际生产中将根据每张印刷品版距,实时拉伸UV镭射膜的第二图案之间的版距到基材的第一图案的第一版距,以补偿消除累积误差,从而实现卷到卷局部连续铸造过程,可以解决UV镭射膜加工工艺缺陷导致的镭射膜版距差异问题。
为了提高生产效率,减少辅材浪费,采用opp镭射膜材质,在单位版距长度可容许拉伸最大1.3%的长度且不褶皱,多次拉伸应力释放后形变回弹版距变化微小及平整度不变即镭射膜拉伸后可以完全回缩,从而保证拉伸工艺后UV镭射膜的重复使用。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,所述第二预设版距为所述第一预设版距的99.7%至98.7%。
在此,可以生产的冷态UV镭射膜上的第二图案的第二版距小于基材上的第一图案的版距的0.3%至1.3%。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,所述UV膜上的每个第二图案的尺寸大于每个第一图案上涂覆的光油的尺寸。
在此,通过设置UV镭射膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸,UV 镭射膜套印上的相对于第一图案多出的第二图案的部分将不会在光油压合体现,可以修正UV镭射膜上的每个第二图案的版距的拉伸实际值与基材上的对应一个第一图案的实际版距值的微小差别。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,所述UV膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸1mm至2mm。
在此,基于只有上光油的局部,才能做镭射效果。为了进一步减小UV镭射膜实时拉伸与对应基材版距的微小差距,设计UV镭射膜套标图案尺寸大于印刷基材被复合图案尺寸1mm至2mm,这样避免镭射膜的第二图案与基材的第一图案的小的位置偏差在基材上体现。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,所述述UV镭射膜上的第二图案的边缘比第一图案上的光油的边缘宽0.25mm至0.5mm。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,每个第一图案上设置有第一色标,每个第二图案上设置有第二色标。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,还包括:第一色标传感器 17,所述第一色标传感器17安装于基材进料张力辊40处,所述第一色标传感器17用于检测第一色标的实际位置。
在此,通过第一色标传感器17检测第一色标的实际位置,可以得到基材上第一图案之间的实际版距。
本实用新型的UV膜压局部铸造设备一实施例中,还包括:第二色标传感器18,所述第二色标传感器18安装于C1同步辊3与前压辊32之间,第二色标传感器18检测第二色标的实际位置。
在此,通过第二色标传感器18检测第二色标的实际位置,基于第二色标的实际位置,可以得到UV镭射膜上的第二图案之间的实际版距。
一种UV膜压局部铸造方法,采用上述任一实施例所述的UV膜压局部铸造设备,所述方法包括:
步骤S1,在基材的第一图案上涂覆光油,其中,将基材上的每个第一图案上的涂覆的光油的尺寸与在基材的第一图案的尺寸保持一致;
步骤S2,设置UV膜上的第二图案的第二预设版距小于基材上的第一图案的第一预设版距;
步骤S3,设置所述UV膜上的每个第二图案的尺寸,大于每个第一图案上涂覆的光油的尺寸;
步骤S4,在基材进料张力辊40处安装第一色标传感器17,在C1同步辊3 与前压辊32之间安装第二色标传感器18;
步骤S5,第一色标传感器17检测到基材上的第一图案的色标时,记录第一色标的位置并触发C1加工工位启动,C1加工工位输送UV膜并追踪基材的第一图案的第一色标,UV膜在同速于主辊筒9输送的基材的同时,UV膜上的第二色标与基材上的第一色标对位,实现基材上的第一图案与UV膜上的第二图案的初始位置对位,初始位置对位完成后,C1前压辊32和C1后压辊34下压UV膜至基材的同时,合压的C1同步辊3与C1拉伸辊2对C1同步辊3与C1拉伸辊2 之间的UV膜进行动态拉伸,其中,拉伸的功能由C1组的同步辊3与拉伸辊2 采用速度差实现;
在此,基材套标上光前,主辊筒9跟随前道工序同步运行,将基材送到后续设备。前级设备上光合压后,使基材局部套标上光得到第一图案。上光合压触发色标传感器17检测色标功能,色标传感器17检测到基材上的第一图案的色标时,记录第一色标的位置并触发C1加工工位启动;
优选的,采用电子凸轮控制方式或位置同步控制的方式,对C1同步辊3与 C1拉伸辊2进行拉伸控制,根据色标传感器17检测到的基材上的第一图案的版距实际值和色标传感器18监测到的UV膜上的第二图案的版距实际值得到的偏离值,基于偏离值对UV膜上的第二图案的实际版距进行周期性的和实时的调整拉C1同步辊3与C1拉伸辊2的电子延伸比例,进而对C1同步辊3与C1拉伸辊2之间的UV膜进行拉伸,通过拉伸使UV膜的实际版距趋近于基材上的第一图案的实际版距,并在同步辊3与C1前压辊32和C1后压辊34合压之间保持 UV膜的拉伸长度。通过上述措施实现卷到卷局部铸造工艺。
步骤S6,通过C1前压辊32在主辊筒9上将UV膜的第二图案和基材的第一图案上的光油压合,光油填充UV膜的第二图案的凸凹面,同时UV灯组33照射强紫外光固化光油,使UV膜的第二图案转移到固化的光油上;由于UV膜及基材的附着力相差较大,压合后的UV膜和基材在经过C1后压辊34后随着UV 膜和基材运动路径的不同而剥离,固化的光油及效果完整的保留在基材上;
步骤S7,剥离后的UV膜经c1收卷浮动辊11被C1收卷轴4收卷;
优选的,在C1收卷浮动辊11至收卷轴4这一运行区间为低张力区间,有利于镭射薄膜版距的回弹。在C1加工工位上的UV膜用完后,UV膜自动回卷准备下一次局部套标流程,在回卷过程中进一步释放镭射薄膜的应力,使UV膜的版距恢复到初始版距。保证拉伸工艺后UV膜的重复使用。
在此,本实施例仅以C1加工工位为例,C2加工工位的运行方式类似,在此不再赘述。
本实用新型设计了C1、C2两组C平方加工工位,配备了两组UV薄膜的收放卷,且每组工位拥有独立的UV固化系统,均可单独完成C平方工艺的膜压工艺。两组加工工位环绕于中心主辊筒9周围,共用中心主辊筒9。生产开始时, C1下降与主辊筒9合压,C1加工工位的UV灯组33开启,C2加工工位处于待命状态。当C1加工工位的模具放卷卷径减小到预警值后,发出工位交换信号,C2 加工工位开始启动追速,速度同步后发出工位同步的讯号,C2加工工位的UV系统下降与中心滚筒合压,且C2加工工位的UV膜提到正常功率开始生产,然后紧接着C1加工工位的UV系统提升,与主辊筒9离压,C1加工工位结束生产。当C1加工工位上升到起始位置后,C1加工工位开始倒卷运行即与C1正常运行方向相反,UV膜从满卷收卷轴放膜到空卷放卷轴,倒卷速度远大于生产速度,因而C2加工工位组正常生产结束前C1加工工位将完成倒卷,完成与C2加工工位交替工作的准备。当C2加工工位放卷卷径达到设定的预警值后,C1加工工位重复上述过程与C2的交换运行,并开始C2组倒卷,准备等待。如此C1加工工位、C2加工工位之间往返交替运行,交替运行过程中生产不停,这样就可以在不更换订单的情况下实现不停机C平方工艺膜压铸造的加工。
具体的,主辊筒9由伺服电机驱动,跟随前级工序的主速度,将基材输送到下级存储设备。在上游基材上光前,C1加工工位低速运行(C1同步辊合压,C1拉伸辊离压同速运行),直至C1加工工位的第二色标传感器18检测UV镭射膜的第二色标,C1加工工位停机完成镭射膜初始位置标定,等待启动追踪信号。在前设备准备上光就绪后,基材进料托辊40的第一色标传感器17检测到基材的第一色标,触发C1加工工位启动追踪信号,C1加工工位启动并追踪基材色标,控制镭射膜在同速于基材的同时镭射膜色标与基材色标对位,实现基材与UV镭射膜的初始位置对位,同时C1加工工位拉伸辊合压并启动第二色标传感器18 对UV镭射膜的版距测量。对位后基材与UV镭射膜压合进行铸造固化过程即C1 加工工位的UV主架31在C1加工工位的UV主气缸21控制下压,C1加工工位的UV灯组32下压至离主辊筒9一定距离,C1加工工位的UV主架31到位后 C1加工工位的前压辊气缸32和后压辊气缸5动作,控制C1前压辊33和C1 后压辊34与主辊筒9合压,使UV镭射膜与上光基材压合。C1拉伸辊合压并启动第二色标传感器18对UV镭射膜进行版距测量后,根据第一色标传感器17检测的基材的版距实际值和色标传感器18的测量的镭射膜版距的实际值得到的偏离值,每版距周期实时调整拉伸辊伺服的电子延伸比例,进而对同步辊与拉伸辊之间的镭射膜进行动态拉伸,通过拉伸使镭射膜版距等于实际进料版距,并在合压同步辊与合压前压辊之间保持,这样就实现了镭射膜与基材的相位同步,版距相等,进而实现镭射膜与基材的连续局部套标。UV镭射膜与上光基材压合,在高能UV灯组的照射下,光油固化,UV膜上图案转移到固化的光油上即基材上。由于基材和UV镭射膜运行路径不同和光油固化后与基材和镭射膜的附着力不同,在基材和UV镭射膜复合膜离开C1的UV31主架后,UV镭射膜与基材自动分离,镭射膜进入低张力区间版距自然回弹被C1收卷轴收卷。
C2组功能及运行流程与C1组相同,实现连续局部套标,并以“运行框架描述”实现C1、C2组的交替运行,从而实现连续不停机UV膜压局部铸造,并在C1,C2组分别回程(运行框架描述)中进一步使镭射膜版距自然充分回弹,保证拉伸工艺后镭射膜的重复使用,进而满足C1、C2组的交替局部套标运行时对UV镭射膜版距的要求。
本说明书中各个实施例采用递进的方式描述,每个实施例重点说明的都是与其他实施例的不同之处,各个实施例之间相同相似部分互相参见即可。
显然,本领域的技术人员可以对实用新型进行各种改动和变型而不脱离本实用新型的精神和范围。这样,倘若本实用新型的这些修改和变型属于本实用新型权利要求及其等同技术的范围之内,则本实用新型也意图包括这些改动和变型在内。

Claims (8)

1.一种UV膜压局部铸造设备,其特征在于,包括:
主辊筒(9)、基材进料张力辊(40)、出料辊(42)、设置于主辊筒(9)周围的C1加工工位和C2加工工位,主辊筒(9)由伺服电机驱动,上游的上光油后的基材经过基材进料张力辊(40)贴敷在主辊筒(9)的表面,UV膜上的第二图案转移到基材的固化的光油上后,基材通过主辊筒(9)的转动,输送到出料辊(42),出料辊(42)由伺服电机驱动,经过出料辊(42)加工完的基材成品被输送到下一级存储设备,所述C1加工工位和C2加工工位上分别穿设有UV膜,其中,
所述C1加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C1放卷轴(1)、C1放卷浮辊(10)、C1拉伸辊(2)、C1同步辊(3)、C1的UV主架(31)、C1收卷浮辊(11)和C1收卷轴(4),其中,C1的UV主架(31)上分别安装有C1前压辊(32)、C1后压辊(34)、C1前压辊气缸(15)、C1后压辊气缸(16)和C1的UV灯组(33),C1前压辊(32)由C1前压辊气缸(15)控制上下移动,C1后压辊(34)由C1后压辊气缸(16)控制上下移动,C1的UV主架(31)由C1的UV主气缸(14)驱动控制上下运动;C1同步辊(3)的正上方设置有C1同步压辊(22),C1同步压辊(22)由C1同步气缸(44)控制实现与C1同步辊(3)的分离或合压;C1拉伸辊(2)的正上方设置有C1拉伸辊压辊(23),C1拉伸辊压辊(23)由C1拉伸辊气缸(45)控制实现与C1拉伸辊(2)的分离或合压,合压的C1同步辊(3)与C1拉伸辊(2)对C1同步辊(3)与C1拉伸辊(2)之间的UV膜进行动态拉伸;C1放卷轴(1)、C1同步辊(3)、C1拉伸辊(2)和C1收卷轴(4)分别由伺服电机驱动;
所述C2加工工位按穿UV膜的路径,依次包括:C2放卷轴(5)、C2放卷浮辊(12)、C2同步拉伸辊(6)、C2同步辊(7)、C2的UV主架(37)、C2收卷浮辊(13)和C2收卷轴(8),其中,C2的UV主架(37)上分别安装有C2前压辊(19)、C2后压辊(20)、C2前压辊气缸(38)、C2后压辊气缸(35)和C2 的UV灯组(39),C2前压辊(19)由C2前压辊气缸(38)控制上下移动,C2后压辊(20)由C2后压辊气缸(35)控制上下移动,C2的UV主架(37)由C2的UV主气缸(21)驱动控制上下运动;C2同步辊(7)的正上方设置有C2同步压辊(24),C2同步压辊(24)由C2同步气缸(47)控制实现与C2同步压辊(24)的分离或合压;C2拉伸辊(6)的正上方设置有C2拉伸辊压辊(25),C2拉伸辊压辊(25)由C2拉伸辊气缸(46)控制实现与C2拉伸辊(6)的分离或合压,合压的C2同步辊(7)与C2拉伸辊(6)对C2同步辊(7)与C2拉伸辊(6)之间的UV膜进行动态拉伸;C2放卷轴(5)、C2同步辊(7)、C2拉伸辊(6)和C2收卷轴(8)分别由伺服电机驱动。
2.如权利要求1所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,所述基材上按第一预设版距间隔设置有第一图案,每个第一图案上涂覆有光油,基材的每个第一图案上涂覆的光油的尺寸与基材上的第一图案的尺寸一致。
3.如权利要求2所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,UV膜上的第二图案按第二预设版距设置,所述第二预设版距小于所述第一预设版距。
4.如权利要求3所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,所述第二预设版距为所述第一预设版距的99.7%至98.7%。
5.如权利要求2所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,所述UV膜上的每个第二图案的尺寸大于每个第一图案上涂覆的光油的尺寸。
6.如权利要求5所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,所述UV膜上的第二图案大于第一图案上的光油的尺寸1mm至2mm。
7.如权利要求5所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,所述述UV镭射膜上的第二图案的边缘比第一图案上的光油的边缘宽0.25mm至0.5mm。
8.如权利要求2所述的UV膜压局部铸造设备,其特征在于,还包括:
第一色标传感器(17),所述第一色标传感器(17)安装于基材进料张力辊(40)处,所述第一色标传感器(17)用于检测第一色标的实际位置;
第二色标传感器(18),所述第二色标传感器(18)安装于C1同步辊(3) 与前压辊(32)之间,第二色标传感器(18)检测第二色标的实际位置;
每个第一图案上设置有第一色标,每个第二图案上设置有第二色标。
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