CN217797609U - 一种单晶硅片水洗脱胶装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种单晶硅片水洗脱胶装置，包括外防护脱胶柜，所述外防护脱胶柜内部设置有脱胶槽，所述脱胶槽内部设置有升降固定平台，所述升降固定平台内部结构中设置有液压底座，所述液压底座输出端设置有液压升降杆，所述液压升降杆另一端设置有控制平台，所述控制平台内部设置有驱动马达，所述驱动马达输出端固定连接有螺纹丝杆，所述螺纹丝杆外螺纹连接有移动块，通过其内部设置的驱动马达，能够带动其输出端固定连接的螺纹丝杆转动，进而带动其外部螺纹连接的两个移动块进行移动，利用螺纹丝杆外设置的相反方向螺纹，能够使两个移动块相对移动，从而带动其一端设置的软质固定板相对移动，以达到固定单晶硅片的目的。

Description

一种单晶硅片水洗脱胶装置

技术领域

本实用新型属于单晶硅生产制造技术领域，具体涉及一种单晶硅片水洗脱胶装置。

背景技术

单晶硅是一种比较活泼的非金属元素，是晶体材料的重要组成部分，处于新材料发展的前沿。其主要用途是用作半导体材料和利用太阳能光伏发电、供热等。由于太阳能具有清洁、环保、方便等诸多优势，近三十年来，太阳能利用技术在研究开发、商业化生产、市场开拓方面都获得了长足发展，成为世界快速、稳定发展的新兴产业之一，单晶硅可以用于二极管级、整流器件级、电路级以及太阳能电池级单晶产品的生产和深加工制造，其后续产品集成电路和半导体分离器件已广泛应用于各个领域，在军事电子设备中也占有重要地位。

在单晶硅片的生产过程中须经严格清洗，微量污染也会导致器件失效，清洗目的在于清除表面污染杂质，包括有机物和无机物。这些杂质有的以原子状态或离子状态，有的以薄膜形式或颗粒形式存在于硅片表面，会导致各种缺陷，然而，现有的硅片水洗装置的清洗效果不好，清洗后的硅片表面存在脱胶不彻底的现象，降低了单晶硅片的成品率，不利于单晶硅片的生产，另一方面，现有技术中的单晶硅水洗脱胶装置在使用后无法很好的解决单晶硅片表面干燥问题，为了解决这些问题，我们提出一种单晶硅片水洗脱胶装置。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是克服现有的缺陷，提供一种单晶硅片水洗脱胶装置，以解决上述背景技术中提出的清洗效果不好，清洗后的硅片表面存在脱胶不彻底的现象，以及在使用后无法很好的解决单晶硅片表面干燥不彻底的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种单晶硅片水洗脱胶装置，包括外防护脱胶柜，所述外防护脱胶柜内部设置有脱胶槽，所述脱胶槽内部设置有升降固定平台，所述升降固定平台内部结构中设置有液压底座，所述液压底座输出端设置有液压升降杆，所述液压升降杆另一端设置有控制平台，所述控制平台内部设置有驱动马达，所述驱动马达输出端固定连接有螺纹丝杆，所述螺纹丝杆外螺纹连接有移动块，所述移动块设置有两个，两个所述移动块一端均设置有软质固定板，所述外防护脱胶柜顶端设置有液压装置，所述液压装置一端设置有液压伸缩杆，所述液压伸缩杆另一端设置有滑动板，所述滑动板底端设置有驱动电机，所述驱动电机输出端固定连接有脱胶刷头。

优选的，所述螺纹丝杆外设置有相反方向的螺纹，所述螺纹丝杆上下侧均设置有导向杆。

优选的，所述外防护脱胶柜内部两侧均设置有第二滑槽，所述滑动板滑动连接在第二滑槽内部。

优选的，所述外防护脱胶柜两侧均设置有鼓风装置，所述鼓风装置与外防护脱胶柜之间均设置有透风网。

优选的，所述外防护脱胶柜底端设置有支撑腿，所述支撑腿设置有四个，所述外防护脱胶柜一侧设置有控制屏幕，所述控制屏幕与驱动马达之间为电连接。

优选的，所述脱胶槽底端设置有供电装置，所述供电装置设置有若干个。

优选的，所述脱胶槽内部设置有电热管，所述电热管设置有若干个，所述电热管与供电装置之间为电连接。

优选的，所述控制平台一侧设置有第一滑槽，所述软质固定板滑动连接在第一滑槽内部，所述软质固定板的材质均为聚乙烯塑料泡沫。

与现有技术相比，本实用新型提供了一种单晶硅片水洗脱胶装置，具备以下有益效果：

1、本实用新型通过设置的升降固定平台，利用升降固定平台内部结构中设置的控制平台，能够对单晶硅片进行固定，以便对其进行脱胶处理，在使用时，通过其内部设置的驱动马达，能够带动其输出端固定连接的螺纹丝杆转动，进而带动其外部螺纹连接的两个移动块进行移动，利用螺纹丝杆外设置的相反方向螺纹，能够使两个移动块相对移动，从而带动其一端设置的软质固定板相对移动，以达到固定单晶硅片的目的；

2、本实用新型通过设置的液压装置，能够带动脱胶刷头对单晶硅片表面进行脱胶处理，在使用时，通过液压装置的运行，能够带动其输出端的液压伸缩杆进行移动，进而带动滑动板以及滑动板底端设置的驱动电机进行移动，通过驱动电机的运行，能够带动脱胶刷头进行转动，以达到对单晶硅片表面脱胶的目的，同时，通过脱胶槽底端设置的供电装置，能够使脱胶槽内部的电热管进行发热，从而使脱胶槽内部的水体温度上升，从而使单晶硅片表面的胶体更加容易消除；

3、本实用新型通过设置的鼓风装置，能够对单晶硅片进行干燥处理，当单晶硅片表面胶体消除完毕后，通过升降固定平台内部结构中设置的液压底座，能够对控制平台的位置进行调节，使控制平台脱离水体，再通过外防护脱胶柜两侧设置的鼓风装置，能够对单晶硅片表面残留的水分进行充分地干燥处理。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解，并且构成说明书的一部分，与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的限制，在附图中：

图1为本实用新型提出的一种单晶硅片水洗脱胶装置的结构示意图；

图2为本实用新型提出的一种单晶硅片水洗脱胶装置的正视图；

图3为本实用新型提出的一种单晶硅片水洗脱胶装置中外防护脱胶柜的内部俯视图；

图4为本实用新型提出的一种单晶硅片水洗脱胶装置中升降固定平台的剖视图；

图中：1、外防护脱胶柜；2、脱胶槽；3、供电装置；4、电热管；5、升降固定平台；6、液压底座；7、液压升降杆；8、控制平台；9、驱动马达；10、螺纹丝杆；11、移动块；12、导向杆；13、软质固定板；14、第一滑槽；15、液压装置；16、液压伸缩杆；17、滑动板；18、第二滑槽；19、驱动电机；20、脱胶刷头；21、鼓风装置；22、透风网；23、控制屏幕；24、支撑腿。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：一种单晶硅片水洗脱胶装置，包括外防护脱胶柜1，外防护脱胶柜1内部设置有脱胶槽2，脱胶槽2内部设置有升降固定平台5，升降固定平台5内部结构中设置有液压底座6，液压底座6输出端设置有液压升降杆7，液压升降杆7另一端设置有控制平台8，控制平台8内部设置有驱动马达9，驱动马达9输出端固定连接有螺纹丝杆10，螺纹丝杆10外螺纹连接有移动块11，移动块11设置有两个，两个移动块11一端均设置有软质固定板13，外防护脱胶柜1顶端设置有液压装置15，液压装置15一端设置有液压伸缩杆16，液压伸缩杆16另一端设置有滑动板17，滑动板17底端设置有驱动电机19，驱动电机19输出端固定连接有脱胶刷头20，通过设置的液压装置15，能够带动脱胶刷头20对单晶硅片表面进行脱胶处理。

本实用新型中，优选的，螺纹丝杆10外设置有相反方向的螺纹，螺纹丝杆10上下侧均设置有导向杆12，利用螺纹丝杆10外设置的相反方向螺纹，能够使两个移动块11相对移动，从而带动其一端设置的软质固定板13相对移动，以达到固定单晶硅片的目的。

本实用新型中，优选的，外防护脱胶柜1内部两侧均设置有第二滑槽18，滑动板17滑动连接在第二滑槽18内部。

本实用新型中，优选的，外防护脱胶柜1两侧均设置有鼓风装置21，鼓风装置21与外防护脱胶柜1之间均设置有透风网22。

本实用新型中，优选的，外防护脱胶柜1底端设置有支撑腿24，支撑腿24设置有四个，外防护脱胶柜1一侧设置有控制屏幕23，控制屏幕23与驱动马达9之间为电连接。

本实用新型中，优选的，脱胶槽2底端设置有供电装置3，供电装置3设置有若干个。

本实用新型中，优选的，脱胶槽2内部设置有电热管4，电热管4设置有若干个，电热管4与供电装置3之间为电连接，通过脱胶槽2底端设置的供电装置3，能够使脱胶槽2内部的电热管4进行发热，从而使脱胶槽2内部的水体温度上升，从而使单晶硅片表面的胶体更加容易消除。

本实用新型中，优选的，控制平台8一侧设置有第一滑槽14，软质固定板13滑动连接在第一滑槽14内部，软质固定板13的材质均为聚乙烯塑料泡沫。

本实用新型的工作原理及使用流程：使用时，通过设置的升降固定平台5，利用升降固定平台5内部结构中设置的控制平台8，能够对单晶硅片进行固定，以便对其进行脱胶处理，在使用时，通过其内部设置的驱动马达9，能够带动其输出端固定连接的螺纹丝杆10转动，进而带动其外部螺纹连接的两个移动块11进行移动，利用螺纹丝杆10外设置的相反方向螺纹，能够使两个移动块11相对移动，从而带动其一端设置的软质固定板13相对移动，以达到固定单晶硅片的目的，通过设置的液压装置15，能够带动脱胶刷头20对单晶硅片表面进行脱胶处理，在使用时，通过液压装置15的运行，能够带动其输出端的液压伸缩杆16进行移动，进而带动滑动板17以及滑动板17底端设置的驱动电机19进行移动，通过驱动电机19的运行，能够带动脱胶刷头20进行转动，以达到对单晶硅片表面脱胶的目的，同时，通过脱胶槽2底端设置的供电装置3，能够使脱胶槽2内部的电热管4进行发热，从而使脱胶槽2内部的水体温度上升，从而使单晶硅片表面的胶体更加容易消除，通过设置的鼓风装置21，能够对单晶硅片进行干燥处理，当单晶硅片表面胶体消除完毕后，通过升降固定平台5内部结构中设置的液压底座6，能够对控制平台8的位置进行调节，使控制平台8脱离水体，再通过外防护脱胶柜1两侧设置的鼓风装置21，能够对单晶硅片表面残留的水分进行充分地干燥处理。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (8)

1.一种单晶硅片水洗脱胶装置，包括外防护脱胶柜(1)，其特征在于：所述外防护脱胶柜(1)内部设置有脱胶槽(2)，所述脱胶槽(2)内部设置有升降固定平台(5)，所述升降固定平台(5)内部结构中设置有液压底座(6)，所述液压底座(6)输出端设置有液压升降杆(7)，所述液压升降杆(7)另一端设置有控制平台(8)，所述控制平台(8)内部设置有驱动马达(9)，所述驱动马达(9)输出端固定连接有螺纹丝杆(10)，所述螺纹丝杆(10)外螺纹连接有移动块(11)，所述移动块(11)设置有两个，两个所述移动块(11)一端均设置有软质固定板(13)，所述外防护脱胶柜(1)顶端设置有液压装置(15)，所述液压装置(15)一端设置有液压伸缩杆(16)，所述液压伸缩杆(16)另一端设置有滑动板(17)，所述滑动板(17)底端设置有驱动电机(19)，所述驱动电机(19)输出端固定连接有脱胶刷头(20)。

2.根据权利要求1所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述螺纹丝杆(10)外设置有相反方向的螺纹，所述螺纹丝杆(10)上下侧均设置有导向杆(12)。

3.根据权利要求2所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述外防护脱胶柜(1)内部两侧均设置有第二滑槽(18)，所述滑动板(17)滑动连接在第二滑槽(18)内部。

4.根据权利要求3所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述外防护脱胶柜(1)两侧均设置有鼓风装置(21)，所述鼓风装置(21)与外防护脱胶柜(1)之间均设置有透风网(22)。

5.根据权利要求4所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述外防护脱胶柜(1)底端设置有支撑腿(24)，所述支撑腿(24)设置有四个，所述外防护脱胶柜(1)一侧设置有控制屏幕(23)，所述控制屏幕(23)与驱动马达(9)之间为电连接。

6.根据权利要求5所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述脱胶槽(2)底端设置有供电装置(3)，所述供电装置(3)设置有若干个。

7.根据权利要求6所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述脱胶槽(2)内部设置有电热管(4)，所述电热管(4)设置有若干个，所述电热管(4)与供电装置(3)之间为电连接。

8.根据权利要求7所述的一种单晶硅片水洗脱胶装置，其特征在于：所述控制平台(8)一侧设置有第一滑槽(14)，所述软质固定板(13)滑动连接在第一滑槽(14)内部，所述软质固定板(13)的材质均为聚乙烯塑料泡沫。

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