CN217693751U - 线圈盘以及电磁加热烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种线圈盘以及电磁加热烹饪器具，所述线圈盘包括盘座、线圈绕组和磁体结构，盘座上有第一绕线区和环设于所述第一绕线区的外围的第二绕线区，线圈绕组包括对应设于所述第一绕线区和所述第二绕线区的第一线圈绕组和第二线圈绕组，磁体结构设置在所述盘座上且其在所述盘座上的投影落在所述第一绕线区的外围，所述磁体结构包括对应所述第二绕线区设置多个磁体，本实用新型提供的技术方案可以改善线圈盘的加热均匀性的问题。

Description

线圈盘以及电磁加热烹饪器具

技术领域

本实用新型涉及电磁加热装置技术领域，具体涉及一种线圈盘以及电磁加热烹饪器具。

背景技术

电磁加热是采用线圈盘作为磁场提供者，通过磁场对锅具作用而产生加热电流，加热电流作用于烹饪锅具上产生热量，所以其热效率是大大高于传统明火的热效率，为此一直是现代人们受欢迎的加热方式。

传统电磁加热线圈盘，线圈盘磁场都为从中心出发，到线盘边缘中止，形成闭合的回路，其线盘靠近中心区域磁场强度强，边缘磁场弱，导致电磁炉单位面积功率密度高，用户反馈使用时火力集中在锅底一小部分，非常容易造成糊底烧锅，火力不好控制，烹饪时炒菜易过老。

针对此种问题，现有常规的电磁加热线圈盘为圆形单环或者双环绕线，在线圈盘的底部设置磁条，如图1所示，磁条1’自线圈2’的内侧延伸至外侧，磁条1’可以增加磁场强度、改变磁场方向的作用，使磁力线更多沿线圈的径向分布，但是也会导致中心区域的磁场较少，线圈盘中心不加热的盲区越大，影响加热均匀性。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提出一种线圈盘以及电磁加热烹饪器具，旨在可以改善加热集中的问题，而提高加热的均匀性。

为实现上述目的，本实用新型提出一种线圈盘，包括：

盘座，其上有第一绕线区、和环设于所述第一绕线区的外围的第二绕线区；

线圈绕组，包括对应设于所述第一绕线区和所述第二绕线区的第一线圈绕组和第二线圈绕组；以及，

磁体结构，设置在所述盘座上，且其在所述盘座上的投影落在所述第一绕线区的外围，所述磁体结构包括对应所述第二绕线区设置多个磁体。

可选地，所述第二线圈绕组具有相对设置第一侧和第二侧，其中，所述第二线圈绕组的第一侧用以朝向锅具设置，所述磁体自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸，以具有靠近所述第二绕线区中心的第一端、以及靠近所述第二绕线区的外周的第二端：

其中，至少部分所述磁体的第一端和/或第二端超出所述第二绕线区设置；和/或，

所述磁体的第一端超出所述第二绕线区设置，其上凸设有位于所述第二线圈绕组的内侧的第一凸部；和/或，

所述磁体的第二端超出所述第二绕线区设置，且其上凸设有位于所述第二线圈绕组的外侧的第二凸部。

可选地，所述磁体结构还包括环设所述第一线圈绕组外围、且位于所述第二线圈绕组的内侧的磁环。

可选地，所述磁体设于所述第二线圈绕组的第二侧，且自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸；

所述磁环与至少部分所述磁体的第一端接触。

可选地，所述磁体的第一端超出所述第二绕线区设置，其上凸设有位于所述第二线圈绕组的内侧的第一凸部，所述第一凸部与所述磁环接触。

可选地，所述第二绕线区包括第二内侧绕线区、以及环设在所述第二内侧绕线区的外围的第二外侧绕线区；

所述第二线圈绕组包括对应设置在所述第二内侧绕线区和所述第二外侧绕线区的第二内侧线圈绕组和第二外侧线圈绕组。

可选地，所述第一线圈绕组的匝数为n1，所述线圈绕组的总匝数为N，n1≤0.4N；和/或，

所述第一线圈绕组和所述第二线圈绕组串联；和/或，

所述第一线圈绕组和所述第二线圈绕组的层数不等；

所述第一线圈绕组和/或所述第二线圈绕组的层数大于等于1层，小于等于5层。

可选地，所述第一绕线区和/或所述第二绕线区设置有线扣结构，所述线扣结构包括第一扣和第二扣，所述第一扣和所述第二扣的一端与所述盘座连接，所述第二扣的另一端与所述盘座相间隔，且所述第二扣的另一端与所述第一扣的另一端在所述盘座的厚度方向上存在落差。

可选地，所述第二扣自其一端朝另一端的方向上呈渐宽设置。

本实用新型还提供一种电磁加热烹饪器具，包括线圈盘，所述线圈盘包括：

盘座，其上形成有呈内外圈设置的第一绕线区和第二绕线区；

线圈绕组，包括对应设于所述第一绕线区和所述第二绕线区的第一线圈绕组和第二线圈绕组；以及，

磁体结构，设置在所述盘座上且对应所述第一绕线区的外围设置，所述磁体结构包括对应所述第二绕线区设置多个磁体。

本实用新型的技术方案中，在对应第二绕线区的位置设置有磁体，以在该磁体的导磁作用下，第二线圈绕组产生的磁场能够均匀地分布到第二绕线区的各个区域，以可以改善第二线圈绕组加热的均匀性，此外，因为在第一绕线区域没有设置磁体结构，为此，使得第一线圈绕组产生的磁场分布在第一绕线区，而不会被磁体结构导引至其他区域，为此，第一线圈绕组会在其中心区域以及其对应的区域均分布有磁场，从而，中心区域没有分布磁场而存在加热盲区而导致加热不均匀的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为现有技术中的线圈盘的线圈与磁条的分布示意图；

图2为一电磁烹饪器具的侧视示意图；

图3为图2中的加热座在移除上盖后的示意图；

图4为本实用新型提供的线圈盘的一实施例的立体示意图；

图5为图4中的磁体与第二线圈绕组的一种分布方式的示意图；

图6为图4中的磁体与第二线圈绕组的另一种分布方式的示意图；

图7a至图7d为图4中磁体与第二线圈绕组另外几种分布方式的示意图；

图8为本实用新型提供的线圈盘的又一实施例的立体示意图；

图9为图8的剖视示意图；

图10为图8的立体分解示意图；

图11为图8的线圈盘的另一实施方式；

图12为图11中的磁体的立体示意图；

图13为本实用新型提供的线圈盘的另一实施例的立体示意图；

图14为图13的立体分解示意图；

图15为图13的剖视示意图；

图16为图13的倒转后的立体示意图；

图17为测试用的锅具的示意图；

图18为图17的锅具在本实用新型的实施例提供的电磁炉加热时的温度曲线图；

图19为图17的锅具在市面上一种电磁炉(即老品1)加热时的温度曲线图；

图20为图17的锅具在市面上另一种电磁炉(即老品2)加热时的温度曲线图；

图21为本实用新型的实施例与老品1和老品2的标准差的图示；

图22为本实用新型的实施例与老品1和老品2的极差的图示。

附图标号说明：

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，全文中出现的“和/或”的含义，包括三个并列的方案，以“A和/或B”为例，包括A方案、或B方案、或A和B同时满足的方案。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

电磁加热烹饪器具包括但不限于电磁炉、电饭煲、电压力锅、烹饪机等等等，凡是采用电磁方式加热的烹饪器具均可以理解为本申请的电磁加热烹饪器具，如图2至图3所示，所述电磁加热烹饪器具100通常包括加热座101和锅具102，以电磁炉为例，所述加热座101即为电磁炉加热平台。所述加热座101中设置有线圈盘101a，此外其中还设置有电路板、散热用的风扇等等，通过所述线圈盘101a产生可变磁场，对锅具102进行加热。

线圈盘101a产生的磁场会在对应线圈绕组2的中部(对于环形线圈就是环形区域的中间环区域)位置产生磁场强区，而其他区域会产生磁场弱区，为此会导致加热的均匀性不好，为了提高加热的均匀性，会设置磁条，在线圈盘的底部设置磁条，如图1所示，磁条1’自线圈2’的内侧延伸至外侧，磁条1’可以增加磁场强度、改变磁场方向的作用，使磁力线更多沿线圈的径向分布，但是也会导致中心区域的磁场较少，线圈盘101a中心不加热的盲区越大，影响加热均匀性。

针对此，本申请通过对线圈盘进行改进以，本实用新型提出一种线圈盘，图4为本实用新型提供的线圈盘的一实施例，图5至图7d为图中的线圈盘的磁条和第二线圈绕组不同的实施方式，图8至图12为本实用新型提供的线圈盘的另一实施例，图13至图16为本实用新型提供的线圈盘的又一实施例，在后续均成为本实用新型的实施例。

请参阅图4至图5，在本实用新型的实施例中，所述线圈盘101a包括盘座1、线圈绕组2和磁体结构3。

所述盘座1可以是平型盘座1，也可以是凹型盘座1，对于平型盘座1其大致呈平板状，一般适用于电磁炉，对于凹型盘座1呈中部下凹的形状，一般适用于电饭煲、压力锅等等，具体地，在本实施例中，所述盘座1为平型盘座1，所述盘座1上形成有第一绕线区11和第二绕线区12，所述第二绕线区12环设在所述第一绕线区11的外围，且所述第一绕线区11对应所述盘座1的中心设置。

所述线圈绕组2具有相对的第一侧和第二侧，其中第一侧为在工作时，朝向加热件即锅具102的一侧，第二侧为与所述第一侧相背对的一侧，所述线圈绕组2包括第一线圈绕组21和第二线圈绕组22，所述第一线圈绕组21设于所述第一绕线区11，所述第二线圈绕组22设于所述第二绕线区12，所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22的具体设置方式不做限制，可以是在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12设置绕线结构，所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22对应绕制在所述第一绕线区11和第二绕线区12，也可以是提前制作为第一线圈绕组21和第二线圈绕组22，而将所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22对应安装在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12，例如可以通过粘胶粘结固定。

所述磁体结构3设置在所述盘座1上，且其在所述盘座1上的投影落在所述第一绕线区11的外围，也即在所述第一绕线区11没有设置磁体结构3，进而使得所述第一绕线区11上磁场不会受到所述磁体结构3的聚集和导引的影响，所述磁体结构3包括多个磁体31，所述多个磁体31对应所述第二绕线区12设置，以对所述第二绕线区12域上的第二线圈绕组22产生的磁场进行导引。

本实用新型的技术方案中，在对应第二绕线区12的位置设置有磁体31，以在该磁体31的导磁作用下，第二线圈绕组22产生的磁场能够均匀地分布到第二绕线区12的各个区域，以可以改善第二线圈绕组22加热的均匀性，此外，因为在第一绕线区11域没有设置磁体结构3，为此，使得第一线圈绕组21产生的磁场分布在第一绕线区11，而不会被磁体结构3导引至其他区域，为此，第一线圈绕组21会在其中心区域以及其对应的区域均分布有磁场，从而，中心区域没有分布磁场而存在加热盲区而导致加热不均匀的问题。

所述磁体31主要起到对所述第二线圈绕组22产生的磁场进行导引，为此，所述磁体31的分布区域和尺寸会对于所述第二线圈绕组22产生的磁场分布产生明显的影响，为此，可以对所述磁体31进行相关设计以改变所述第二线圈绕组22的磁场分布。所述磁体31自所述第二绕线区12的外周朝中心方向延伸延伸呈长条状，以对应形成靠近所述第一绕线区11的第一端和远离所述第一绕线区11的第二端，为了使得第二线圈绕组22产生的磁场能够分布到所述第一绕线区11和所述第二绕线区12之间的间隙处，如图6所示，在本实用新型的实施例中，至少部分所述磁体31的第一端向所述第一绕线区11超出所述第二绕线区12设置，以将所述第二线圈绕组22产生的磁场向内导引。

进一步地，请参阅图8至图12，在本实用新型的实施例中，所述磁体31的第一端的一侧朝所述第二线圈绕组22的第一侧凸设有第一凸部311，以通过所述第一凸部311将磁场导引到所述第二绕线区12的内侧。

为了使得所述第二线圈绕组22产生的磁场能够向所述第二绕线区12的外围分布，请参阅图7a至图7d，至少部分所述磁体31的第二端向外超出所述第二绕线区12设置。

进一步地，进一步地，请参阅图8至图12，在本实用新型的实施例中，所述磁体31的第二端的一侧朝所述第二线圈绕组22的第一侧凸设有第二凸部312，以通过所述第二凸部312将磁场导引到所述第二绕线区12的外侧。

显然，也可以同时提高所述第二绕线区12的内侧和外围的磁场强度，如图7a至7d所示，将至少部分所述磁体31的第一端和第二端对应向内和向外超出所述第二绕线区12设置。

所述第二线圈绕组22产生的磁场会对所述第一线圈绕组21产生的磁场有影响，在有些情况下，该种影响可能是有利于第一线圈绕组21产生磁场分布的均匀性，而在另一些情况下，该种影响可能是不利于第一线圈绕组21产生磁场分布的均匀性，为此，为了避免两者产生不利的影响，请参阅图12至图16，在本实用新型的实施例中，所述磁体结构3还包括环设所述第一线圈绕组21外围、且位于所述第二线圈绕组22的内侧的磁环32，以通过所述磁环32的隔离作用，以避免所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22产生的磁场相互影响。

显然因为所述磁环32的存在，会使得阻隔所述第一线圈绕组21的磁场向外分布，同时也会阻隔所述第二线圈绕组22产生的磁场向内分布，进而使得所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22之间的区域会存在磁场弱区，进而不利于加热的均匀性，为此，在本实用新型的实施例中，请具体参阅图11和图12，所述磁体31设于所述第二线圈绕组22的第二侧，且自所述第二绕线区12的外周朝中心方向延伸，所述磁环32与至少部分所述磁体31的第一端接触，为此，所述磁环32因与所述磁体31接触，以可以将磁体31对应的磁场导引至所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22之间的区域，以可以提高该区域的磁场强度，而有利于加热的均匀性。进一步地，在基于所述磁体31的第一端设有所述第一凸部311，所述第一凸部311与所述磁环32接触，同时通过所述第一凸部311和所述第二凸部312以增强该区域的磁场强度，以避免在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12之间的区域形成加热盲区。

所述第二绕线区12可以将其自内向外分为内环、中环和外环，若该所述第二绕线区12是一个整体的区域，如图6所示，即相应地所述第二线圈绕组22为一个整线圈，则由前述的介绍可知中环对应的磁场强度最大，而内环和外环会减弱，进而不利于磁场分布的均匀性，当然在本实用新型的一些实施例中，如图7a至图7d所示，将所述第二绕线区12沿内外分布为多个区域，具体地，所述第二绕线区12包括第二内侧绕线区121和第二外侧绕线区122，所述第二外侧绕线区122环设在所述第二内侧绕线区121的外围，相应地，所述第二线圈绕组22包括第二内侧线圈绕组221和第二外侧线圈绕组222，所述第二内侧线圈绕组221设置在所述第二内侧绕线区121，所述第二外侧线圈绕组222设置在所述第二外侧绕线区122，为此可以通过将所述第二绕线区12分为多个绕线区，以可以进一步增强第二绕线区12磁场分布的均匀性。

所述第一线圈绕组21的匝数为n1，所述线圈绕组2的总匝数为N，n1与N之间的比值不能过高，过高的话，所述第一线圈绕组21产生的磁场强度就过大，使得所述第一绕线区11域以及其内侧所产生的磁场强度就太大，进而影响整个线圈绕组2产生的磁场强度的均匀性，故而，在实用新型的实施例中，n1≤0.4N。

所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22可以是并联，也可以是串联，在本实施例中，所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22串联，当然，对于所述第二线圈绕组22分为多个的情况下，则所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22可以是串联和并联混合的方式。

所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22的层数可以相等，也可以不等，具体根据磁场分布情况来进行设置，如图7b至7d所示，在本实施例中，两者的层数不等。

所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22的具体层数不做限制，显然两者的层数必须是大于等于1，但最大值显然不宜过大，一般而言小于等于5层，故而，所述第一线圈绕组21和/或所述第二线圈绕组22的层数在1层到5层之间。

由前述可知，所述第一线圈绕组21和所述第二线圈绕组22可以是绕制在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12，也可是制作完整之后固定在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12，其中对于绕制的方式，可以采用在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12设置多个内外环形设置的线槽，以将对于的绕线绕制在线槽，即通常所说的疏绕方式，也可以在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12设置绕线支架，以将绕线绕制在所述绕线支架，即为通常所说的密绕。如图13至图16，在本实用新型的实施例中，所述第一绕线区11和/或所述第二绕线区12设置有线扣结构4，具体地，所述第一绕线区11和所述第二绕线区12上均设置有线扣结构4，以通过所述线扣结构4，在所述第一绕线区11和所述第二绕线区12绕制密绕的绕线。

所述线扣结构4包括第一扣41和第二扣42，所述第一扣41相较于所述第二扣42更靠近所述盘座1设置，所述第一扣41和所述第二扣42的第一端与所述盘座1连接，所述第二扣42的另一端与所述盘座1相间隔，且所述第二扣42的另一端与所述第一扣41的另一端在所述盘座1的厚度方向上存在落差，以限定出绕线间隙，如此通过所述第一扣41和所述第二扣42之间的间隙来进行绕线，而不需要设置线槽来进行绕线，线圈绕制更为方便且密度更大。

在本实施例中，所述第一扣41与所述盘座1连接为一体，所述第二扣42的一端为固定端，而另一端为自由端，为了提高所述第二扣42的强度，所述所述第二扣42在自一端朝另一端的方向上呈渐宽设置，在有一些实施例中，为了减轻整体第二扣42的重量，所述第二扣42上还设置有开口。

所述第一扣41和所述第二扣42可以是相对设置，也可以是在所述盘座1的周向上呈错开布置，当然也可以是部分所述第一扣41和所述第二扣42相对设置，而部分所述第一扣41和所述第二扣42相互错开设置。

以下以设有图4提供的线圈盘的电磁炉为例进行测试，对比例为现有的电磁炉，现有的电磁炉的磁条是自线圈绕组的内侧延伸至外侧：如图17为锅具的测温点，为5个测温点，自锅具的中心向周边依次设置且编号为1、2、3、4和5，测温点间隔20mm，初始水温25～27℃(自来水)，每次测完待陶瓷面板冷却后再进行下一次测试，测试采用烧水档，功率2100w，每4秒记录一组数据，待水烧开温度稳定后停止记录，图18为本实施例提供的电磁炉的各个测温点的温度变化曲线，图19和图20为市面上的2种电磁炉加热时各个测温点的温度变化曲线。从图18和图20可以看出，本实施例提供的电磁炉各个测温点的温度变化基本差不多，也即各个区域的加热速率差不多，相应的加热均匀性较好。

进一步地，选取末端温度稳定后的数据，做各测温点的温度平均值与标准偏差、极差图，判断各线盘的温度均匀性，如下表所示；

进一步地参阅图21和图22，本实施例提供的电磁炉(即图中的3JXP，老品1为2373，老品2为0829)在烧水时锅具底部各点温度的标准差和极差最小，说明各点间的温度波动最小，均匀性最好，从而说明该线圈盘均有更好的加热均匀性。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (15)

1.一种线圈盘，其特征在于，包括：

盘座，其上有第一绕线区和环设于所述第一绕线区的外围的第二绕线区；

线圈绕组，包括对应设于所述第一绕线区和所述第二绕线区的第一线圈绕组和第二线圈绕组；以及，

磁体结构，设置在所述盘座上，且其在所述盘座上的投影落在所述第一绕线区的外围，所述磁体结构包括对应所述第二绕线区设置多个磁体。

2.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第二线圈绕组具有相对设置第一侧和第二侧，其中，所述第二线圈绕组的第一侧用以朝向锅具设置，所述磁体自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸，以具有靠近所述第二绕线区中心的第一端、以及靠近所述第二绕线区的外周的第二端，且位于所述第二线圈绕组的第二侧，至少部分所述磁体的第一端和/或第二端超出所述第二绕线区设置。

3.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第二线圈绕组具有相对设置第一侧和第二侧，其中，所述第二线圈绕组的第一侧用以朝向锅具设置，所述磁体自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸，以具有靠近所述第二绕线区中心的第一端、以及靠近所述第二绕线区的外周的第二端，且位于所述第二线圈绕组的第二侧，所述磁体的第一端超出所述第二绕线区设置，其上凸设有位于所述第二线圈绕组的内侧的第一凸部。

4.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第二线圈绕组具有相对设置第一侧和第二侧，其中，所述第二线圈绕组的第一侧用以朝向锅具设置，所述磁体自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸，以具有靠近所述第二绕线区中心的第一端、以及靠近所述第二绕线区的外周的第二端，且位于所述第二线圈绕组的第二侧，所述磁体的第二端超出所述第二绕线区设置，且其上凸设有位于所述第二线圈绕组的外侧的第二凸部。

5.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述磁体结构还包括环设所述第一线圈绕组外围、且位于所述第二线圈绕组的内侧的磁环。

6.如权利要求5所述的线圈盘，其特征在于，所述磁体设于所述第二线圈绕组的第二侧，且自所述第二绕线区的外周朝中心方向延伸；

所述磁环与至少部分所述磁体的第一端接触。

7.如权利要求6所述的线圈盘，其特征在于，所述磁体的第一端超出所述第二绕线区设置，其上凸设有位于所述第二线圈绕组的内侧的第一凸部，所述第一凸部与所述磁环接触。

8.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第二绕线区包括第二内侧绕线区、以及环设在所述第二内侧绕线区的外围的第二外侧绕线区；

所述第二线圈绕组包括对应设置在所述第二内侧绕线区和所述第二外侧绕线区的第二内侧线圈绕组和第二外侧线圈绕组。

9.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第一线圈绕组的匝数为n1，所述线圈绕组的总匝数为N，n1≤0.4N。

10.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第一线圈绕组和所述第二线圈绕组串联。

11.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第一线圈绕组和所述第二线圈绕组的层数不等。

12.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第一线圈绕组和/或所述第二线圈绕组的层数大于等于1层，小于等于5层。

13.如权利要求1所述的线圈盘，其特征在于，所述第一绕线区和/或所述第二绕线区设置有线扣结构，所述线扣结构包括第一扣和第二扣，所述第一扣和所述第二扣的一端与所述盘座连接，所述第二扣的另一端与所述盘座相间隔，且所述第二扣的另外一端与所述第一扣的另外一端在所述盘座的厚度方向上存在落差。

14.如权利要求13所述的线圈盘，其特征在于，所述第二扣在自其一端朝另一端的方向上呈渐宽设置。

15.一种电磁加热烹饪器具，其特征在于，包括如权利要求1至14任意一项所述的线圈盘。

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