CN207369341U - 线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具，其中，所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。根据上述结构设置，可以降低线圈盘中部内环区域的磁场强度，从而提高线圈盘产生磁场的均匀性，从而使线圈盘和电磁烹饪器具加热更加均匀。

Description

线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具

技术领域

本实用新型涉及电磁加热技术领域，特别涉及一种线圈盘座、线圈盘以及电磁烹饪器具。

背景技术

线圈盘座是电磁烹饪器具中的重要组件之一，线圈盘座用于绕制线圈和安装磁条，以制作线圈盘，线圈盘所产生的高频交变电磁场在被加热体中产生涡流，以实现电磁加热。

现有的线圈盘多采用一环绕制，即在线圈盘座中部开设一环形槽，在所述环形槽底壁上凸设多个绕线隔筋，以形成多个绕线槽，然后在绕线槽内绕制线圈。但此类线圈盘的加热范围主要集中在环形槽处，且线圈盘内外加热温度相差较大，加热均匀性比较差。

现有的线圈盘还有的采用多环绕制，即在线圈盘座上开设多个同心环形槽，并在环形槽内设置绕线槽。但此类线圈盘未设置各环形槽内的线圈与加热部件距离，导致各环对加热部件影响不确定，最终都无法调整磁场强度均匀性，从而使得线圈盘加热均匀性差。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是提供一种线圈盘座，旨在解决现有线圈盘座制成的线圈盘加热均匀性差的技术问题。

为实现上述目的，本实用新型提供一种线圈盘座，用于电磁烹饪器具，所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

优选地，所述内环线槽的槽口与所述外环线槽的槽口位于同一高度。

优选地，所述第一深度d大于或等于1.7毫米。

优选地，所述第二深度D小于或等于15毫米。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面高于所述外环线槽底壁的外表面。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差大于或等于1.5毫米。

优选地，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差小于或等于13毫米。

优选地，所述内环线槽与所述外环线槽间隔设置。

本实用新型还提供一种线圈盘，用于电磁烹饪器具，所述线圈盘包括线圈盘座、以及分别绕制在所述内环线槽和外环线槽内的内环线圈和外环线圈，所述外环线圈的绕线高度大与所述内环线圈的绕线高度。

所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

本实用新型还提供一种电磁烹饪器具，包括线圈盘。所述线圈盘包括线圈盘座。

所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

本实用新型中，在所述线圈盘座的上盘面开设内环线槽和外环线槽以将线圈盘座分为内外两部分绕线区域，即内环线圈和外环线圈，并且设置第一深度小于第二深度，以使内环线圈的绕线高度小于外环线圈的绕线高度，从而使内外环线圈形成不同磁场强度的磁场，而且因为内环线圈的绕线高度小于外环线圈的绕线高度，所以内环线圈产生的磁场的磁场强度小于外环线圈产生的磁场的磁场强度，从而降低线圈盘中部内环区域的磁场强度，从而提高线圈盘产生磁场的均匀性，从而使线圈盘和电磁烹饪器具加热更加均匀。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型线圈盘一实施例的结构示意图；

图2为图1中线圈盘的剖视图；

图3为图2中线圈盘剖面的正投影结构示意图；

图4为图3中线圈盘的局部结构示意图。

附图标号说明：

标号	名称	标号	名称
				100	线圈盘座	10	中空区域
20	内环线槽	30	外环线槽
				40	内环线圈	50	外环线圈
200	线圈盘

本实用新型目的的实现、功能特点及优点将结合实施例，参照附图做进一步说明。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，若本实用新型实施例中有涉及方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)，则该方向性指示仅用于解释在某一特定姿态(如附图所示)下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

另外，若本实用新型实施例中有涉及“第一”、“第二”等的描述，则该“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

本实用新型提供一种线圈盘座，用于电磁烹饪器具。

所述电磁烹饪器具可以为电磁炉、电饭煲或电压力锅等；在本实施例中，所述电磁烹饪器具为电磁炉。

在本实用新型一实施例中，如图1至图4所示，所述线圈盘座100的上盘面设有内环线槽20及环设于内环线槽20外侧的外环线槽30，所述内环线槽20具有第一深度d，所述外环线槽30具有第二深度D，所述第一深度d小于第二深度D，以使所述内环线槽20内的绕线高度小于外环线槽30内的绕线高度。

如图2和图3所示，所述线圈盘座100用于绕制线圈和安装磁条(图未标)，以制作线圈盘200；所述线圈盘200用于产生的高频交变电磁场在被加热体中产生涡流，从而实现电磁加热功能。

具体而言，在所述内环线槽20内绕制内环线圈40，在所述外环线槽30内绕制外环线圈50，因所述第一深度d小于第二深度D，所以，所述内环线圈40的绕线高度小于外环线圈50的绕线高度。

在本实施例中，所述内环线槽20位于线圈盘座100上盘面的中部，所述内环线槽20和外环线槽30呈同心环分布，所述内环线槽20和外环线槽30内设有多个小的绕线槽(图未标)，用于绕制线圈。

本实用新型中，在所述线圈盘座100的上盘面开设内环线槽20和外环线槽30以将线圈盘座100分为内外两部分绕线区域，即内环线圈绕制区和外环线圈绕制区，并且设置第一深度d小于第二深度D，以使内环线圈40的绕线高度小于外环线圈50的绕线高度，从而使内外环线圈形成不同磁场强度的磁场，而且因为内环线圈40的绕线高度小于外环线圈50的绕线高度，所以内环线圈40产生的磁场的磁场强度小于外环线圈50产生的磁场的磁场强度，从而降低线圈盘200中部内环区域的磁场强度，从而提高线圈盘200产生磁场的均匀性，从而使线圈盘200和电磁烹饪器具加热更加均匀。

而且，还可以通过调整内外环线槽的槽口与被加热部件之间的距离以及内外环形槽的深度，以调整内外环线圈的上表面与被加热部件之间的距离以及内外环线圈的绕线高度，使线圈盘200产生磁场强度基本相同或相差不大的磁场，从而进一步增强被加热部件受热均匀性，从而达到电磁烹饪器具均匀加热的目的。

其次，为满足线圈盘200的电感量要求，可以通过设置不同深度的内环线槽20和外环线槽30，以绕制不同高度的内环线圈40和外环线圈50，不需要增加线圈盘座100的直径，可以提高磁场利用率，提高能效。

此外，因为降低了线圈盘200中部内环区域的磁场强度，从而可以降低加热时内环线圈产生的热量，从而有效的降低线圈盘200中部内环区域的工作温度，从而避免造成元器件的损坏或降低元器件的稳定性，从而可以延长电磁烹饪器具的使用寿命。

进一步地，如图3和图4所示，为了便于线圈盘200产生均匀磁场，所述内环线槽20的槽口与外环线槽30的槽口位于同一高度，以使位于内环线槽20内的内环线圈40的上表面与位于外环线槽30内的外环线圈50的上表面齐平。

将内环线圈40的上表面与外环线圈50的上表面齐平，使得内环线圈40和外环线圈50与被加热部件处于同一基准距离下，从而只需调整内环线圈40的绕线高度和外环线圈50的高度即可改变线圈盘200产生的磁场强度，从而比较容易控制线圈盘200产生磁场强度基本相同的磁场。而且，将所述内环线槽20的槽口与外环线槽30的槽口设于同一高度，也可以方便加工线圈盘座100。

进一步地，如图4所示，为了使线圈盘200的内环线圈40产生磁场，所述内环线圈40至少要绕制一圈，所以，所述第一深度d大于或等于1.7毫米，以使所述内环线槽20至少能够绕制一圈内环线圈40。

根据本实用新型的发明构思，所述第一深度d越深，所述内环线圈40的绕线高度越高；所述第二深度D也越深，所述外环线圈50的绕线高度也越高；所述线圈盘200产生的磁场强度越大，所述电磁烹饪器具的加热效率也越高。

进一步地，如图4所示，为了限制线圈盘200的磁场强度，避免电磁烹饪器具的加热温度过高，从而避免电磁烹饪器具的工作温度过高。所述第二深度D小于或等于15毫米，以避免外环线圈50的绕线高度过高，从而避免线圈盘200的磁场强度过高。

进一步地，如图2至图4所示，所述内环线槽20与外环线槽30间隔设置，以使内环线圈40与外环线圈50间隔设置，使得内环线圈40与外环线圈50之间存在中空区域10，从而可减弱该中空区域10的磁场强度，从而使得线圈盘200产生的磁场的均匀性更好，从而可以增强电磁烹饪器具加热的均匀性。

进一步地，如图2所示，所述内环线槽20底壁的外表面高于外环线槽30底壁的外表面，以使所述内环线槽20底壁下方的换热空间大于外环线槽30底壁下方的换热空间，使得散热风能够到达内环线槽20底壁的下方，并能够快速、大量在内环线槽20底壁的下方流通，使得内环线槽20底壁的下方能够快速散热，从而可降低线圈盘中心处的工作温度，从而使线圈盘200更稳定的工作，从而可延长线圈盘200和电磁烹饪器具的使用寿命。

在具体实施例中，为了使内环线槽20底壁的下方达到较好的散热效果，所述内环线槽20底壁的外表面至少高于外环线槽30底壁的外表面1.5毫米，即所述内环线槽20底壁的外表面与外环线槽30底壁的外表面之间的高度差h大于或等于1.5毫米。

在具体实施例中，受第一深度d与第二深度D的限制，所述内环线槽20底壁的外表面至多高于外环线槽30底壁的外表面13毫米，即所述内环线槽20底壁的外表面与外环线槽30底壁的外表面之间的高度差h小于或等于13毫米。

本实用新型还提供一种线圈盘，用于电磁烹饪器具。

如图1至图4所示，所述线圈盘200包括如上所述的线圈盘座100、以及分别绕制在内环线槽20和外环线槽30内的内环线圈40和外环线圈50，所述外环线圈50的绕线高度大与内环线圈40的绕线高度。其中，所述线圈盘座100的具体结构参照上述实施例，由于本实用新型线圈盘200采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

本实用新型还提供一种电磁烹饪器具。

如图所示，所述电磁烹饪器具(图未示)包括如上所述的线圈盘200；所述线圈盘200包括如上所述的线圈盘座100及绕制在线圈盘座100上的内环线圈40和外环线圈50。其中，所述线圈盘座100的具体结构参照上述实施例，由于本实用新型线圈盘200采用了上述所有实施例的全部技术方案，因此至少具有上述实施例的技术方案所带来的所有有益效果，在此不再一一赘述。

具体的，所述电磁烹饪器具为电磁炉、电饭煲或电压力锅等。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的发明构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (10)

1.一种线圈盘座，用于电磁烹饪器具，其特征在于，所述线圈盘座的上盘面设有内环线槽及环设于所述内环线槽外侧的外环线槽，所述内环线槽具有第一深度，所述外环线槽具有第二深度，所述第一深度小于所述第二深度，以使所述内环线槽内的绕线高度小于所述外环线槽内的绕线高度。

2.如权利要求1所述的线圈盘座，其特征在于，所述内环线槽的槽口与所述外环线槽的槽口位于同一高度。

3.如权利要求1所述的线圈盘座，其特征在于，所述第一深度大于或等于1.7毫米。

4.如权利要求3所述的线圈盘座，其特征在于，所述第二深度小于或等于15毫米。

5.如权利要求1至4中任意一项所述的线圈盘座，其特征在于，所述内环线槽底壁的外表面高于所述外环线槽底壁的外表面。

6.如权利要求5所述的线圈盘座，其特征在于，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差大于或等于1.5毫米。

7.如权利要求5所述的线圈盘座，其特征在于，所述内环线槽底壁的外表面与所述外环线槽底壁的外表面之间的高度差小于或等于13毫米。

8.如权利要求5所述的线圈盘座，其特征在于，所述内环线槽与所述外环线槽间隔设置。

9.一种线圈盘，用于电磁烹饪器具，其特征在于，所述线圈盘包括如权利要求1至8中任意一项所述的线圈盘座、以及分别绕制在所述内环线槽和外环线槽内的内环线圈和外环线圈，所述外环线圈的绕线高度大与所述内环线圈的绕线高度。

10.一种电磁烹饪器具，其特征在于，包括如权利要求9所述的线圈盘。