CN217614597U - 一种提高真空的反应釜用反应设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及反应釜技术领域，且公开了一种提高真空的反应釜用反应设备，包括底座，底座的上表面固定连接有釜体，釜体的顶部开设有进料口，釜体的左侧固定连接有真空泵，真空泵的上方设置有电机，釜体的内部设置有撒料装置。真空泵抽空空气，电机转动带动横轴一起转动，横轴使固定板上的大齿圈转动，大齿圈转动时与之啮合小齿圈一起转动，小齿圈转动的同时推出滑板，使滑板在固定板内部滑动，滑板滑动的过程中挤压气球，气球受到挤压后把气体压向气囊，气囊膨胀顶出皮塞，使集料箱中的液体料进入底部，气囊随之压向喷头，提高了真空率，降低加热温度缩短了反应时间，减少了液料滞留时间，产品得率有了显著提升，降低能耗。

Description

一种提高真空的反应釜用反应设备

技术领域

本实用新型涉及反应釜技术领域，具体为一种提高真空的反应釜用反应设备。

背景技术

反应釜材质一般有碳锰钢、不锈钢、锆、镍基合金及其它复合材料。反应釜可采用不锈钢材料制造，搅拌器有锚式、框式、桨式、涡轮式，刮板式，组合式，转动机构可采用摆线针轮减速机、无级变速减速机或变频调速等，可满足各种物料的特殊反应要求。

目前，现有的反应釜错在一定的弊端，真空度低，在反应釜进料过程中，不能把控液体料的量，添加过多时，增大了液料滞留时间，降低产品得率，而且，进料是分布地并不均匀，减小了反应物之间的接触面积，反应不完全，影响了产品的质量。

实用新型内容

(一)解决的技术问题

针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种提高真空的反应釜用反应设备，具备提高真空度均匀进料和增大反应物的接触面积等优点，解决了真空率低和反应部完全的问题。

(二)技术方案

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种提高真空的反应釜用反应设备，一种提高真空的反应釜用反应设备，包括底座，所述底座的上表面固定连接有釜体，所述釜体的顶部开设有进料口，所述釜体的左侧固定连接有真空泵，所述真空泵的上方设置有电机，所述釜体的内部设置有撒料装置，所述釜体的右侧固定连接有喷洒装置；

所述撒料装置包括集料箱、横轴、固定板、大齿圈、小齿圈、滑板、弹簧、气球、气囊和皮塞，所述集料箱的内部贯穿有横轴，所述横轴的左端固定连接有固定板，所述固定板的外表面活动连接有大齿圈，所述大齿圈的表面啮合有小齿圈，所述小齿圈活动连接有滑板，所述滑板的内部固定连接有弹簧，所述滑板的下方设置有气球，所述气球的一侧固定连接有气囊，所气囊的顶端固定连接有皮塞。

优选的，所述喷洒装置包括大齿轮、小齿轮、传动轴、转盘、拉杆、滑块、喷头、横板，所述大齿轮的表面啮合有小齿轮，所述小齿轮的内部贯穿有传动轴，所述传动轴的底部固定连接有转盘，所述转盘的下表面固定连接有拉杆，所述拉杆的一端活动连接有滑块，所述滑块的前表面固定连接有喷头，所述滑块的下表面滑动连接有横板。

优选的，所述集料箱呈T型设置，且集料箱的底部连通喷头。

优选的，所述气囊和皮塞设置在集料箱的内部，所述横轴与电机连接，且横轴带动大齿圈转动，可以控制液体料进料的速度，防止进入太多，造成滞留，浪费成本。

优选的，所述弹簧的一端连接在固定板上，所述小齿圈与大齿圈转动的同时，沿着与滑板连接处也转动，在连接处转动到与大齿圈相近时弹回滑板，可以使滑板上下移动，控制液体料的进料速率。

(三)有益效果

与现有技术相比，本实用新型提供了一种提高真空的反应釜用反应设备，具备以下有益效果：

1、该一种提高真空的反应釜用反应设备，通过真空泵抽空空气，电机转动，电机转动的同时带动横轴一起转动，横轴使固定板上的大齿圈转动，大齿圈转动时与之啮合小齿圈一起转动，小齿圈转动的同时推出滑板，使滑板在固定板内部滑动，滑板滑动的过程中挤压气球，气球受到挤压后把气体压向气囊，气囊膨胀顶出皮塞，使集料箱中的液体料进入底部，气囊随之压向喷头，当小齿圈与滑板连接处转动到靠近大齿圈时，弹簧随之弹回滑板，使装置往复运动，来控制进入的液体料，提高了真空率，降低加热温度和缩短了反应时间，减少了液料滞留时间，产品得率有了显著提升，并且质量也十分稳定，能耗也有一定程度降低。

2、该一种提高真空的反应釜用反应设备，通过横轴转动的同时带动大齿轮转动，大齿轮转动带动与之啮合的小齿轮转动，遂传动轴跟着小齿轮一种转动，传动轴连接的转盘随之转动，转盘转动时拉动拉杆位移，拉杆位移的同时拉着横板内部的滑块一起位移，滑块位移时带动与之相连的喷头一起移动，电机每转一圈，喷头来回一次，增大喷头的喷洒范围，使液体料均匀的喷洒在反应釜中，增大与反应物的接触面积充分反应，加快反应速率。

附图说明

图1为本实用新型整体立体结构示意图；

图2为本实用新型整体内部结构示意图；

图3为本实用新型固定板和滑板连接处结构示意图。

其中：1、底座；2、釜体；3、进料口；4、真空泵；5、电机；6、撒料装置；601、集料箱；602、横轴；603、固定板；604、大齿圈；605、小齿圈；606、滑板；607、弹簧；608、气球；609、气囊；610、皮塞；7、喷洒装置；701、大齿轮；702、小齿轮；703、传动轴；704、转盘；705、拉杆；706、滑块；707、喷头；708、横板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-图3，一种提高真空的反应釜用反应设备，一种提高真空的反应釜用反应设备，包括底座1，底座1的上表面固定连接有釜体2，釜体2的顶部开设有进料口3，釜体2的左侧固定连接有真空泵4，真空泵4的上方设置有电机5，釜体2的内部设置有撒料装置6，釜体2的右侧固定连接有喷洒装置7，撒料装置6包括集料箱601、横轴602、固定板603、大齿圈604、小齿圈605、滑板606、弹簧607、气球608、气囊609和皮塞610，集料箱601呈T型设置，且集料箱601的底部连通喷头707，集料箱601的内部贯穿有横轴602，横轴602与电机5连接，且横轴602带动大齿圈604转动，横轴602的左端固定连接有固定板603，固定板603的外表面活动连接有大齿圈604，大齿圈604的表面啮合有小齿圈605，小齿圈605与大齿圈604转动的同时，沿着与滑板606连接处也转动，小齿圈605活动连接有滑板606，滑板606的内部固定连接有弹簧607，弹簧607的一端连接在固定板603上，滑板606的下方设置有气球608，气球608的一侧固定连接有气囊609，气囊609和皮塞610设置在集料箱601的内部，所气囊609的顶端固定连接有皮塞610。

通过上述技术方案，电机5转动，电机5转动的同时带动横轴602转动，横轴602使固定板603上的大齿圈604转动，大齿圈604与啮合小齿圈605转动，小齿圈605转动的同时推出滑板606，使滑板606在固定板603内部滑动，滑板606滑动的同时挤压气球608，气球608受到挤压后把气体压向气囊609，气囊609膨胀顶出皮塞610，使集料箱601中的液体料进入底部，气囊609随之压向喷头707。

具体的，喷洒装置7包括大齿轮701、小齿轮702、传动轴703、转盘704、拉杆705、滑块706、喷头707、横板708，大齿轮701的表面啮合有小齿轮702，小齿轮702的内部贯穿有传动轴703，传动轴703的底部固定连接有转盘704，转盘704的下表面固定连接有拉杆705，拉杆705的一端活动连接有滑块706，滑块706的前表面固定连接有喷头707，滑块706的下表面滑动连接有横板708。

通过上述技术方案，横轴602带动大齿轮701转动，大齿轮701转动带动与之啮合的小齿轮702转动，遂传动轴703跟着小齿轮702一种转动，传动轴703连接的转盘704随之转动，转盘704转动时拉动拉杆705位移，拉杆705位移的同时拉着横板708内部的滑块706一起位移，滑块706位移时带动与之相连的喷头707一起移动。

工作原理：工作时，真空泵4与电机5一起工作，真空泵4抽空空气，电机5转动，电机5转动的同时带动横轴602一起转动，横轴602使固定板603上的大齿圈604转动，大齿圈604转动时与之啮合小齿圈605一起转动，小齿圈605转动的同时推出滑板606，使滑板606在固定板603内部滑动，滑板606滑动的过程中挤压气球608，气球608受到挤压后把气体压向气囊609，气囊609膨胀顶出皮塞610，使集料箱601中的液体料进入底部，气囊609随之压向喷头707，当小齿圈605与滑板606连接处转动到靠近大齿圈604时，弹簧607随之弹回滑板606，使装置往复运动，来控制进入的液体料，横轴602转动的同时带动大齿轮701转动，大齿轮701转动带动与之啮合的小齿轮702转动，遂传动轴703跟着小齿轮702一种转动，传动轴703连接的转盘704随之转动，转盘704转动时拉动拉杆705位移，拉杆705位移的同时拉着横板708内部的滑块706一起位移，滑块706位移时带动与之相连的喷头707一起移动，电机5每转一圈，喷头707来回一次，增大喷头707的喷洒范围。

尽管已经显示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (5)

1.一种提高真空的反应釜用反应设备，包括底座(1)，其特征在于：所述底座(1)的上表面固定连接有釜体(2)，所述釜体(2)的顶部开设有进料口(3)，所述釜体(2)的左侧固定连接有真空泵(4)，所述真空泵(4)的上方设置有电机(5)，所述釜体(2)的内部设置有撒料装置(6)，所述釜体(2)的右侧固定连接有喷洒装置(7)；

所述撒料装置(6)包括集料箱(601)、横轴(602)、固定板(603)、大齿圈(604)、小齿圈(605)、滑板(606)、弹簧(607)、气球(608)、气囊(609)和皮塞(610)，所述集料箱(601)的内部贯穿有横轴(602)，所述横轴(602)的左端固定连接有固定板(603)，所述固定板(603)的外表面活动连接有大齿圈(604)，所述大齿圈(604)的表面啮合有小齿圈(605)，所述小齿圈(605)活动连接有滑板(606)，所述滑板(606)的内部固定连接有弹簧(607)，所述滑板(606)的下方设置有气球(608)，所述气球(608)的一侧固定连接有气囊(609)，所气囊(609)的顶端固定连接有皮塞(610)。

2.根据权利要求1所述的一种提高真空的反应釜用反应设备，其特征在于：所述喷洒装置(7)包括大齿轮(701)、小齿轮(702)、传动轴(703)、转盘(704)、拉杆(705)、滑块(706)、喷头(707)、横板(708)，所述大齿轮(701)的表面啮合有小齿轮(702)，所述小齿轮(702)的内部贯穿有传动轴(703)，所述传动轴(703)的底部固定连接有转盘(704)，所述转盘(704)的下表面固定连接有拉杆(705)，所述拉杆(705)的一端活动连接有滑块(706)，所述滑块(706)的前表面固定连接有喷头(707)，所述滑块(706)的下表面滑动连接有横板(708)。

3.根据权利要求1所述的一种提高真空的反应釜用反应设备，其特征在于：所述集料箱(601)呈T型设置，且集料箱(601)的底部连通喷头(707)。

4.根据权利要求1所述的一种提高真空的反应釜用反应设备，其特征在于：所述气囊(609)和皮塞(610)设置在集料箱(601)的内部，所述横轴(602)与电机(5)连接，且横轴(602)带动大齿圈(604)转动。

5.根据权利要求1所述的一种提高真空的反应釜用反应设备，其特征在于：所述弹簧(607)的一端连接在固定板(603)上，所述小齿圈(605)与大齿圈(604)转动的同时，沿着与滑板(606)连接处也转动。

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