CN217596786U - 一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备 - Google Patents

Abstract

本申请实施例提供了一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备，应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置包括输液机构以及遮挡件，输液机构具有出液口，出液口用于向化学机械抛光设备的抛光垫喷洒抛光液；遮挡件设置于出液口喷洒抛光液的路径上，遮挡件具有用于承接所述抛光液的承接面，出液口在承接面上的正投影位于承接面内。通过在出液口和抛光垫之间设置遮挡件，遮挡件能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件流至抛光垫上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。

Description

一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备

技术领域

本申请涉及半导体生产设备领域，具体而言，涉及一种抛光液输送装置以及化学机械抛光设备。

背景技术

CMP(Chemical Mechanical Polishing，化学机械抛光技术)是一种常见的抛光技术，化学机械抛光技术是化学腐蚀和机械研磨的组合技术，主要的工作原理如下：待抛光物的待抛光层与抛光液发生化学反应，生成相对容易去除的软质层，在抛光液中的磨料和抛光垫的共同作用下去除软质层，在相关技术中，化学反应过程和机械研磨过程依次交替进行，最后达到去除待抛光层的目的。化学机械抛光技术相比于其他抛光技术有以下优势：避免了由单纯机械抛光造成的表面损伤，也避免了单纯化学抛光造成的抛光速度慢、表面平整度差等缺点。

实用新型内容

本申请实施例提供了一种抛光液输送装置，应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置包括输液机构以及遮挡件，输液机构具有出液口，出液口用于向化学机械抛光设备的抛光垫喷洒抛光液；遮挡件设置于出液口喷洒抛光液的路径上，遮挡件具有用于承接所述抛光液的承接面，出液口在承接面上的正投影位于承接面内。

输液机构用于将抛光液输送至出液口，出液口用于将抛光液喷洒至抛光垫，抛光垫；遮挡件用于扩大抛光液喷洒在抛光垫上的范围，遮挡件设置在出液口与抛光垫之间，抛光液从出液口流至遮挡件，遮挡件能改变抛光液流动的范围；遮挡件朝向出液口的表面为承接面，承接面用于承接抛光液。

基于上述实施例，抛光液输送装置应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置设置了输液机构以及遮挡件，遮挡件设置在出液口和抛光垫之间，输液机构将抛光液输送至出液口，出液口将抛光液喷洒至遮挡件，遮挡件能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件流至抛光垫上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。

在一个实施例中，承接面与出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间呈夹角设置，且夹角为α，且10°≤α≤80°。

基于上述实施例，承接面与出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间的夹角大于 10度小于80度时，承接面能承接从出液口流出的所有抛光液，且不会使得抛光液喷洒范围过大导致抛光液流出抛光垫，遮挡件扩大抛光液的喷洒范围能够使抛光液更均匀的流至抛光垫。

在一个实施例中，出液口呈扩口状设置。

基于上述实施例，出液口呈扩口状设置，使得抛光液从出液口喷出时，出液口能够扩大抛光液的喷洒范围。

在一个实施例中，出液口的流通截面为矩形。

基于上述实施例，出液口的流通截面设置为矩形，抛光液流至承接面时，抛光液的流动轨迹更规则使得抛光液流至抛光垫时，抛光液在抛光垫上分布的更宽且更均匀。

在一个实施例中，输液机构包括悬臂以及至少一个喷嘴，悬臂设置有输液通道，输液通道与出液口连通；至少一个喷嘴设置于悬臂上，每一喷嘴具有至少一出液口；其中，遮挡件设置于喷嘴的喷液路径上，且遮挡件可活动地设置于悬臂上。

基于上述实施例，悬臂具有输液通道，输液通道用于将抛光液输送至出液口；喷嘴用于将输液通道内的抛光液输送至遮挡件，喷嘴设置于悬臂上，且喷嘴具有至少一个出液口，当喷嘴具有多个出液口时，多个出液口同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减短抛光液的喷洒时间；遮挡件可活动地设置于悬臂，遮挡件可以相对于悬臂转动以改变承接面与抛光液喷洒方向之间的夹角。

在一个实施例中，遮挡件包括遮挡部以及连接部，遮挡部设置于喷嘴的喷液路径上；连接部连接遮挡部与悬臂；其中，遮挡部可转动或者可移动地连接于连接部，及/或，连接部可移动或者可移动地连接于悬臂。

抛光液从扩口形状的出液口流出时，抛光液喷洒范围经过第一次扩大；抛光液从出液口喷至遮挡件的承接面时，抛光液喷洒范围经过第二次扩大，抛光液的喷洒范围经过两次扩大，使得抛光液能够更宽且更均匀的分布在抛光垫上。连接部用于连接遮挡部与悬臂，遮挡部转动连接于连接部或者连接部转动连接于悬臂均可改变遮挡件与抛光液喷洒方向之间的夹角，以改变抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围，进而改变抛光液在抛光垫上的分布；遮挡部移动连接于连接部或者连接部移动连接于悬臂可改变出液口与遮挡部之间的距离，遮挡部越靠近出液口，抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围越大，进而在抛光垫上的分布的范围越大；遮挡部越远离出液口，抛光液在遮挡部的承接面上的喷洒范围越小，进而在抛光垫上的分布的范围越小。

在一个实施例中，多个喷嘴等间隔设置于悬臂上。

基于上述实施例，多个喷嘴在悬臂上等间隔设置使得抛光液能更均匀的流动至抛光垫上，多个喷嘴同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减少抛光液的喷洒时间，使得抛光待抛光物的效率更高。在抛光过程中，多个喷嘴同时喷洒抛光液还可以防止由于个别喷嘴损坏或者堵塞导致无法喷洒抛光液的问题发生。

在一个实施例中，抛光液输送装置还包括一个或者多个吸液件以及抽液件，吸液件设置于悬臂上，每一吸液件具有至少一吸液口，吸液口用于与抛光垫表面接触；抽液件与吸液口连通。

基于上述实施例，吸液件用于吸取抛光垫上的废液；抽液件能够吸取液体，抽液件与吸液口连通，吸液件的数量可以设置为多个，吸液件也可以设置多个吸液口，吸液口可以设置为由内向外渐扩的开口，多个吸液口同时工作，能够提高废液的抽吸效率，以减小废液对抛光液组成成分的影响。抽液件将抛光垫上的废液吸入吸液口。

在一个实施例中，抛光液输送装置还包括挡液件，挡液件连接于悬臂，且挡液件远离悬臂的一端用于与抛光垫抵接，在抛光垫的转动方向上，出液口喷洒出来的抛光液依次经过待抛光物、吸液口以及挡液件。

基于上述实施例，挡液件用于防止在抛光过程中，废液堆积在抛光垫上，并停留于待抛光物和抛光垫之间，挡液件与抛光垫抵接的部分将部分废液带动至沟槽内，吸液件通过吸液口将沟槽内废液排出抛光垫；

由于出液口设置为扩口，抛光液从出液口喷出后，抛光液的喷洒范围会扩大，抛光液从出液口流至遮挡部，遮挡部的承接面再次扩大抛光液的喷洒范围，然后将抛光液引流至抛光垫，抛光液在抛光垫和待抛光物之间，抛光液与待抛光物发生化学反应后，抛光液内的磨料与待抛光物之间进行研磨，抛光液发生化学反应后转变成废液，废液被吸入吸液件，挡液件可以将部分废液带动至沟槽内，以供吸液口抽吸，挡液件能减少废液与出液口喷出的抛光液接触。

本申请实施例还提供了一种化学机械抛光设备，化学机械抛光设备包括抛光液输送装置、转台以及抵压件，抛光垫设置于转台上，转台用于带动抛光垫转动；抵压件与转台间隔设置，抵压件用于将待抛光物抵压于抛光垫。

转台可带动抛光垫转动；抵压件对待抛光物施加朝向抛光垫的作用力，使得待抛光物与抛光垫抵接的更紧密，能更有效地研磨待抛光物。化学机械抛光设备能将待抛光物的待抛光层去除，并且能够保护待抛光物不受机械力的损坏，使待抛光物的表面达到高度平坦化的要求。

基于上述实施例，抛光液输送装置应用于化学机械抛光设备，抛光液输送装置设置了输液机构以及遮挡件，遮挡件设置在出液口和抛光垫之间，输液机构将抛光液输送至出液口，出液口将抛光液喷洒至遮挡件，遮挡件能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件流至抛光垫上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。

附图说明

为了更清楚地说明本申请实施例或相关技术中的技术方案，下面将对实施例或相关技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本申请的一些实施例，对于本领域技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本申请一种实施例中化学机械抛光设备以及待抛光物的部分结构示意图；

图2为本申请一种实施例中喷嘴的结构示意图；

图3为本申请一种实施例中多个喷嘴在悬臂上的结构示意图；

图4为本申请一种实施例中遮挡件、喷嘴以及悬臂位置结构示意图；

图5为本申请一种实施例中遮挡件、喷嘴、悬臂以及挡液件位置结构示意图；

图6为本申请一种实施例中转台与抛光液输送装置的结构示意图；

图7为本申请又一种实施例中转台与抛光液输送装置的结构示意图。

附图标记：抛光液输送装置-100；输液机构-10；出液口-10A；悬臂-11；喷嘴-12；遮挡件-20；承接面-21；遮挡部-22；连接部-23；吸液件-30；吸液口-30A；挡液件-40；化学机械抛光设备-200；抛光垫-201；转台-202；抵压件-203；待抛光物-300。

具体实施方式

为了使本申请的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本申请进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本申请，并不用于限定本申请。

抛光液需要具有流动性好、不易沉淀以及低残留等性能，在化学机械抛光过程中，抛光液先喷洒在抛光垫上，再流动至待抛光物与抛光垫之间，但在相关技术中，抛光液喷洒至抛光垫上后，抛光液在抛光垫上流动的范围窄且抛光液在抛光垫上分布不均匀，且抛光液喷洒的范围较小，导致待抛光物与抛光液之间发生的化学反应不充分，进一步导致抛光垫对待抛光物的研磨不充分，最终使得待抛光物的合格率降低。

请参照图1，本申请实施例提供了一种抛光液输送装置100，应用于化学机械抛光设备200，抛光液输送装置100包括输液机构10以及遮挡件20，输液机构10具有出液口10A，出液口10A用于向化学机械抛光设备200的抛光垫201 喷洒抛光液；遮挡件20设置于出液口10A喷洒抛光液的路径上，遮挡件20具有用于承接抛光液的承接面21，出液口10A在承接面21上的正投影位于承接面21内。

化学机械抛光设备200用于对待抛光物300进行抛光，抛光液输送装置100 用于向化学机械抛光设备200的抛光垫201喷洒抛光液，待抛光物300可以是晶圆，本实施例对待抛光物300不做限制。

基于上述实施例，抛光液由磨料、PH(酸碱度)调节剂、氧化剂、分散剂、润滑剂、缓蚀剂、稳定剂、去离子水等组成，其中，磨料成分借助机械力，将材料表面经化学反应后的软质层去除，让表面平整化；氧化剂能加快加工表面形成软而脆的氧化膜，能够提高抛光效率和表面平整度；分散剂可以防止抛光液中的磨料发生聚集现象，保证抛光液的稳定性；PH调节剂可以调节抛光液的酸碱度。可以理解的是，在其他实施例中，抛光液的成分可根据实际情况调整。

抛光垫201上可以具有一层磨皮，磨皮上可开设有沟槽，沟槽的形状可以是正螺旋对数型、负螺旋对数型、圆环型以及网络型，抛光液的磨料进入磨皮，通过研磨作用移除待抛光物300的软质层，磨皮所开设的沟槽可以提高研磨效率。

输液机构10用于将抛光液输送至出液口10A，出液口10A用于将抛光液喷洒至抛光垫201，输液机构10由非金属材料制成，以防止抛光液腐蚀输液机构 10，在本实施例中，对输液机构10以及出液口10A的形状尺寸均不作限制。

遮挡件20用于扩大抛光液喷洒在抛光垫201上的范围，遮挡件20设置在出液口10A的喷洒抛光液的路径上，也即位于出液口10A与抛光垫201之间，抛光液从出液口10A流至遮挡件20，遮挡件20能扩大抛光液流动的范围，由于抛光液的组成成分复杂，遮挡件20需由非金属材料材料制成，以防止抛光液经过遮挡件20后，抛光液的组成成分遭到破坏。

遮挡件20朝向出液口10A的表面为承接面21，承接面21用于承接抛光液，遮挡件20扩大抛光液流动的范围后并将抛光液喷洒至抛光垫201，出液口10A 的尺寸小于承接面21的尺寸，使得承接面21能承接所有出从液口10A喷出的抛光液。

基于上述实施例，抛光液输送装置100应用于化学机械抛光设备200，抛光液输送装置100设置了输液机构10以及遮挡件20，遮挡件20设置在出液口10A 和抛光垫201之间，输液机构10将抛光液输送至出液口10A，出液口10A将抛光液喷洒至遮挡件20的承接面21，出液口10A在承接面21上的正投影位于承接面21内，出液口10A的尺寸小于承接面21的尺寸，承接面21能承接从出液口10A喷出的所有抛光液，承接面21遮挡件20的承接面21能扩大抛光液的喷洒范围，使得抛光液从遮挡件20流至抛光垫201上时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫上。

请继续参照图1，在一个实施例中，承接面21与所述出液口10A喷洒抛光液的喷洒方向之间呈夹角设置，且夹角为α，且10°≤α≤80°。

承接面21与喷洒方向之间的夹角大于10°小于80°时，承接面21能承接从出液口10A流出的所有抛光液，且不会使得抛光液喷洒范围过大导致抛光液流出抛光垫201，遮挡件20扩大抛光液的喷洒范围能够使抛光液更均匀的流至抛光垫201。特别地，承接面21与喷洒方向之间的夹角为10°时，承接面21 远离出液口10A，此时，承接面21能承接从出液口10A流出的所有抛光液，承接面21与喷洒方向之间的夹角为80°时，承接面21靠近出液口10A设置，此时，抛光液在遮挡件20上的喷洒范围更大，以使抛光液流至抛光垫201时，抛光液的喷洒范围更大，且能够更均匀的分布在抛光垫201上，反之，承接面21 与喷洒方向之间的夹角大于80°时，遮挡件20会使得抛光液喷洒范围过大以至抛光液流出抛光垫201；承接面21与喷洒方向之间的夹角小于10°时，承接面 21只能承接住从出液口10A流出的部分抛光液，且对抛光液的喷洒范围的扩大效果有限。

请参照图1-4，在一个实施例中，输液机构10包括悬臂11以及至少一个喷嘴12，悬臂11设置有输液通道(图未标出)，输液通道与出液口10A连通；至少一个喷嘴12设置于悬臂11上，每一喷嘴12具有至少一出液口10A；其中，遮挡件20设置于喷嘴12的喷液路径上，且遮挡件20可活动地设置于悬臂11 上。

基于上述实施例，悬臂11具有输液通道，输液通道用于将抛光液输送至出液口10A，输液通道可以开设在悬臂11内，用于输送抛光液；也可以单独设置输液件且将输液件安装于悬臂11，并通过输液件将抛光液输送至出液口10A。

喷嘴12用于将输液通道内的抛光液输送至遮挡件20，喷嘴12设置于悬臂 11上。

喷嘴12具有至少一个出液口10A，进一步地，出液口10A可以呈扩口状设置，使得抛光液从出液口10A流出时，出液口10A能够扩大抛光液的喷洒范围。更进一步地，出液口10A的流通截面可以设置为矩形，抛光液流至承接面21时，抛光液的流动轨迹更规则，使得抛光液流至抛光垫201时，抛光液在抛光垫201 上分布的更宽且更均匀。如图4所示，在一个具体的实施例中，矩形状的出液口10A的长边与承接面21平行，抛光液从出液口10A流至承接面21时，沿矩形长度方向，抛光液在承接面21上的喷洒范围更大。当喷嘴12具有多个出液口10A时，多个出液口10A同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减短抛光液的喷洒时间，在一个其他实施例中，喷嘴12的形状可以设置为由内向外渐扩的喇叭状，但流通面积不限于为矩形。

遮挡件20可活动地设置于悬臂11，例如，遮挡件20可以相对于悬臂11转动以改变承接面21与抛光液的喷洒方向之间的夹角，在一个具体的实施例中，输液机构10还包括转动轴，悬臂11与遮挡件20均与转动轴连接，遮挡件20 通过转动轴可相对于悬臂11转动，以调节承接面21与抛光液喷洒方向之间的角度。待承接面21与抛光液喷洒方向之间的角度确定后，可以通过转动轴与悬臂11、转动轴与遮挡件20之间设置的阻尼结构来固定承接面21与抛光液喷洒方向之间的角度，避免遮挡件20在抛光液的冲击下转动。

请继续参照图1，在一个实施例中，遮挡件20包括遮挡部22以及连接部 23，遮挡部22设置于喷嘴12的喷液路径上；连接部23连接遮挡部22与悬臂 11；其中，遮挡部22可转动或者可移动地连接于连接部23，及/或，连接部23 可移动或者可移动地连接于悬臂11。

基于上述实施例，遮挡部22位于喷嘴12与抛光垫201之间，且位于喷嘴 12的喷液路径上，抛光液从喷嘴12的出液口10A喷至遮挡件20的承接面21，再从承接面21流动至抛光垫201上。抛光液从扩口形状的出液口10A流出时，抛光液喷洒范围经过第一次扩大；抛光液从出液口10A喷至遮挡部22的承接面 21时，抛光液喷洒范围经过第二次扩大，抛光液的喷洒范围经过两次扩大，使得抛光液更宽、更均匀地分布在抛光垫201上。

连接部23用于连接遮挡部22与悬臂11，在本实施例中，对连接部23的形状以及尺寸均不做限定。遮挡部22转动连接于连接部23或者连接部23转动连接于悬臂11均可改变遮挡件20与抛光液喷洒方向之间的夹角，以改变抛光液在遮挡部22的承接面21上的喷洒范围，进而改变抛光液在抛光垫201上的分布；遮挡部22移动连接于连接部23或者连接部23移动连接于悬臂11可改变出液口10A与遮挡部22之间的距离，遮挡部22越靠近出液口10A，抛光液对承接面21的冲击力越大，抛光液在在遮挡部22的承接面21上的喷洒范围越大。

请参考图1和图3，在一个实施例中，多个喷嘴12等间隔设置于悬臂11上。

基于上述实施例，多个喷嘴12在悬臂11上等间隔设置使得抛光液能更均匀的流动至抛光垫201上，多个喷嘴12在悬臂11上沿着矩形状出液口10A的长度方向依次等间隔排列，多个喷嘴12同时喷洒抛光液可以扩大抛光液的喷洒范围且能够减少抛光液的喷洒时间，使得抛光待抛光物300的效率更高。在抛光过程中，多个喷嘴12同时喷洒抛光液，还可以防止由于个别喷嘴12损坏或者堵塞导致无法喷洒抛光液的问题发生。

请参考图1，在一个实施例中，抛光液输送装置100还包括一个或者多个吸液件30以及抽液件(图未标出)，吸液件30设置于悬臂11上，每一吸液件30 具有至少一吸液口30A，吸液口30A用于与抛光垫201表面接触；抽液件与吸液口30A连通。具体地，吸液件30可以为吸嘴。

抛光液与待抛光物300反生化学反应后，抛光液内的化学成分发生变化，且在研磨后抛光液中的磨料也会相应的减少，研磨后的抛光液无法再次利用，也即，研磨后的抛光液会成为废液，废液需及时排出抛光垫201，以防止废液在抛光垫201上堆积，破坏抛光垫201上的抛光液的组成成分。

基于上述实施例，吸液件30用于吸取抛光垫201上的废液，吸液件30设置于悬臂11上，且朝向抛光垫201设置，吸液件30可以设置为中空结构，吸液件30具有吸液口30A，吸液口30A可以设置为由内向外渐扩的开口，吸液件 30具有吸液口30A的一端与抛光垫201接触，吸液口30A能将磨皮上沟槽内的废液抽吸至吸液件30内。

抽液件能够吸取液体，抽液件与吸液口30A连通，抽液件将抛光垫201上的废液通过吸液口30A吸入吸液件30。在本实施例中，抽液件可以为抽吸泵，抽吸泵的功率越大，抽液件在同一时间段内吸取的液体越多。

请参考图5-7，在一个实施例中，抛光液输送装置100还包括挡液件40，挡液件40连接于悬臂11，且挡液件40远离悬臂11的一端用于与抛光垫201抵接，在抛光垫201的转动方向上，出液口10A喷洒出来的抛光液依次经过待抛光物300、吸液口30A以及挡液件40。

基于上述实施例，在抛光过程中，挡液件40用于防止废液堆积在抛光垫201 上，并停留于待抛光物300和抛光垫201之间，废液位于待抛光物300和抛光垫201之间会使得待抛光物300和抛光液之间的化学反应不充分，磨料与待抛光物300之间的研磨不充分。挡液件40一端连接于悬臂11，另一端与抛光垫 201抵接，挡液件40与抛光垫201抵接的部分可以将抛光垫201上部分废液带动至抛光垫201的沟槽内，并由吸液口30A将沟槽内废液吸入吸液件30。

请参考图5-7，由于出液口10A设置为扩口，抛光液从出液口10A喷出后，抛光液的喷洒范围会扩大，抛光液流至遮挡部22后，遮挡部22的承接面21再次扩大抛光液的喷洒范围，然后将抛光液引流至抛光垫201，抛光液在抛光垫 201和待抛光物300之间，抛光液与待抛光物300发生化学反应后，抛光液内的磨料与待抛光物300之间进行研磨，抛光液发生化学反应后变成废液，废液被吸入吸液件30，挡液件40可以将部分废液带动至沟槽内，以供吸液口10A抽吸，挡液件40能减少废液与出液口10A喷出的抛光液接触。在抛光过程中，抛光液会随着抛光垫201的转动而分布在抛光垫和待抛光物300之间。由于抛光垫201的转动方向不同，废液的转动方向也不同，因此，出液口10A、待抛光物300、吸液件30以及挡液件40之间的位置设置也至关重要，图6-7中展示了抛光垫201在不同的转动方向下，出液口10A、待抛光物300、吸液件30以及挡液件40之间的位置关系，如图6所示，当抛光垫201顺时针转动时，待抛光物300、吸液件30以及挡液件40沿顺时针依次设置，抛光液从出液口10A喷出后与待抛光物300发生化学反应，抛光液变成废液后，废液随着抛光垫201 顺时针转动，挡液件40遮挡废液以供吸液件30吸取废液，且挡液件4可以将未被吸液件30吸取的废液推出抛光垫201外；如图7所示，当抛光垫201逆时针转动时，待抛光物300、吸液件30以及挡液件40沿逆时针依次设置，抛光液从出液口10A喷出后与待抛光物300发生化学反应，抛光液变成废液后，挡液件40遮挡废液以供吸液件30吸取废液，且挡液件40可以将未被吸液件30吸取的废液推出抛光垫201外。

进一步地，悬臂11可以相对于抛光垫201转动，悬臂11相对于抛光垫201 转动可以使得输液通道内的抛光液能够喷洒至抛光垫201上的更多位置。

进一步地，挡液件40也可以相对于悬臂11转动，挡液件40相对于悬臂11 转动可以使得挡液件40能够推出抛光垫201上更多的废液。挡液件40与吸液件30之间的位置关系可以根据实际情况做调整。

请参照图1，本申请实施例还提供了一种化学机械抛光设备200，化学机械抛光设备200包括抛光液输送装置100、转台202以及抵压件203，抛光垫201 设置于转台202上，转台202用于带动抛光垫201转动；抵压件203与转台202 间隔设置，抵压件203用于将待抛光物300抵压于抛光垫201。

基于上述实施例，转台202可带动抛光垫201转动，在抛光过程中，待抛光物300会转动，抛光垫201也会转动，待抛光物300和抛光垫201相对转动可以使得抛光液更均匀地分布在待抛光物300和抛光垫201之间，还能够使得待抛光物300和抛光垫201之研磨更充分。

抵压件203对待抛光物300施加朝向抛光垫201的作用力，使得待抛光物 300与抛光垫201抵接的更紧密，能更有效地研磨待抛光物300。

化学机械抛光设备200能将待抛光物300的待抛光层去除，并且能够保护待抛光物300不受机械力的损坏，使得待抛光物300的表面达到高度平坦化的要求。

本实施例的附图中相同或相似的标号对应相同或相似的元件；在本申请的描述中，需要理解的是，若有术语“上”、“下”、“左”、“右”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此附图中描述位置关系的用语仅用于示例性说明，不能理解为对本专利的限制，对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语的具体含义。

以上仅为本申请的较佳实施例而已，并不用以限制本申请，凡在本申请的精神和原则之内所作的任何修改、等同替换和改进等，均应包含在本申请的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种抛光液输送装置，其特征在于，应用于化学机械抛光设备，所述抛光液输送装置包括：

输液机构，具有出液口；

遮挡件，设置于所述出液口喷洒抛光液的路径上，具有用于承接所述抛光液的承接面，所述出液口在所述承接面上的正投影位于所述承接面内。

2.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述承接面与所述出液口喷洒抛光液的喷洒方向之间呈夹角设置，且夹角为α，且10°≤α≤80°。

3.如权利要求1所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述出液口呈扩口状设置。

4.如权利要求3所述的抛光液输送装置，其特征在于，在所述出液口内，所述出液口的流通截面为矩形。

5.如权利要求1-4任一项所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述输液机构包括：

悬臂，设置有输液通道，所述输液通道与所述出液口连通，所述遮挡件可活动地设置于所述悬臂上；

至少一个喷嘴，设置于所述悬臂上，每一所述喷嘴具有至少一所述出液口。

6.如权利要求5所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述遮挡件包括：

遮挡部，设置于所述喷嘴的喷液路径上，所述遮挡部具有所述承接面；

连接部，连接所述遮挡部与所述悬臂；

其中，所述遮挡部可转动或者可移动连接于所述连接部，及/或，所述连接部可转动或者可移动连接于所述悬臂。

7.如权利要求5所述的抛光液输送装置，其特征在于，多个所述喷嘴等间隔设置于所述悬臂上。

8.如权利要求5所述的抛光液输送装置，其特征在于，还包括：

一个或者多个吸液件，所述吸液件设置于所述悬臂上，每一所述吸液件具有至少一吸液口，所述吸液口用于与所述抛光液输送装置的抛光垫表面接触；

抽液件，与所述吸液口连通。

9.如权利要求8所述的抛光液输送装置，其特征在于，所述抛光液输送装置还包括：

挡液件，连接于所述悬臂，且所述挡液件远离所述悬臂的一端用于与抛光垫抵接，在所述抛光垫的转动方向上，所述出液口喷洒出来的抛光液依次经过待抛光物、所述吸液口以及所述挡液件。

10.一种化学机械抛光设备，其特征在于，包括：

如权利要求1-9任一项所述的抛光液输送装置；

抛光垫；

转台，所述抛光垫设置于所述转台上；以及

抵压件，与所述转台间隔设置，用于将待抛光物抵压于所述抛光垫。

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