CN217556285U - 真空镀膜机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜机，其包括结构本体、料架、电极、镀膜原料发生装置和真空发生装置，所述结构本体具有一镀膜腔室，所述料架和电极各安装于所述镀膜腔室内，所述料架呈托盘式结构，所述料架适于承载一个工件，所述镀膜原料发生装置适于往所述镀膜腔室输送工艺气体，所述真空发生装置与所述镀膜腔室连通并用于使所述镀膜腔室形成真空环境。本实用新型的真空镀膜机具有生产灵活，且加工经济环保的优点。

Description

真空镀膜机

技术领域

本实用新型涉及镀膜领域，尤其涉及一种真空镀膜机。

背景技术

真空镀膜是一种在高真空环境下，在金属、塑料等工件表面上形成具有所需特性薄膜的一种工艺方法，其被广泛应用于电子设备制造的各个领域，例如为了提高装配后的手机具有一定的防水疏水性能，可以采用等离子体增强化学气相沉积(plasma enhancedchemical vapor deposition，PECVD)对手机进行镀膜，镀膜后的手机表面的缝隙形成可保护涂层，赋予手机优良的防水疏水效果。

等离子体增强化学气相沉积法是真空镀膜工艺的一种，常见的做法是将工件放置在一个工件架上，再将工件架放入一个反应腔室中，反应腔内部设有电极，电极与工件之间形成一个放电回路，腔室中的工艺气体在电极的交流电场的作用下被电离形成等离子体，并沉积到工件表面进行镀膜。然而，采用上述加工方法仍存在一些问题，例如，由于腔室比较大，工件架也做的很大，工件架通常装载上百个工件，工件架满载时才能放入腔室内。然而，部分生产订单的生产量并不大，工件架并不满载，如果仍采用上述形式的加工方法会带来大量的原料和能源损耗，并不经济环保。另外，当设备出现故障或损坏时，生产则要被迫暂停，影响加工进度。

因此，亟需要一种生产灵活，且加工经济环保的真空镀膜机来克服上述缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种生产灵活，且加工经济环保的真空镀膜机。

为实现上述目的，本实用新型的真空镀膜机包括结构本体、料架、电极、镀膜原料发生装置和真空发生装置，所述结构本体具有一镀膜腔室，所述料架和电极各安装于所述镀膜腔室内，所述料架呈托盘式结构，所述料架适于承载一个工件，所述镀膜原料发生装置适于往所述镀膜腔室输送工艺气体，所述真空发生装置与所述镀膜腔室连通并用于使所述镀膜腔室形成真空环境。

较佳地，所述结构本体包括结构框架和可移离地盖合于所述结构框架的结构盖体，所述镀膜腔室形成于所述结构框架，所述结构盖体设有观察窗结构，所述观察窗结构安装有透明材料件。

较佳地，本实用新型的真空镀膜机还包括机架和开合盖驱动器，所述结构框架安装于所述机架，所述开合盖驱动器安装于所述机架，所述开合盖驱动器的输出端安装于所述结构盖体，所述开合盖驱动器驱使所述结构盖体盖合至所述结构框架和移离于所述结构框架。

较佳地，本实用新型的真空镀膜机还包括第一转动支架和第二转动支架，所述开合盖驱动器为气缸，所述第一转动支架的第一端铰接于所述机架，所述第二转动支架的第一端铰接于所述第一转动支架的第二端，所述结构盖体铰接于所述第二转动支架的第二端，所述气缸转动安装于所述机架，所述气缸的输出端转动安装于所述第一转动支架。

较佳地，所述电极沿所述料架的周包围料架布置。

较佳地，所述镀膜原料发生装置包括变压器和蒸发舟，所述蒸发舟位于所述料架的正下方，所述变压器位于所述结构本体外，所述蒸发舟电连接于所述变压器。

较佳地，所述镀膜原料发生装置还包括蠕动泵，所蠕动泵的出口通过输送管与所述蒸发舟连通，所述蠕动泵的入口通过输送管与一原料瓶连通。

较佳地，所述真空发生装置包括真空泵和抽气管，所述结构盖体开设有安装通孔，所述抽气管的第一端与所述真空泵的出口连通，所述抽气管的第二端安装于所述安装通孔。

较佳地，所述机架包括从上至下间隔布置的第一置放板、第二置放板和第三置放板，所述第一置放板与所述第二置放板围出第一安装空间，所述第二置放板与所述第三置放板围出第二安装空间，所述结构本体安装于所述第一置放板，所述电极电连接于一射频发生器，所述射频发生器、蠕动泵和变压器安装于所述第一安装空间，所述真空泵安装于所述第二安装空间。

较佳地，镀膜腔室的开口朝上布置，所述结构框架的顶部开设有一圈安装槽，所述安装槽呈包围所述镀膜腔室的开口布置，所述安装槽中安装有密封圈。

与现有技术相比，于本实用新型中，每个真空镀膜机只对一个工件进行镀膜加工，镀膜不用等待，适于应用到小批次的生产，生产灵活，能够根据客户产能进行生产配套，减少原料和能源的损耗，经济环保。而且工件只需进行简单的上下料便能进行镀膜加工，不用统一放到工件架上，减少转运。

附图说明

图1是真空镀膜机的立体图。

图2是真空镀膜机处于另一角度时的立体图。

图3是真空镀膜机的左视图。

图4是结构本体在隐藏结构盖体后的立体图。

图5是图4所示的结构本体的俯视图。

图6是图4所示的结构本体在进一步隐藏蒸发舟后的立体图。

图7是沿图5中A-A线段剖切后的剖视图。

具体实施方式

为了详细说明本实用新型的技术内容、构造特征，以下结合实施方式并配合附图作进一步说明。

如图1至图7所示，本实用新型的真空镀膜机10包括结构本体11、料架12、电极13、镀膜原料发生装置14和真空发生装置15。结构本体11具有一镀膜腔室111，料架12和电极13安装于镀膜腔室111内，料架12为托盘式结构，料架12适于承载一个工件01，镀膜原料发生装置14适于往镀膜腔室111输送工艺气体，真空发生装置15与镀膜腔室111连通并用于使镀膜腔室111形成真空环境。于本实用新型中，工件01为组装好的数码电子设备，如手机、平板电脑、电子阅读器、显示器等，但不限于此。于本实用新型中，每个真空镀膜机10只对一个工件01进行镀膜加工，镀膜不用等待，适于应用到小批次的生产，生产灵活，能够根据客户产能进行生产配套，减少原料和能源的损耗，经济环保。而且工件01只需进行简单的上下料便能进行镀膜加工，不用统一放到工件架上，减少转运。

如图1至图6所示，结构本体11包括结构框架112和可移离地盖合于结构框架112的结构盖体113。镀膜腔室111形成于结构框架112。结构盖体113设有观察窗结构114。观察窗结构114安装有透明材料件。通过打开结构盖体113打开镀膜腔室111，便于放入或取出工件01。而透过观察窗结构114能够方便观察镀膜腔室111的环境，能够观察镀膜情况，及时排除异常。较优的是，镀膜腔室111的开口朝上布置。结构框架112的顶部开设有一圈安装槽1121，安装槽1121呈包围镀膜腔室111的开口布置，安装槽1121安装有密封圈(图中未示)。借助密封圈能够加强结构盖体113与结构本体11之间的密封。

如图1至图3所示，真空镀膜机10还包括机架16和开合盖驱动器17。结构框架112安装于机架16，开合盖驱动器17安装于机架16，开合盖驱动器17的输出端安装于结构盖体113，开合盖驱动器17驱使结构盖体113盖合至结构框架112和移离于结构框架112。较优的是，开合盖驱动器17为气缸，但根据实际需要，也可以应用直线驱动器等结构，故不限于此。进一步地，真空镀膜机10还包括第一转动支架18和第二转动支架19。第一转动支架18的第一端铰接于机架16，第二转动支架19的第一端铰接于第一转动支架18的第二端，结构盖体113铰接于第二转动支架19的第二端，气缸转动安装于机架16，气缸的输出端转动安装于第一转动支架18。较优的是，第一转动支架18呈“Y”状结构，双叉臂一端结构铰接于机架16。第二转动支架19由两根交叉相接的杆结构组成，两根杆结构的交接处铰接于第一转动支架18远离双叉臂的一端。

如图1至图7所示，电极13沿料架12的周向包围料架12布置。如此，电极13能够在料架12的周侧将工艺气体均匀地电离成等离子体。镀膜原料发生装置14包括变压器141和蒸发舟142。蒸发舟142位于料架12的正下方，变压器141位于结构本体11外，蒸发舟142电连接于变压器141。将蒸发舟142设置于料架12的正下方，蒸发舟142蒸发得到工艺本体后，工艺气体受料架12的阻挡而向料架12的周侧流动，使工艺气体自然流向电极13处，电极13对工艺气体进行均匀电离。蒸发舟142采用现有结构即可，故在此不再赘述。进一步地，镀膜原料发生装置14还包括蠕动泵143。蠕动泵143的出口通过输送管与蒸发舟142连通，蠕动泵143的入口通过输送管与一原料瓶144连通。蠕动泵143能够定量输送原料到蒸发舟142。

如图1至图3所示，真空发生装置15包括真空泵151和抽气管152。结构盖体113开设有安装通孔(图中未标示)，抽气管152的第一端与真空泵151连通，抽气管152的第二端安装于安装通孔。

如图1至图3所示，机架16包括从上至下间隔布置的第一置放板161、第二置放板162和第三置放板163。第一置放板161与第二置放板162围出第一安装空间164，第二置放板162与第三置放板163围出第二安装空间165。结构本体11安装于第一置放板161，电极13电连接于一射频发生器131，射频发生器131、蠕动泵143和变压器141安装于第一安装空间164，真空泵151安装于第二安装空间165。以上的布置方式使得本实用新型的真空镀膜机10的结构更紧凑。

以下简单介绍本实用新型的真空镀膜机10的工作过程：抓取一手机放入镀膜腔室111，随后开合盖驱动器17驱使第一转动支架18转动，使得结构盖体113盖合到结构框架112上。接着，真空发生装置15在加工过程中持续抽出镀膜腔室111内的空气，使镀膜腔室111保持处于真空状态。蠕动泵143抽送原料瓶144的原料到蒸发舟142，蒸发舟142加热蒸发原料而得到工艺气体，射频发生器131启动，镀膜腔室111的工艺气体在电极13的交流电场的作用下被电离成等离子体，等离子体沉积到手机表面进行镀膜。镀膜加工完成后，关闭镀膜原料发生装置14、真空发生装置15和射频发生器131，开合盖驱动器17驱使第一转动支架18转动，使得结构盖体113移离于结构本体11，随后取出镀膜后的手机即可。经过测试，经过镀膜后的手机的水滴角在110°-120°之间，具有良好的疏水效果。

以上所揭露的仅为本实用新型的较佳实例而已，不能以此来限定本实用新型之权利范围，因此依本实用新型权利要求所作的等同变化，均属于本实用新型所涵盖的范围。

Claims (10)

1.一种真空镀膜机，其特征在于：包括结构本体、料架、电极、镀膜原料发生装置和真空发生装置，所述结构本体具有一镀膜腔室，所述料架和电极各安装于所述镀膜腔室内，所述料架呈托盘式结构，所述料架适于承载一个工件，所述镀膜原料发生装置适于往所述镀膜腔室输送工艺气体，所述真空发生装置与所述镀膜腔室连通并用于使所述镀膜腔室形成真空环境。

2.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述结构本体包括结构框架和可移离地盖合于所述结构框架的结构盖体，所述镀膜腔室形成于所述结构框架，所述结构盖体设有观察窗结构，所述观察窗结构安装有透明材料件。

3.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，还包括机架和开合盖驱动器，所述结构框架安装于所述机架，所述开合盖驱动器安装于所述机架，所述开合盖驱动器的输出端安装于所述结构盖体，所述开合盖驱动器驱使所述结构盖体盖合至所述结构框架和移离于所述结构框架。

4.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，还包括第一转动支架和第二转动支架，所述开合盖驱动器为气缸，所述第一转动支架的第一端铰接于所述机架，所述第二转动支架的第一端铰接于所述第一转动支架的第二端，所述结构盖体铰接于所述第二转动支架的第二端，所述气缸转动安装于所述机架，所述气缸的输出端转动安装于所述第一转动支架。

5.根据权利要求1所述的真空镀膜机，其特征在于，所述电极沿所述料架的周包围料架布置。

6.根据权利要求3所述的真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜原料发生装置包括变压器和蒸发舟，所述蒸发舟位于所述料架的正下方，所述变压器位于所述结构本体外，所述蒸发舟电连接于所述变压器。

7.根据权利要求6所述的真空镀膜机，其特征在于，所述镀膜原料发生装置还包括蠕动泵，所蠕动泵的出口通过输送管与所述蒸发舟连通，所述蠕动泵的入口通过输送管与一原料瓶连通。

8.根据权利要求7所述的真空镀膜机，其特征在于，所述真空发生装置包括真空泵和抽气管，所述结构盖体开设有安装通孔，所述抽气管的第一端与所述真空泵的出口连通，所述抽气管的第二端安装于所述安装通孔。

9.根据权利要求8所述的真空镀膜机，其特征在于，所述机架包括从上至下间隔布置的第一置放板、第二置放板和第三置放板，所述第一置放板与所述第二置放板围出第一安装空间，所述第二置放板与所述第三置放板围出第二安装空间，所述结构本体安装于所述第一置放板，所述电极电连接于一射频发生器，所述射频发生器、蠕动泵和变压器安装于所述第一安装空间，所述真空泵安装于所述第二安装空间。

10.根据权利要求2所述的真空镀膜机，其特征在于，镀膜腔室的开口朝上布置，所述结构框架的顶部开设有一圈安装槽，所述安装槽呈包围所述镀膜腔室的开口布置，所述安装槽中安装有密封圈。

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