CN217556272U - 一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备，一种蒸发钳锅，包括底座和设于底座的锅体，底座设有驱动机构和水冷盖板，该驱动机构连接有转臂和转轴，驱动机构驱动转轴转动，转轴带动转臂转动，转臂与水冷盖板连接、带动水冷盖板绕转轴运动，使水冷盖板与底座分开或盖在底座上。一种电子束蒸发镀膜设备，包括上述的蒸发钳锅。本实用新型提供一种蒸发钳锅及电子束蒸发卷绕镀膜设备，蒸发钳锅在镀膜结束后盖上水冷盖板，可快速阻断钳锅温度对镀膜基材的影响，简化常规镀膜设备的边跑膜边降温的操作，提高生产效率。
Description
技术领域
本实用新型涉及镀膜设备技术领域，尤其是涉及一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备。
背景技术
电子蒸发镀膜机是一种普适镀膜机，用于镀制各种单层膜、多层膜。可镀各种硬质膜、金属膜。主要用于制备纳米器件、有机光电器件的金属电极，以及制备用于生长纳米材料的催化剂薄膜层。目前电子束蒸发卷绕镀膜设备基本上是没有盖板的，蒸发材料预熔时间长，影响生产效率。而且常规的电子束蒸发卷绕镀膜设备在使用中需要边跑膜边降温，等降温结束后才能停止跑膜。
实用新型内容
本实用新型的目的旨在提供一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备，蒸发坩埚在镀膜结束后盖上水冷盖板，可快速阻断坩埚温度对镀膜基材的影响，可及时停机，简化常规镀膜设备的边跑膜边降温的操作，提高生产效率。
为解决上述技术问题，本实用新型提供的技术方案是：一种蒸发坩埚，包括底座和设于底座的锅体，底座设有驱动机构和水冷盖板，该驱动机构连接有转臂和转轴，驱动机构驱动转轴转动，转轴带动转臂转动，转臂与水冷盖板连接、带动水冷盖板绕转轴运动，使水冷盖板与底座分开或盖在底座上。
本实用新型采用上述技术方案，底座设在电子束蒸发卷绕镀膜设备的真空容器内部，水冷盖板可转动在底座上，在镀膜完成后盖在锅体上用于阻断锅体的温度对镀膜基材的影响。驱动机构驱动转轴旋转，带动转臂旋转，转臂由于与水冷盖板连接，带动水冷盖板绕转轴做旋转运动。在进行镀膜时，水冷盖板呈打开状态，镀膜结束后，水冷盖板盖在底座上，阻断坩埚的蒸发温度对镀膜基材的影响，可及时停机不需要边跑膜边降温操作，具有提高生产效率的优点。
上述的蒸发坩埚，锅体内部设有可输入冷却水的冷却腔室。锅体用于盛放蒸发材料，在电子束照射蒸发材料时，产生蒸发气流，蒸发气流上升贴附在镀膜基材的表面，完成对镀膜基材的镀制。冷却腔室用于输入冷却水，在镀膜完成后，可加快降下锅体的温度，阻断锅体的蒸发温度对镀膜基材的影响。其中冷却腔室中的冷却水可更换，在水蒸发完后可及时补充。
上述的蒸发坩埚，水冷盖板内部设有可输入冷却水的冷却水通道。水冷盖板内部设冷却水通道，该冷却水通道可增加散热效果，水冷盖板盖在底座上时，锅体的蒸发温度被水冷盖板吸收，快速阻断坩埚的温度对镀膜基材的影响。
上述的蒸发坩埚，驱动机构包括气缸、齿条和转动齿轮，气缸的输出轴与齿条连接，齿条与转动齿轮啮合连接，转动齿轮与转轴连接。气缸驱动齿条往复运动，齿条带动转动齿轮旋转，转动齿轮带动转轴旋转，转轴带动转臂绕转轴转动，转臂控制水冷盖板运动，实现水冷盖板的开合。在镀膜时，气缸控制水冷盖板保持打开状态，镀膜完成后，气缸控制水冷盖板及时盖合在底座上，快速阻断坩埚温度对镀膜基材的影响。
为解决上述问题，本实用新型提供的另一技术方案是：一种电子束蒸发卷绕镀膜设备，包括上述技术方案中任一项所述的蒸发坩埚。
上述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，包括真空容器、设于真空容器内的放卷系统、镀膜辊及收卷系统，镀膜基材从放卷系统输出，绕过镀膜辊后复卷在收卷系统上，蒸发坩埚设于镀膜辊的下方。蒸发坩埚受热，将置于其上的蒸发材料蒸发，形成蒸发气流，蒸发气流上升镀制在镀膜基材的表面，完成镀膜。
上述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，真空容器的侧壁设有电子枪，电子枪发出的电子束射向蒸发坩埚的锅体上。锅体上设置蒸发材料，电子枪工作，发出电子束射向蒸发材料上，蒸发材料受热产生蒸发气流，该蒸发气流上升镀制在镀膜基材表面，完成镀膜。
上述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，真空容器上设有真空抽气系统。真空抽气系统用于将真空容器内抽气形成真空状态，保障镀膜环境的真空度。
本实用新型取得的有益效果是：在镀膜完成后，通过水冷盖板快速阻断蒸发坩埚的温度对镀膜基材的影响，无需边跑膜边降温，减少设备的能耗。在开始下次生产时，蒸发坩埚因保温好，可以加快蒸发材料预熔时间，提高生产效率。
附图说明
图1是本实用新型实施例的蒸发坩埚的水冷盖板处于打开和关合状态的结构示意图；
图2是本实用新型实施例的蒸发坩埚的驱动机构连接水冷盖板的侧视及俯视结构示意图；
图3是本实用新型实施例的蒸发坩埚的驱动机构的结构示意图；
图4是本实用新型实施例的电子束蒸发卷绕镀膜设备的内部结构示意图。
附图标记说明：蒸发坩埚1a，底座1，水冷盖板11，冷却水通道111，锅体2，冷却腔室21，驱动机构3，转臂31，转轴32，气缸33，齿条34，转动齿轮35，真空容器4，放卷系统5，镀膜辊6，收卷系统7，电子枪8，真空抽气系统9。
具体实施方式
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步的说明。
参照图1至图3所示，一种蒸发坩埚，包括底座1和设于底座1的锅体2，底座1设有驱动机构3和水冷盖板11，该驱动机构3连接有转臂31和转轴32，驱动机构3驱动转轴32 转动，转轴32带动转臂31转动，转臂31与水冷盖板11连接、带动水冷盖板11绕转轴32 运动，使水冷盖板11与底座1分开或盖在底座1上。当水冷盖板11盖设在底座1上时，可阻断锅体2上的温度对镀膜造成影响，使用本蒸发坩埚的镀膜设备可及时停机，减少能耗。
本实施方式中，锅体2内部设有可输入冷却水的冷却腔室21。冷却腔室21用于在停止镀膜或镀膜完成后，输入冷却水可快速冷却锅体2。
进一步的，水冷盖板11内部设有可输入冷却水的冷却水通道111。在镀膜结束后，水冷盖板11内部设置的冷却水通道111内充满冷却水，实现快速阻断温度传递的目的。
驱动机构3包括气缸33、齿条34和转动齿轮35，气缸33与齿条34连接、驱动齿条34往复运动，齿条34与转动齿轮35啮合连接、驱动转动齿轮35转动，转动齿轮35与转轴32 连接、带动转轴32转动。气缸33动作，驱动齿条34做往复直线运动，齿条34带动转动齿轮35往复转动，转动齿轮35带动转轴32往复转动，转轴32与转臂31连接、带动转臂31 绕转轴32转动，转臂31在转动中带动水冷盖板11运动，以使水冷盖板11打开或盖合在底座1上。
参照图4所示，一种电子束蒸发卷绕镀膜设备，包括上述具体实施方式所述的蒸发坩埚 1a。
本电子束蒸发卷绕镀膜设备包括真空容器4、设于真空容器4内的放卷系统5、镀膜辊6 及收卷系统7，镀膜基材从放卷系统5输出，绕过镀膜辊6后复卷在收卷系统7上，蒸发坩埚1a设于镀膜辊6的下方。
真空容器4的侧壁设有电子枪8，电子枪8发出的电子束射向蒸发坩埚1a的锅体2上。当电子枪8发出电子束射向锅体2上时，锅体2上的蒸发材料受热后，被蒸发，产生蒸发气流，蒸发气流上身粘附镀制在镀膜基材上，完成镀制。
在本实施方式中，真空容器4上设有真空抽气系统9。
本实用新型在具体实施时，参照图1至图4所示，镀膜基材缠绕在放卷系统5上，绕过镀膜辊6后复卷缠绕在收卷系统7上。在镀制时，气缸33驱动齿条34运动，齿条34带动转动齿轮35旋转，转动齿轮35带动转轴32及转臂31转动，转臂31控制水冷盖板11打开。电子枪8发出电子束照射在蒸发材料上，使得蒸发材料受热蒸发，蒸发后的材料聚集形成蒸发气流，该蒸发气流上升贴附镀膜辊6上缠绕的且输送运动的镀膜基材上，基材最后复卷在收卷系统7上。
当镀膜完成后，气缸33驱动齿条34运动，齿条34带动转动齿轮35反方向旋转，转动齿轮35带动转轴32及转臂31反向转动，转臂31控制水冷盖板11盖合在底座1上，以割断锅体2上的温度对镀膜基材的影响。其中，当水冷盖板11盖在底座1上时，其内部的冷却水通道111可充满冷却水，提高阻断锅体2的温度的传递，还可起到冷却锅体2的作用。在锅体2的冷却腔室21内注入冷却水，可提高锅体2的冷却速度。
综上所述，本实用新型已如说明书及图示内容，制成实际样品且经多次使用测试，从使用测试的效果看，可证明本实用新型能达到其所预期之目的，实用性价值乃无庸置疑。以上所举实施例仅用来方便举例说明本实用新型，并非对本实用新型作任何形式上的限制，任何所属技术领域中具有通常知识者，若在不脱离本实用新型所提技术特征的范围内，利用本实用新型所揭示技术内容所作出局部更动或修饰的等效实施例，并且未脱离本实用新型的技术特征内容，均仍属于本实用新型技术特征的范围内。
Claims (8)
1.一种蒸发坩埚，包括底座(1)和设于底座(1)的锅体(2)，其特征在于：底座(1)设有驱动机构(3)和水冷盖板(11)，该驱动机构(3)连接有转臂(31)和转轴(32)，驱动机构(3)驱动转轴(32)转动，转轴(32)带动转臂(31)转动，转臂(31)与水冷盖板(11)连接、带动水冷盖板(11)绕转轴(32)运动，使水冷盖板(11)与底座(1)分开或盖在底座(1)上。
2.根据权利要求1所述的蒸发坩埚，其特征在于：锅体(2)内部设有可输入冷却水的冷却腔室(21)。
3.根据权利要求1所述的蒸发坩埚，其特征在于：水冷盖板(11)内部设有可输入冷却水的冷却水通道(111)。
4.根据权利要求1所述的蒸发坩埚，其特征在于：驱动机构(3)包括气缸(33)、齿条(34)和转动齿轮(35)，气缸(33)的输出轴与齿条(34)连接，齿条(34)与转动齿轮(35)啮合连接，转动齿轮(35)与转轴(32)连接。
5.一种电子束蒸发卷绕镀膜设备，其特征在于：包括上述权利要求1至4任一项所述的蒸发坩埚(1a)。
6.根据权利要求5所述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，其特征在于：包括真空容器(4)、设于真空容器(4)内的放卷系统(5)、镀膜辊(6)及收卷系统(7)，镀膜基材从放卷系统(5)输出，绕过镀膜辊(6)后复卷在收卷系统(7)上，蒸发坩埚(1a)设于镀膜辊(6)的下方。
7.根据权利要求6所述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，其特征在于：真空容器(4)的侧壁设有电子枪(8)，电子枪(8)发出的电子束射向蒸发坩埚(1a)的锅体(2)上。
8.根据权利要求6所述的电子束蒸发卷绕镀膜设备，其特征在于：真空容器(4)上设有真空抽气系统(9)。
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| CN202221308444.8U CN217556272U (zh) | 2022-05-27 | 2022-05-27 | 一种蒸发坩埚及电子束蒸发卷绕镀膜设备 |
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- 2022-05-27 CN CN202221308444.8U patent/CN217556272U/zh active Active
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