CN217513610U - 一种具有清洗功能的双面研磨抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及双面研磨抛光设备领域的一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，包括送料组件、抛光组件、清洗组件和控制器，控制器安装在清洗组件上，清洗组件包括固定座体、过滤器、供水泵、清洗喷头和高压气枪，送料组件和抛光组件均安装在固定座体的上端，清洗喷头通过保护壳体安装在抛光组件的上方，总集水槽需与外部水源进行连接，通过送料组件将外部工件送入抛光腔体内，通过抛光组件对工件进行抛光，抛光过程中通过供水泵将水供至清洗喷头喷出，使之将抛光过程中产生的粉末带走，而污水会沿着副集水槽流入总集水槽，后通过过滤器进行过滤，以进行循环利用，当抛光完成后，通过高压气枪将工件表面水渍风干吹去，以进行完成清洗工作。

Description

一种具有清洗功能的双面研磨抛光机

技术领域

本实用新型涉及双面研磨抛光设备领域，具体涉及一种具有清洗功能的双面研磨抛光机。

背景技术

抛光机主要是用于对工件的表面进行研磨工作的设备，从而去除氧化层和浅痕等目的，同时现有的抛光机根据需求可分为不同的种类，其中包括双面研磨抛光机，双面研磨抛光一体机作为一种机械加工设备，能够对工件进行双面研磨抛光，对比现有的研磨抛光设备具备较高的加工效率。

目前市场上常见的双面研磨抛光机，在完成对工件的研磨抛光工作后，无法对工件进行清理，导致在上下料后需送至别处进行清理，增加了工序时间，降低了工作效率，而在现有的技术中无法在不停止抛光机的情况下进行上下料，也导致了降低工作效率，针对现有技术的不足，本实用新型公开了一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，以解决上述问题。

发明内容

本实用新型的目的是解决以上缺陷，提供一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，以解决上述背景技术中提到的问题。

本实用新型的目的是通过以下方式实现的：

一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，包括送料组件、抛光组件、清洗组件和控制器，控制器安装在清洗组件上，清洗组件包括固定座体、过滤器、供水泵、清洗喷头和高压气枪，送料组件和抛光组件均安装在固定座体的上端，清洗喷头通过保护壳体安装在抛光组件的上方，保护壳体内设有抛光腔体，抛光腔体的两端分别通过进料口和出料口与外部进行连接，高压气枪安装在出料口的上端，抛光组件的两侧均设有副集水槽，过滤器和供水泵均安装在固定座体内，副集水槽通过总集水槽与过滤器进行连接，过滤器与供水泵进行连接，供水泵与清洗喷头进行连接。

上述说明中进一步的，送料组件包括移动导轨、送料电机和若干个固定平台，送料电机和移动导轨均固定安装在固定座体的上端，固定平台可移动地设置于移动导轨上，固定平台通过链条与送料电机进行连接，移动导轨内设有用于容纳链条的容纳槽，在使用时，将工件固定在固定平台上，通过送料电机带动链条在容纳槽内旋转，使之带动固定平台及其工件在移动导轨上进行移动，以达到进行送料的目的。

上述说明中进一步的，固定平台设有八个，八个固定平台等间距分布的设置于移动导轨上，均匀等间距的排布可便于生产管理。

上述说明中进一步的，移动导轨由工作路段和上下料路段构成，工作路段设置于抛光腔体内，上下料路段设置于保护壳体的外侧，工作路段的两端分别与上下料路段的两端进行连接，使移动导轨形成闭环，在使用时，工件由链条带动至抛光腔体内由抛光组件进行抛光作业，而位于抛光腔体外的固定平台则可由使用者进行上下料，以达到在不停止抛光机的情况下进行上下料，增加了工作效率。

上述说明中进一步的，工作路段的下端设有集水倾斜面，集水倾斜面的下端与总集水槽进行连接，集水倾斜面可避免清洁水淤积。

上述说明中进一步的，抛光组件设有两个，两个抛光组件以工作路段为中心线呈对称分布，以对工件进行双面抛光。

上述说明中进一步的，抛光组件包括抛光丝杆、抛光导轨、抛光电机和抛光盘，抛光导轨安装在固定座体的上端，抛光电机通过移动导块可移动地安装在抛光导轨上，抛光丝杆安装在抛光导轨上，移动导块与抛光丝杆进行连接，抛光盘可拆卸地安装在抛光电机上，在使用时，通过抛光丝杆带动抛光电机在抛光导轨上进行线性移动，以进行抛光进给运动，而抛光盘由抛光电机带动进行旋转，使之对工件进行抛光。

上述说明中进一步的，固定座体的两侧均设置有用于与抛光腔体进行连接的密封门，密封门的作用在于可便于清理抛光腔体。

本实用新型的有益效果：在使用时，总集水槽需与外部水源进行连接，通过送料组件将外部工件送入抛光腔体内，通过抛光组件对工件进行抛光，抛光过程中通过供水泵将水供至清洗喷头喷出，使之将抛光过程中产生的粉末带走，而污水会沿着副集水槽流入总集水槽，后通过过滤器进行过滤，以进行循环利用，当抛光完成后，通过高压气枪将工件表面水渍风干吹去，以进行完成清洗工作。

附图说明

图1为本实用新型一种具有清洗功能的双面研磨抛光机的立体图；

图2为本实用新型一种具有清洗功能的双面研磨抛光机的主视图；

图3为图2中沿A-A线的剖视图；

图4为图3中B的放大示意图；

图5为本实用新型一种具有清洗功能的双面研磨抛光机的俯视图；

图6为图5中沿C-C线的剖视图；

图7为本实用新型一种具有清洗功能的双面研磨抛光机中抛光腔体内的立体示意图；

图中附图标记分别为：1-固定座体，101-副集水槽，102-总集水槽，103-集水倾斜面，2-控制器，3-过滤器，4-供水泵，5-清洗喷头，6-高压气枪，7-保护壳体，701-抛光腔体，702-进料口，703-出料口，8-密封门，9-移动导轨，901-容纳槽，10-送料电机，11-固定平台，12-链条，13-抛光丝杆，14-抛光导轨，15-抛光电机，16-抛光盘，17-移动导块。

具体实施方式

下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。

本实施例，参照图1-图7，其具体实施的一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，包括送料组件、抛光组件、清洗组件和控制器2，控制器2安装在清洗组件上，清洗组件包括固定座体1、过滤器3、供水泵4、清洗喷头5和高压气枪6，送料组件和抛光组件均安装在固定座体1的上端，清洗喷头5通过保护壳体7安装在抛光组件的上方，保护壳体7内设有抛光腔体701，抛光腔体701的两端分别通过进料口702和出料口703与外部进行连接，高压气枪6安装在出料口703的上端，抛光组件的两侧均设有副集水槽101，过滤器3和供水泵4均安装在固定座体1内，副集水槽101通过总集水槽102与过滤器3进行连接，过滤器3与供水泵4进行连接，供水泵4与清洗喷头5进行连接，固定座体1的两侧均设置有用于与抛光腔体701进行连接的密封门8，密封门8的作用在于可便于清理抛光腔体701，在使用时，总集水槽102需与外部水源进行连接，通过送料组件将外部工件送入抛光腔体701内，通过抛光组件对工件进行抛光，抛光过程中通过供水泵4将水供至清洗喷头5喷出，使之将抛光过程中产生的粉末带走，而污水会沿着副集水槽101流入总集水槽102，后通过过滤器3进行过滤，以进行循环利用，当抛光完成后，通过高压气枪6将工件表面水渍风干吹去，以进行完成清洗工作。

本实施例，送料组件包括移动导轨9、送料电机10和若干个固定平台11，送料电机10和移动导轨9均固定安装在固定座体1的上端，固定平台11可移动地设置于移动导轨9上，固定平台11通过链条12与送料电机10进行连接，移动导轨9内设有用于容纳链条12的容纳槽901，在使用时，将工件固定在固定平台11上，通过送料电机10带动链条12在容纳槽901内旋转，使之带动固定平台11及其工件在移动导轨9上进行移动，以达到进行送料的目的，固定平台11设有八个，八个固定平台11等间距分布的设置于移动导轨9上，均匀等间距的排布可便于生产管理，移动导轨9由工作路段和上下料路段构成，工作路段设置于抛光腔体701内，上下料路段设置于保护壳体7的外侧，工作路段的两端分别与上下料路段的两端进行连接，使移动导轨9形成闭环，在使用时，工件由链条12带动至抛光腔体701内由抛光组件进行抛光作业，而位于抛光腔体701外的固定平台11则可由使用者进行上下料，以达到在不停止抛光机的情况下进行上下料，增加了工作效率，工作路段的下端设有集水倾斜面103，集水倾斜面103的下端与总集水槽102进行连接，集水倾斜面103可避免清洁水淤积，

本实施例，抛光组件设有两个，两个抛光组件以工作路段为中心线呈对称分布，以对工件进行双面抛光，抛光组件包括抛光丝杆13、抛光导轨14、抛光电机15和抛光盘16，抛光导轨14安装在固定座体1的上端，抛光电机15通过移动导块17可移动地安装在抛光导轨14上，抛光丝杆13安装在抛光导轨14上，移动导块17与抛光丝杆13进行连接，抛光盘16可拆卸地安装在抛光电机15上，在使用时，通过抛光丝杆13带动抛光电机15在抛光导轨14上进行线性移动，以进行抛光进给运动，而抛光盘16由抛光电机15带动进行旋转，使之对工件进行抛光。

以上所述，仅是本实用新型较佳实施例而已，并非对本实用新型作任何形式上的限制，虽然本实用新型以较佳实施例公开如上，然而并非用以限定本实用新型，任何熟悉本专业的技术人员，在不脱离本实用新型技术方案范围内，当利用上述揭示的技术内容作出些许变更或修饰为等同变化的等效实施例，但凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型技术是指对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与修饰，均属于本实用新型技术方案的范围内。

Claims (8)

1.一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，包括送料组件、抛光组件、清洗组件和控制器，控制器安装在清洗组件上，其特征在于：所述清洗组件包括固定座体、过滤器、供水泵、清洗喷头和高压气枪，送料组件和抛光组件均安装在固定座体的上端，清洗喷头通过保护壳体安装在抛光组件的上方，保护壳体内设有抛光腔体，抛光腔体的两端分别通过进料口和出料口与外部进行连接，高压气枪安装在出料口的上端，抛光组件的两侧均设有副集水槽，过滤器和供水泵均安装在固定座体内，副集水槽通过总集水槽与过滤器进行连接，过滤器与供水泵进行连接，供水泵与清洗喷头进行连接。

2.根据权利要求1所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述送料组件包括移动导轨、送料电机和若干个固定平台，送料电机和移动导轨均固定安装在固定座体的上端，固定平台可移动地设置于移动导轨上，固定平台通过链条与送料电机进行连接，移动导轨内设有用于容纳链条的容纳槽。

3.根据权利要求2所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：固定平台设有八个，八个固定平台等间距分布的设置于移动导轨上。

4.根据权利要求2所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述移动导轨由工作路段和上下料路段构成，工作路段设置于抛光腔体内，上下料路段设置于保护壳体的外侧，工作路段的两端分别与上下料路段的两端进行连接，使移动导轨形成闭环。

5.根据权利要求4所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述工作路段的下端设有集水倾斜面，集水倾斜面的下端与总集水槽进行连接。

6.根据权利要求4所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述抛光组件设有两个，两个抛光组件以工作路段为中心线呈对称分布。

7.根据权利要求6所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述抛光组件包括抛光丝杆、抛光导轨、抛光电机和抛光盘，抛光导轨安装在固定座体的上端，抛光电机通过移动导块可移动地安装在抛光导轨上，抛光丝杆安装在抛光导轨上，移动导块与抛光丝杆进行连接，抛光盘可拆卸地安装在抛光电机上。

8.根据权利要求1所述一种具有清洗功能的双面研磨抛光机，其特征在于：所述固定座体的两侧均设置有用于与抛光腔体进行连接的密封门。

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