CN217451199U - 旋转喷淋装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种旋转喷淋装置，包括清洗槽；喷管组件，设置在清洗槽内，喷管组件包括固定喷管和若干旋转喷管，固定喷管、若干旋转喷管均具有进水端，进水端上设置有进水口，进水端穿出清洗槽的侧壁，进水口位于清洗槽外，固定喷管与若干旋转喷管上均设置有喷水机构，喷水机构位于清洗槽内；及驱动机构，驱动若干旋转喷管在清洗槽内绕其轴线转动。本申请通过设置驱动机构来驱动若干旋转喷管在清洗槽内绕其轴线转动以对硅片进行旋转喷淋，增加了每个旋转喷管的喷淋面积，硅片的同一区域可被不同的旋转喷管喷淋清洗，节省时间，降低成本，提高清洗效率。

Description

旋转喷淋装置

技术领域

本实用新型涉及一种旋转喷淋装置，属于硅片加工设备技术领域。

背景技术

硅是目前很常见的半导体原料，是太阳能电池最理想的原材料。硅原料一般需要经过清洗、铸锭、切块、粘胶、切片、脱胶、清洗等工序后，才能用于太阳能电池的制备生产。在实际的生产操作中，硅块被切成片状后，必须要经过脱胶和清洗才能进行使用。传统工艺中都是通过三组固定的喷管对硅片进行喷淋冲洗，但是，清洗效果并不理想，且经常存在清洗不干净的情况，后续还要对硅片进行二次清洗，增加了生产成本，延长了生产周期，降低了工作效率，同时也增强了产线工人的劳动强度。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种结构简单、清洗效率高且清洗效果好的旋转喷淋装置。

为达到上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种旋转喷淋装置，包括：

清洗槽；

喷管组件，设置在所述清洗槽内，所述喷管组件包括固定喷管和若干旋转喷管，所述固定喷管、若干所述旋转喷管均具有进水端，所述进水端上设置有进水口，所述进水端穿出所述清洗槽的侧壁，所述进水口位于所述清洗槽外，所述固定喷管与若干所述旋转喷管上均设置有喷水机构，所述喷水机构位于所述清洗槽内；及

驱动机构，驱动若干所述旋转喷管在所述清洗槽内绕其轴线转动。

进一步地，所述旋转喷管在所述清洗槽内呈360度连续转动。

进一步地，所述进水端与所述侧壁之间通过旋转接头连接，以使所述进水端可相对所述侧壁转动。

进一步地，所述旋转接头内形成有环形水槽，所述旋转接头上开设有将所述环形水槽与外部连通的进水通孔，所述进水端穿过所述旋转接头，且所述进水口与所述环形水槽对接。

进一步地，所述进水端上设置有用以将所述进水端安装在所述旋转接头上的防脱件。

进一步地，所述固定喷管通过卡固件固定在所述清洗槽内。

进一步地，所述固定喷管位于若干所述旋转喷管上方。

进一步地，所述驱动机构设置在所述清洗槽外侧，所述旋转喷管具有与所述进水端相对设置的连接端，所述连接端穿过所述清洗槽的另一侧壁，所述驱动机构驱动所述连接端转动。

进一步地，所述驱动机构包括若干气缸组件和传动组件，所述传动组件连接所述气缸组件的柱塞和所述连接端以将所述气缸组件的直线运动转化为旋转运动。

进一步地，所述清洗槽的外侧上设置有用以安装所述驱动机构的安装架。

进一步地，所述喷水机构为设置在所述固定喷管与所述旋转喷管上的若干喷口，所述若干喷口等间距设置且所述若干喷口的轴线垂直于所述旋转喷管的轴线。

本实用新型的有益效果在于：本申请通过设置驱动机构来驱动若干旋转喷管在清洗槽内绕其轴线转动以对硅片进行旋转喷淋，增加了每个旋转喷管的喷淋面积，且硅片的同一区域可以被不同的旋转喷管喷淋清洗，与现有技术相比，避免因喷淋位置固定而导致的硅片部分区域清洗不到或清洗不充分的情况，无需对硅片进行重复清洗，既节省时间、降低生产成本，又能保证硅片的清洗效果，提高清洗效率。

上述说明仅是本实用新型技术方案的概述，为了能够更清楚了解本实用新型的技术手段，并可依照说明书的内容予以实施，以下以本实用新型的较佳实施例并配合附图详细说明如后。

附图说明

图1为本实用新型一实施例旋转喷淋装置的结构示意图；

图2为图1所示旋转喷淋装置另一视角的结构示意图；

图3为图1所示的气缸组件及安装架组装后的结构示意图。

具体实施方式

下面结合附图和实施例，对本实用新型的具体实施方式作进一步详细描述。以下实施例用于说明本实用新型，但不用来限制本实用新型的范围。

请参见图1至图3，本实用新型一实施例所示的一种旋转喷淋装置包括清洗槽1、喷管组件2和驱动机构3。喷管组件2设置在清洗槽1内，喷管组件2包括固定喷管21和若干旋转喷管22，固定喷管21、若干旋转喷管22均具有进水端，进水端上设置有进水口(未图示)，进水端穿出清洗槽1的侧壁12，进水口位于清洗槽1外，固定喷管21与若干旋转喷管22上均设置有喷水机构8，喷水机构8位于清洗槽1内。驱动机构3驱动若干旋转喷管22在清洗槽1内绕其轴线转动。本申请通过设置驱动机构3来驱动若干旋转喷管22在清洗槽1内绕其轴线转动以对硅片进行旋转喷淋，增加了每个旋转喷管22的喷淋面积，且硅片的同一区域可以被不同的旋转喷管22喷淋清洗，与现有技术相比，避免因喷淋位置固定而导致的硅片部分区域清洗不到或清洗不充分的情况，无需对硅片进行重复清洗，既节省时间、降低生产成本，又能保证硅片的清洗效果，提高了清洗效率。

需要说明的是，硅片是以硅块为原材料被切割后得到的的片状物体，是一种良好的半导体材料，硅块在被切成片状后，必须要经过脱胶和清洗才能进行使用，当硅片进行脱胶清洗时，需将硅片固定在晶托上，然后通过晶托使硅片伸入清洗槽1内，以使喷管组件2对该硅片进行清洗。在本实施例中，清洗槽1为上端具有开口11的长方形槽体结构，其侧壁12上开设有用以进水端穿出的若干开口6，晶托与硅片通过开口11伸入清洗槽1内。

在本实施例中，若干旋转喷管22在清洗槽1内呈360度连续转动。具体的，若干旋转喷管22呈360度连续转动，以使若干旋转喷管22上喷水机构8即可以清洗硅片，也可以清洗清洗槽1的内部，同时多个旋转喷管22之间还可以相互清洗，避免清洗槽1或旋转喷管22上的残余污渍会对清洗干净的硅片产生二次污染，提高清洗效率。在其他实施例中，若干旋转喷管22的转动方式及范围也可设置成其他模式，具体如若干旋转喷管22在清洗槽1内呈180度往复转动，或者呈30度至90度转动，具体结合设计需求进行调整，在此不详细列举。

在本实施例中，进水端与侧壁12之间通过旋转接头4连接，以使进水端可相对侧壁12转动。同时，旋转接头4内形成有环形水槽(未图示)，旋转接头4上开设有将环形水槽与外部连通的进水通孔41，进水端穿过旋转接头4，且进水口与环形水槽对接。具体的，旋转接头4固定在侧壁12上，进水端穿插在旋转接头4的轴孔(未图示)里。需要说明的是，旋转接头4是一种管路连接器件，其内部具有两个轴承，当旋转接头4的外部壳体固定在侧壁12上，其内部的轴承可相对进水端静止，以实现进水端可相对侧壁12转动。进一步地，通过环形水槽、进水口及进水通孔41的配合，使得进水通孔41预侧壁12相对静止的同时可以实现与环形水槽及进水口通水，从而使旋转喷管22不会因其旋转的工作特性而影响通水效果。当然，在其他实施例中，也可通过在清洗槽1的其他位置设置轴承来实现进水端可相对侧壁12转动，具体如，在清洗槽1的内壁上设置轴承，并使进水端穿过该轴承再穿出于开孔6。

在本实施例中，进水端上设置有用以将进水端安装在旋转接头4上的防脱件5。通过在进水端上设置防脱件5，以使旋转接头4可以卡固在侧壁12与防脱件5之间，进一步加强进水端与旋转接头4之间的连接紧密型，防止旋转喷管22在使用时出现晃动影响清洗效果。需要说明的是，进水端上设置有第一螺纹段(未标号)，防脱件5具体为与该第一螺纹段匹配的螺母，在其他实施例中，也可不设置防脱件5或将防脱件5设置为其他紧固件，在此不一一举例。

在本实施例中，固定喷管21通过卡固件7固定在清洗槽1内。具体的，卡固件7为具有卡槽(未标号)的固定板，固定喷管21卡置在卡槽内，以使固定喷管21更加稳固的固定在清洗槽1内，且不会受旋转喷管22的影响。

固定喷管21位于若干旋转喷管22上方。当进行清洗时，晶托带动硅片从开口11进入清洗槽1内，此时，固定喷管21对用于固定硅片的晶托进行喷淋冲洗，以防止硅片上的胶或灰尘等附着在晶托上，从而对下一片进行清洗的硅片产生污染。

在本实施例中，驱动机构3设置在清洗槽1外侧，旋转喷管22具有与进水端相对设置的连接端，连接端穿过清洗槽的另一侧壁13，驱动机构3驱动连接端转动。将驱动机构3设置在清洗槽1外侧，可以避免驱动机构3长时间浸泡在水里导致损坏，且方便后续的维修更换。在其他实施例中，驱动机构3可以结合实际需求调整，也可设置在清洗槽1内。

在本实施例中，驱动机构3包括若干气缸组件31和传动组件32，传动组件32连接气缸组件31的柱塞312和连接端以将气缸组件31的直线运动转化为旋转运动。具体的，传动组件32包括两两依次活动连接的第一驱动杆321、第二驱动杆322及第三驱动杆323，其中，第三驱动杆323上设置有与连通端固定的套环324。当气缸组件31启动后，柱塞312做直线往复运动，带动第一驱动杆321做直线往复运动，第一驱动杆321带动第二驱动杆322移动，由于第一驱动杆321与第二驱动杆322之间为活动连接，以此使第二驱动杆322在左右直线往复运动的同时产生一定幅度的上下摆动，第二驱动杆322带动第三驱动杆323移动，由于第二驱动杆322与第三驱动杆323之间也为活动连接，以使第三驱动杆323在上下往复运动的同时产生更大幅度的左右摆动，以使其端部的套环324可以带动连接端沿其轴线转动。需要说明的是，套环324内壁上设置有螺纹，连接端上设置有与套环324匹配的第二螺纹段(未标号)，第一驱动杆321与第二驱动杆322及第二驱动杆322与第三驱动杆323之间均通过销轴325连接。在其他实施例中，驱动机构也可使用其他驱动结构，具体可以为电机，在此不一一举例。

清洗槽1的外侧上设置有用以安装驱动机构3的安装架9。具体的，安装架9包括主板91和固定在主板91两端的侧架92，两个侧架92上具有用以卡固驱动机构3的凹槽(未标号)。以本实施例为例，缸筒311通过第一螺母313卡接在两个安装侧板92之间，柱塞312的一端穿过于凹槽并通过第二螺母组314与第一驱动杆321固定。

在本实施例中，喷水机构8为设置在固定喷管21与旋转喷管22上的若干喷口，若干喷口8等间距设置且若干喷口8的轴线垂直于旋转喷管22的轴线。具体的，若干喷口8沿轴向排布于固定喷管21与所述旋转喷管22，若干喷口8位于同一直线上且若干喷口8等间距设置，使得每个喷口8均可同时对硅片上的同一区域进行多重喷淋清洗，且对硅片各处的清洗强度相同，使得喷淋冲洗更加均匀彻底。同时将若干喷口8的轴线均垂直于旋转喷管22的轴线设置，使得自旋转喷管22内进入喷口8并从喷口8涌出的清洁用水的冲击力更强，不会因受到喷口8的侧壁阻挡降低喷口8内喷出的清洁用水的冲击力，从而可以提高清洗效果和清洗效率。当然，在其他实施例中，也可将喷水机构8设置为其他结构，具体可以为设置在固定喷管21与若干旋转喷管22上的长开口，或若干喷口8不设置在同一直线上；也可使若干喷口8于固定喷管21与所述旋转喷管22上随机排布，具体如沿固定喷管21或旋转喷管22的中心轴螺旋排布或者若干喷口8之间的间距等差设置；也可使喷口8的轴线与旋转喷管22的轴线成角度设置，具体如，若干喷口8的轴线与旋转喷管22的轴线间的夹角呈锐角，以使若干喷口8均朝向一个方向，可以对待清洁硅片的某一位置处重点清洗。上述的喷水机构8的形状及排布方式以及与旋转喷管22之间的角度关系均可结合设计需求进行调整，在此不一一举例。

以上实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上实施例仅表达了本实用新型的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本实用新型的保护范围。因此，本实用新型专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种旋转喷淋装置，其特征在于，包括：

清洗槽；

喷管组件，设置在所述清洗槽内，所述喷管组件包括固定喷管和若干旋转喷管，所述固定喷管、若干所述旋转喷管均具有进水端，所述进水端上设置有进水口，所述进水端穿出所述清洗槽的侧壁，所述进水口位于所述清洗槽外，所述固定喷管与若干所述旋转喷管上均设置有喷水机构，所述喷水机构位于所述清洗槽内；及

驱动机构，驱动若干所述旋转喷管在所述清洗槽内绕其轴线转动。

2.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，若干所述旋转喷管在所述清洗槽内呈360度连续转动。

3.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述进水端与所述侧壁之间通过旋转接头连接，以使所述进水端可相对所述侧壁转动。

4.如权利要求3所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述旋转接头内形成有环形水槽，所述旋转接头上开设有将所述环形水槽与外部连通的进水通孔，所述进水端穿过所述旋转接头，且所述进水口与所述环形水槽对接。

5.如权利要求3所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述进水端上设置有用以将所述进水端安装在所述旋转接头上的防脱件。

6.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述固定喷管通过卡固件固定在所述清洗槽内。

7.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述固定喷管位于若干所述旋转喷管上方。

8.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述驱动机构设置在所述清洗槽外侧，所述旋转喷管具有与所述进水端相对设置的连接端，所述连接端穿过所述清洗槽的另一侧壁，所述驱动机构驱动所述连接端转动。

9.如权利要求8所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述驱动机构包括若干气缸组件和传动组件，所述传动组件连接所述气缸组件的柱塞和所述连接端以将所述气缸组件的直线运动转化为旋转运动。

10.如权利要求1所述的旋转喷淋装置，其特征在于，所述喷水机构为设置在所述固定喷管与所述旋转喷管上的若干喷口，所述若干喷口等间距设置且所述若干喷口的轴线垂直于所述旋转喷管的轴线。

Images