CN217451149U - 一种硅片表面抛光用清洁装置 - Google Patents
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Abstract
本实用新型涉及一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机和抛光盘，所述抛光机的外部设置有调节机构，所述调节机构的外部设置有清洁机构，所述调节机构包括固定安装于抛光机左侧壁上的液压推杆，所述液压推杆的输出轴上活动安装有安装板，所述安装板的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端固定连接有连接杆，所述清洁机构包括活动安装于连接杆外部的清洗刷辊，所述安装板的底部固定安装有分配器，所述分配器的底部固定安装有喷嘴。该硅片表面抛光用清洁装置，通过启动驱动电机带动连接杆进行旋转，使两个清洗刷辊进行滚动并对抛光盘上的抛光布进行覆盖清洗，具备清洗效果好的优点。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅片表面抛光技术领域，具体为一种硅片表面抛光用清洁装置。
背景技术
单晶硅和多晶硅的区别是，当熔融的单质硅凝固时，硅原子以金刚石晶格排列成许多晶核，如果这些晶核长成晶面取向相同的晶粒，则形成单晶硅，如果这些晶核长成晶面取向不同的晶粒，则形成多晶硅，多晶硅与单晶硅的差异主要表现在物理性质方面，例如在力学性质和电学性质等方面，多晶硅均不如单晶硅，多晶硅可作为拉制单晶硅的原料，单晶硅可算得上是世界上最纯净的物质了，一般的半导体器件要求硅的纯度六个9以上，大规模集成电路的要求更高，硅的纯度必须达到九个9，人们已经能制造出纯度为十二个9的单晶硅，单晶硅是电子计算机和自动控制系统等现代科学技术中不可缺少的基本材料。
单晶硅在经过线切割加工后需要对切割面进行抛光，现有技术中的抛光机缺乏对于抛光布的清洁装置，抛光布的抛光效果会随着加工次数增加而急剧下降。
实用新型内容
针对现有技术的不足，本实用新型提供了一种硅片表面抛光用清洁装置，具备方便清洁等优点，解决了抛光布的抛光效果会随着加工次数增加而急剧下降的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机和抛光盘，所述抛光机的外部设置有调节机构，所述调节机构的外部设置有清洁机构，所述调节机构包括固定安装于抛光机左侧壁上的液压推杆，所述液压推杆的输出轴上活动安装有安装板，所述安装板的顶部固定安装有驱动电机，所述驱动电机的输出端上固定连接有转轴，所述转轴远离驱动电机的一端固定连接有连接杆，所述清洁机构包括活动安装于连接杆外部的清洗刷辊，所述安装板的底部固定安装有分配器，所述分配器的底部固定安装有喷嘴。
进一步，所述安装板的顶部固定安装有水箱，所述水箱的右侧壁上固定连接有水管，所述水管的外形呈L形，所述水管远离水箱的一端与分配器固定连接。
进一步，所述连接杆的外部固定连接有支撑杆，所述支撑杆的数量为两个，所述清洗刷辊与支撑杆转动连接。
进一步，所述支撑杆的顶部固定连接有滑块，所述安装板的内部开设有滑槽，所述滑块活动连接于滑槽的内部，所述滑槽的仰视外形呈环形。
进一步，所述转轴贯穿安装板的内部并延伸至分配器的底部，所述转轴与连接杆的组合外形呈T形，所述清洗刷辊位于抛光盘的正上方。
进一步，所述抛光盘活动安装于抛光机的顶部，所述喷嘴位于清洗刷辊的正上方，所述转轴与分配器活动连接。
与现有技术相比，本申请的技术方案具备以下有益效果：
1、该硅片表面抛光用清洁装置，通过启动驱动电机带动连接杆进行旋转，使两个清洗刷辊进行滚动并对抛光盘上的抛光布进行覆盖清洗，具备清洗效果好的优点。
2、该硅片表面抛光用清洁装置，因为安装板与液压推杆的输出轴转动连接，这样通过人工转动安装板使其移动到一旁，避免影响工作空间，具备方便快捷的优点。
附图说明
图1为本实用新型结构示意图；
图2为本实用新型俯视结构示意图。
图中：1抛光机、2抛光盘、3液压推杆、4安装板、5驱动电机、6转轴、7连接杆、8水箱、9水管、10分配器、11喷嘴、12清洗刷辊、13支撑杆、14滑块、15滑槽。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1-2，本实施例中的一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机1和抛光盘2，抛光机1的外部设置有调节机构，调节机构的外部设置有清洁机构，抛光盘2活动安装于抛光机1的顶部，抛光机1属于现有技术中公众所知的常规设备，因此不对其具体的工作原理进行过多赘述。
需要说明的是，调节机构包括固定安装于抛光机1左侧壁上的液压推杆3，液压推杆3的输出轴上活动安装有安装板4，安装板4的顶部固定安装有驱动电机5，驱动电机5的输出端上固定连接有转轴6，这样启动驱动电机5可以带动转轴6进行转动。
可以理解的是，转轴6远离驱动电机5的一端固定连接有连接杆7，转轴6与连接杆7的组合外形呈T形，这样的结构具备稳定性，而且转轴6可以带动连接杆7进行转动。
需要说明的是，清洁机构包括活动安装于连接杆7外部的清洗刷辊12，安装板4的底部固定安装有分配器10，转轴6贯穿安装板4的内部并延伸至分配器10的底部，转轴6与分配器10活动连接，这样转轴6不会带动安装板4进行转动。
本实施例中，分配器10的底部固定安装有喷嘴11喷嘴11位于清洗刷辊12的正上方，安装板4的顶部固定安装有水箱8，水箱8的右侧壁上固定连接有水管9，水管9的外形呈L形，水管9远离水箱8的一端与分配器10固定连接，这样水箱8通过水管9将清洗剂运输到分配器10的内部，然后通过喷嘴11对抛光盘2上的抛光布进行淋湿。
需要说明的是，连接杆7的外部固定连接有支撑杆13，支撑杆13的数量为两个，清洗刷辊12与支撑杆13转动连接，清洗刷辊12位于抛光盘2的正上方，这样通过清洗刷辊12对抛光布进行清洗。
并且，支撑杆13的顶部固定连接有滑块14，安装板4的内部开设有滑槽15，滑块14活动连接于滑槽15的内部，滑槽15的仰视外形呈环形，滑槽15方便连接杆7进行转动。
上述实施例的工作原理为：
在需要进行清洗时，通过人工转动安装板4使清洗刷辊12位于抛光盘2的正上方，然后水箱8通过水管9将清洗剂运输到分配器10的内部，再让喷嘴11对抛光盘2上的抛光布进行淋湿，启动液压推杆3让安装板4带动连接杆7向下移动，使清洗刷辊12与抛光盘2上的抛光布进行接触，最后启动驱动电机5带动转轴6进行转动，让连接杆7通过支撑杆13顶部连接的滑块14进行旋转，使清洗刷辊12对抛光盘2上的抛光布进行覆盖，并因为摩擦的原因使清洗刷辊12进行滚动，提高清洗效率，从而到达清洗的目的，解决了抛光布的抛光效果会随着加工次数增加而急剧下降的问题。
需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。在没有更多限制的情况下，由语句“包括一个……”限定的要素，并不排除在包括所述要素的过程、方法、物品或者设备中还存在另外的相同要素。
尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。
Claims (6)
1.一种硅片表面抛光用清洁装置，包括抛光机(1)和抛光盘(2)，其特征在于：所述抛光机(1)的外部设置有调节机构，所述调节机构的外部设置有清洁机构；
所述调节机构包括固定安装于抛光机(1)左侧壁上的液压推杆(3)，所述液压推杆(3)的输出轴上活动安装有安装板(4)，所述安装板(4)的顶部固定安装有驱动电机(5)，所述驱动电机(5)的输出端上固定连接有转轴(6)，所述转轴(6)远离驱动电机(5)的一端固定连接有连接杆(7)；
所述清洁机构包括活动安装于连接杆(7)外部的清洗刷辊(12)，所述安装板(4)的底部固定安装有分配器(10)，所述分配器(10)的底部固定安装有喷嘴(11)。
2.根据权利要求1所述的一种硅片表面抛光用清洁装置，其特征在于：所述安装板(4)的顶部固定安装有水箱(8)，所述水箱(8)的右侧壁上固定连接有水管(9)，所述水管(9)的外形呈L形，所述水管(9)远离水箱(8)的一端与分配器(10)固定连接。
3.根据权利要求1所述的一种硅片表面抛光用清洁装置，其特征在于：所述连接杆(7)的外部固定连接有支撑杆(13)，所述支撑杆(13)的数量为两个，所述清洗刷辊(12)与支撑杆(13)转动连接。
4.根据权利要求3所述的一种硅片表面抛光用清洁装置，其特征在于：所述支撑杆(13)的顶部固定连接有滑块(14)，所述安装板(4)的内部开设有滑槽(15)，所述滑块(14)活动连接于滑槽(15)的内部，所述滑槽(15)的仰视外形呈环形。
5.根据权利要求1所述的一种硅片表面抛光用清洁装置，其特征在于：所述转轴(6)贯穿安装板(4)的内部并延伸至分配器(10)的底部，所述转轴(6)与连接杆(7)的组合外形呈T形，所述清洗刷辊(12)位于抛光盘(2)的正上方。
6.根据权利要求1所述的一种硅片表面抛光用清洁装置，其特征在于：所述抛光盘(2)活动安装于抛光机(1)的顶部，所述喷嘴(11)位于清洗刷辊(12)的正上方，所述转轴(6)与分配器(10)活动连接。
Priority Applications (1)
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|---|---|---|---|
| CN202220139170.8U CN217451149U (zh) | 2022-01-19 | 2022-01-19 | 一种硅片表面抛光用清洁装置 |
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ID=83260882
Family Applications (1)
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| CN202220139170.8U Active CN217451149U (zh) | 2022-01-19 | 2022-01-19 | 一种硅片表面抛光用清洁装置 |
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| CN (1) | CN217451149U (zh) |
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2022
- 2022-01-19 CN CN202220139170.8U patent/CN217451149U/zh active Active
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