CN217378081U - 一种卷对卷水平连续电镀线 - Google Patents
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Abstract
实用新型公开了一种卷对卷水平连续电镀线，它涉及电镀技术领域，解决了无法满足有效的提高导电膜层附着力的同时实现导电膜层达到规格厚度的卷对卷连续电镀作业的问题。它包括机体壳，机体壳内有机薄膜的行进方向上依次形成磁控溅射室、电镀室以及后期处理室，所述磁控溅射室、电镀室以及后期处理室均外接有一个抽真空装置，所述磁控溅射室包括放卷装置、磁控溅射装置、冷却辊，所述电镀室包括预处理槽、若干连续的水平电镀槽，所述后期处理室包括多个水洗槽、抗氧化槽、烘干箱、收卷装置。采用上述技术方案后，本实用新型的有益效果为：能够在真空室内满足有效的提高导电膜层附着力的同时实现导电膜层达到规格厚度的卷对卷连续电镀作业。
Description
技术领域
本实用新型涉及电镀技术领域，具体涉及一种卷对卷水平连续电镀线。
背景技术
柔性线路板是以聚酰亚胺或聚脂薄膜为基材制成的一种具有高度可靠性、可以自由弯曲。卷绕、折叠的可挠性印刷电路板，简称软板或FPC(FlexiblePrintedCircuit)。随着电子产品向高密度、小型化方向发展，支持电子产品的印刷线路板也逐渐向轻薄、柔方向发展。其中柔性印刷线路板以其可弯曲、折叠、立体布线、三维空间互连等优点在电子产品中得到了越来越广泛的应用。
在柔性线路板材料的生产过程中需要对有机薄膜的表面镀上导电层，其生产方法有溅镀法、涂布法、层压法等多种方法，但是单一的方法已经不能满足实际生产的要求，存在无法满足有效的提高导电膜层附着力的同时实现导电膜层达到规格厚度的卷对卷连续电镀作业的问题。
实用新型内容
本实用新型公开了一种卷对卷水平连续电镀线，解决了无法满足有效的提高导电膜层附着力的同时实现导电膜层达到规格厚度的卷对卷连续电镀作业的问题。
为实现上述目的，本实用新型采用以下技术方案是：它包括机体壳，机体壳内通过隔板分割之后在有机薄膜的行进方向上依次形成磁控溅射室、电镀室以及后期处理室，所述机体壳内在有机薄膜的行进方向上还设置有多个导辊，所述磁控溅射室、电镀室以及后期处理室均外接有一个抽真空装置，所述磁控溅射室包括放卷装置、用于在有机薄膜的表面生成高结合力的纳米级导电层的磁控溅射装置、用于对有机薄膜进行冷却的冷却辊，所述电镀室包括预处理槽、若干连续的水平电镀槽，所述后期处理室包括多个水洗槽、抗氧化槽、烘干箱、收卷装置。
所述的磁控溅射装置的靶材为铜。
所述的放卷装置的放卷侧、收卷装置的收卷侧分别设置有张力辊。
所述的水平电镀槽内位于有机薄膜的两侧设置有水平导电夹。
所述的水平电镀槽的数量设置为两个。
所述的水洗槽的出料方向上设置有用于擦拭有机薄膜表面附着水洗液的擦拭辊。
采用上述技术方案后，相较于现有的技术具有以下有益效果：
1、能够满足有效的提高导电膜层附着力的同时实现导电膜层达到规格厚度的卷对卷连续电镀作业，提高了产品的质量；
2、所有工序在真空环境内连续进行，能够避免产品受到大气环境的污染，保障产品的质量，并且作业效率得到了提升。
附图说明
为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1是本实用新型的结构示意图。
附图标记说明：机体壳1、隔板11、磁控溅射室2、放卷装置21、磁控溅射装置22、冷却辊23、电镀室3、预处理槽31、水平电镀槽32、后期处理室4、水洗槽41、抗氧化槽42、烘干箱43、收卷装置44、导辊5、抽真空装置6、张力辊7。
具体实施方式
参看图1所示，本具体实施方式采用的技术方案是：它包含机体壳1，机体壳1内通过隔板11分割之后在有机薄膜的行进方向上依次形成磁控溅射室2、电镀室3以及后期处理室4，所述机体壳1内在有机薄膜的行进方向上还设置有多个导辊5，所述磁控溅射室2、电镀室3以及后期处理室4均外接有一个抽真空装置6，所述磁控溅射室2包括放卷装置21、用于在有机薄膜的表面生成高结合力的纳米级导电层的磁控溅射装置22、用于对有机薄膜进行冷却的冷却辊23，所述电镀室3包括预处理槽31、若干连续的水平电镀槽32，所述后期处理室4包括多个水洗槽41、抗氧化槽42、烘干箱43、收卷装置44。
其中，所述的磁控溅射装置22的靶材为铜。
其中，所述的放卷装置21的放卷侧、收卷装置44的收卷侧分别设置有张力辊7。
其中，所述的水平电镀槽32内位于有机薄膜的两侧设置有水平导电夹(图中未标示)。
其中，所述的水平电镀槽32的数量设置为两个。
其中，所述的水洗槽41的出料方向上设置有用于擦拭有机薄膜表面附着水洗液的擦拭辊。
本实用新型的工作原理：待处理的有机薄膜通过放卷装置放卷后进入进入磁控溅射室内通过磁控溅射装置溅镀一层高结合力的纳米级导电铜层，接着通过预处理槽酸洗处理后进入连续的水平电镀槽将铜层加厚到规格厚度，电镀完毕后经过水洗槽水洗，水洗后经过擦拭辊擦拭进入抗氧化槽进行抗氧化处理，抗氧化处理后的产品再次经过一个水洗槽进行水洗，最后成品经过烘干箱烘干，烘干后的产品经过收卷装置收卷，所有工序均在真空环境内连续进行，避免产品受到大气环境的污染，保障产品的质量。
以上所述，仅用以说明本实用新型的技术方案而非限制，本领域普通技术人员对本实用新型的技术方案所做的其它修改或者等同替换，只要不脱离本实用新型技术方案的精神和范围，均应涵盖在本实用新型的权利要求范围当中。
Claims (6)
1.一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：它包括机体壳，机体壳内通过隔板分割之后在有机薄膜的行进方向上依次形成磁控溅射室、电镀室以及后期处理室，所述机体壳内在有机薄膜的行进方向上还设置有多个导辊，所述磁控溅射室、电镀室以及后期处理室均外接有一个抽真空装置，所述磁控溅射室包括放卷装置、用于在有机薄膜的表面生成高结合力的纳米级导电层的磁控溅射装置、用于对有机薄膜进行冷却的冷却辊，所述电镀室包括预处理槽、若干连续的水平电镀槽，所述后期处理室包括多个水洗槽、抗氧化槽、烘干箱、收卷装置。
2.根据权利要求1所述的一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：所述的磁控溅射装置的靶材为铜。
3.根据权利要求1所述的一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：所述的放卷装置的放卷侧、收卷装置的收卷侧分别设置有张力辊。
4.根据权利要求1所述的一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：所述的水平电镀槽内位于有机薄膜的两侧设置有水平导电夹。
5.根据权利要求1所述的一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：所述的水平电镀槽的数量设置为两个。
6.根据权利要求1所述的一种卷对卷水平连续电镀线，其特征在于：所述的水洗槽的出料方向上设置有用于擦拭有机薄膜表面附着水洗液的擦拭辊。
Priority Applications (1)
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| CN202220972786.3U CN217378081U (zh) | 2022-04-25 | 2022-04-25 | 一种卷对卷水平连续电镀线 |
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| CN202220972786.3U CN217378081U (zh) | 2022-04-25 | 2022-04-25 | 一种卷对卷水平连续电镀线 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
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| CN217378081U true CN217378081U (zh) | 2022-09-06 |
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Family Applications (1)
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| CN202220972786.3U Active CN217378081U (zh) | 2022-04-25 | 2022-04-25 | 一种卷对卷水平连续电镀线 |
Country Status (1)
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| CN (1) | CN217378081U (zh) |
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2022
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