CN217359923U - 一种上料装置及液基制片设备 - Google Patents

Abstract

本实用新型适用于医疗设备技术领域，公开了一种上料装置及液基制片设备，上料装置包括承载座、上料组件、锁紧机构、第一检测机构和第二检测机构。上料组件用于承载沉降管组件并滑动安装于承载座上，上料组件具有放置料盘的放置槽。锁紧机构用以实现对上料组件的锁紧定位。第一检测机构用于检测料盘是否放置到位；第二检测机构，用于检测上料组件是否放置到位。当第一检测机构检测到料盘放置到位和第二检测机构检测到上料组件放置到位时，锁紧机构对上料组件进行锁紧定位。本申请的上料装置通过锁紧机构、第一检测机构和第二检测机构提高上料装置的可靠性，进而提高设备的工作效率。

Description

一种上料装置及液基制片设备

技术领域

本实用新型涉及医疗设备技术领域，尤其涉及一种上料装置及液基制片设备。

背景技术

液基细胞学检查是采用液基薄层细胞检测系统检测细胞并进行细胞学分类诊断。在液基样本制片的过程中，会使用到抽屉式结构的上料装置，然而，现有的抽屉式结构的上料装置存在以下两个问题：一是对上料装置的锁紧定位没有做到位，或者直接不考虑锁紧定位；二是缺少对物料是否已装载的检测，以及缺少料盘是否放置到位的检测。导致上料装置缺乏可靠性，进而影响设备的工作效率。

实用新型内容

本实用新型的第一个目的在于提供一种，其旨在解决的技术问题。

为达到上述目的，本实用新型提供的方案是：一种上料装置，包括：

承载座；

上料组件，所述上料组件用于承载沉降管组件并滑动安装于所述承载座上，所述上料组件具有放置槽，所述放置槽用于放置承载所述沉降管组件的料盘；

锁紧机构，用以实现对所述上料组件的锁紧定位；

第一检测机构，用于检测所述料盘是否放置到位；

第二检测机构，用于检测所述上料组件是否放置到位；

当所述第一检测机构检测到所述料盘放置到位和所述第二检测机构检测到所述上料组件放置到位时，所述锁紧机构对所述上料组件进行锁紧定位。

可选地，所述锁紧机构设于所述承载座上，所述上料组件上设有定位孔，所述锁紧机构包括锁定部和动力组件，所述动力组件用于驱动所述锁定部运动伸入所述定位孔以对所述上料组件进行锁紧定位。

可选地，所述动力组件包括电磁铁和弹性复位件，所述电磁铁通电后用于驱动所述锁定部运动伸入所述定位孔，所述弹性复位件用于在所述电磁铁断电后使所述锁定部退出所述定位孔；或者，

所述动力组件为气缸；或者，

所述动力组件为电机。

可选地，所述第二检测机构包括第一探测器和控制器，第一探测器被配置为：当承载有所述沉降管组件的所述上料组件在所述承载座上放置到位时，产生第一触发信号；

控制器被配置为：当接收到所述第一探测器反馈的所述第一触发信号时，控制所述锁紧机构将所述上料组件锁定于所述承载座上。

可选地，所述第一探测器设于所述承载座上，所述上料组件上设有用于触发所述第一探测器产生所述第一触发信号的第一触发部件，以通过所述第一探测器是否产生所述第一触发信号，判断所述上料组件是否放置到位；或者，

所述第一探测器设于所述上料组件上，所述承载座上设有用于触发所述第一探测器产生所述第一触发信号的第一触发部件，以通过所述第一探测器是否产生所述第一触发信号，判断所述上料组件是否放置到位。

可选地，所述第一探测器包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。

可选地，所述第一检测机构包括第二探测器，所述第二探测器被配置为：当放置于所述承载座上的所述上料组件装有所述料盘时，产生第二触发信号，

所述控制器被配置为：当接收到所述第一触发信号和所述第二触发信号时，控制所述锁紧机构将所述上料组件锁定于所述承载座上。

可选地，所述上料组件包括托盘和滑动组件，所述放置槽设于所述托盘上，所述托盘通过所述滑动组件滑动安装于所述承载座上，所述托盘底部贯穿设置有与所述放置槽连通的槽口；

所述第一检测机构还包括用于触发所述第二探测器产生第二触发信号的第二触发部件，第二触发部件与所述上料组件或所述承载座活动连接，且所述第二触发部件包括第一端部和第二端部；

当所述放置槽内未装载所述料盘时，所述第一端部通过所述槽口延伸至所述放置槽内，此时所述第二端部未触发所述第二探测器，当所述放置槽内装载所述料盘时，所述第一端部在所述料盘的抵接作用下下降退出所述放置槽，所述第二端部触发所述第二探测器产生所述第二触发信号；且/或，

所述第二探测器包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。

可选地，所述第二触发部件与所述上料组件和所述承载座中的其中一者转动连接；或者，

所述第二触发部件与所述上料组件和所述承载座中的其中一者可升降滑动连接。

可选地，所述托盘包括放置部和与放置部连接的握持部，放置槽设于所述放置部；且/或，

所述托盘相对两侧设有方便取放所述料盘的取放缺口，且所述取放缺口与所述放置槽连通。

可选地，所述上料装置还包括限位机构，所述限位机构包括第一磁吸件和用于与所述第一磁吸件磁性吸合的第二磁吸件，所述第一磁吸件安装于所述上料组件，所述第二磁吸件安装于所述承载座；

所述第一磁吸件和所述第二磁吸件中至少一者包括磁铁。

本实用新型的第二个目的在于提供一种液基制片设备，其特征在于，包括上述的上料装置，所述上料组件用于对承载沉降管组件进行上料。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果在于：

本实用新型提供的一种上料装置及液基制片设备，上料装置包括承载座、上料组件、锁紧机构、第一检测机构和第二检测机构。上料组件用于承载沉降管组件并滑动安装于承载座上，上料组件具有放置料盘的放置槽。锁紧机构用以实现对上料组件的锁紧定位。第一检测机构用于检测料盘是否放置到位；第二检测机构，用于检测上料组件是否放置到位。当第一检测机构检测到料盘放置到位和第二检测机构检测到上料组件放置到位时，锁紧机构对上料组件进行锁紧定位。本申请的上料装置通过锁紧机构、第一检测机构和第二检测机构提高上料装置的可靠性，进而提高设备的工作效率。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1是本实用新型实施例一提供的上料装置的平面示意图；

图2是本实用新型实施例一提供的上料组件的立体示意图一；

图3是本实用新型实施例一提供的上料组件的平面示意图；

图4是图3中A处的局部放大示意图；

图5是本实用新型实施例一提供的上料组件的立体示意图二；

图6是本实用新型实施例一提供的上料组件的立体示意图三；

图7是本实用新型实施例一提供的托盘的平面示意图；

图8是本实用新型实施例二提供的上料组件的剖面示意图；

图9是本实用新型实施例三提供的液基制片设备的平面示意图。

附图标号说明：

100、上料装置；

110、承载座；

120、上料组件；121、定位孔；122、托盘；1221、放置部；1222、放置槽；1223、握持部；1224、取放缺口；1225、槽口；123、滑动组件；124、料盘；

130、锁紧机构；131、锁定部；132、动力组件；

140、第一检测机构；141、第二探测器；142、第二触发部件；1421、第一端部；1422、第二端部；143、弹性件；

150、第二检测机构；151、第一探测器；152、第一触发部件；

160、限位机构；161、第一磁吸件；162、第二磁吸件；

200、液基制片设备；210、上下料装置；220、洗脱混匀装置；230、样本离心装置；240、浸泡处理装置。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型的一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

需要说明，本实用新型实施例中所有方向性指示(诸如上、下、左、右、前、后……)仅用于解释在某一特定姿态下各部件之间的相对位置关系、运动情况等，如果该特定姿态发生改变时，则该方向性指示也相应地随之改变。

还需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件上时，它可以直接在另一个元件上或者可能同时存在居中元件。当一个元件被称为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接另一个元件或者也可以是通过居中元件间接连接另一个元件。

另外，在本实用新型中涉及“第一”、“第二”等的描述仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示其相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。另外，各个实施例之间的技术方案可以相互结合，但是必须是以本领域普通技术人员能够实现为基础，当技术方案的结合出现相互矛盾或无法实现时应当认为这种技术方案的结合不存在，也不在本实用新型要求的保护范围之内。

实施例一：

如图1-7所示，本实用新型实施例提供的一种上料装置100，包括承载座110、上料组件120、锁紧机构130、第一检测机构140和第二检测机构150。上料组件120用于承载沉降管组件并滑动安装于承载座110上，上料组件120具有放置槽1222，放置槽1222用于放置承载沉降管组件的料盘124。锁紧机构130用以实现对上料组件120的锁紧定位。第一检测机构140用于检测料盘124是否放置到位。第二检测机构150用于检测上料组件120是否放置到位。当第一检测机构140检测到料盘124放置到位和第二检测机构150检测到上料组件120放置到位时，锁紧机构130对上料组件120进行锁紧定位。本申请提供的上料装置100通过抽拉式结构上料，原理类似于抽屉，方便快捷，料盘124上用来放置物料。本申请通过锁紧机构130对上料装置100进行锁紧定位，在该上料装置100应用于自动化设备时，更便于机械抓手抓取物料。同时配合第一检测机构140和第二检测机构150，提升设备的可靠性，进而提高工作效率。需要说明的是，本实施例的上料装置100设有两组上料组件120，在应用于自动化设备时，能够实现交替上料，进而进一步提高设备的工作效率。

如图2-4所示，作为一种实施方式，锁紧机构130设于承载座110上，上料组件120上设有定位孔121，锁紧机构130包括锁定部131和动力组件132，动力组件132用于驱动锁定部131运动伸入定位孔121以对上料组件120进行锁紧定位。示例性地，本实施提供的锁定部131为在动力组件132的驱动下可直线往返运动的圆柱体结构，定位孔121的形状与之相适配。当然，在具体应用中，锁定部131的形状不限定为圆柱体，例如，作为一种替代方案，也可以是方形，或者其他形状皆可，对此本申请不做过多限制。

如图2-4所示，作为一种实施方式，动力组件132包括电磁铁(图中未示出)和弹性复位件(图中未示出)，电磁铁通电后用于驱动锁定部131运动伸入定位孔121，弹性复位件用于在电磁铁断电后使锁定部131退出定位孔121。示例性地，电磁铁通电后用于驱动锁定部131。第二检测机构150检测到上料组件120推送到位时，设备上的控制器控制电磁铁通电，锁定部131在磁力的作用下伸入定位孔121内。当设备检测到上料组件120上已经没有物料后，控制器控制电磁铁断电，磁力作用消失，锁定部131在弹性复位件的作用下退出定位孔121，此时锁定机构对上料组件120的锁定解除。当然，在具体应用中，动力组件132不限于通过电磁铁驱动，例如，作为一种替代方案，动力组件132也可以是电机，或者气缸。

如图3和图4所示，作为一种实施方式，第二检测机构150包括第一探测器151和控制器(图中未示出)，第一探测器151被配置为：当承载有沉降管组件的上料组件120在承载座110上放置到位时，产生第一触发信号。控制器被配置为：当接收到第一探测器151反馈的第一触发信号时，控制锁紧机构130将上料组件120锁定于承载座110上。上料装置100为抽拉式推送机构，当上料组件120推送到位时，触发第一探测器151并产生第一触发信号，当控制器接收到第一触发信号时，控制器再控制电磁铁通电，电磁铁推动锁定部131伸入定位孔121内，使上料组件120处于锁定状态。

如图3和图4所示，作为一种实施方式，第一探测器151设于承载座110上，上料组件120上设有用于触发第一探测器151产生第一触发信号的第一触发部件152，以通过第一探测器151是否产生第一触发信号，判断上料组件120是否放置到位。示例性地，在本实施例中，第一探测器151为光耦，第一触发部件152是挡片，当上料组件120是否放置到位时，挡片部分伸入光耦内遮挡以使第一探测器151产生第一触发信号。当然，在具体应用中，也可以是第一探测器151设于上料组件120上，第一触发部件152设于承载座110上，同样能够达到目的。需要说明的是，定位孔121设于第一触发部件152上。

如图3和图4所示，作为一种实施方式，第一探测器151包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。示例性地，本实施例提供的第一探测器151为光耦，当然，在具体应用中，第一探测器151不限于光耦，例如，作为一种替代方案，第一探测器151也可以是行程开关或者压力传感器。

如图5所示，作为一种实施方式，第一检测机构140包括第二探测器141，第二探测器141被配置为：当放置于承载座110上的上料组件120装有料盘124时，产生第二触发信号。控制器被配置为：当接收到第一触发信号和第二触发信号时，控制锁紧机构130将上料组件120锁定于承载座110上。示例性地，只有控制器接收到第一触发信号和第二触发信号时，控制器才会控制锁紧机构130工作。也即是说，只有料盘124已放置在上料组件120上，并且上料组件120也推送到位时，锁定机构才会对上料组件120进行锁定。

如图2和图5所示，作为一种实施方式，上料组件120包括托盘122和滑动组件123，放置槽1222设于托盘122上，托盘122通过滑动组件123滑动安装于承载座110上，托盘122底部贯穿设置有与放置槽1222连通的槽口1225。第一检测机构140还包括用于触发第二探测器141产生第二触发信号的第二触发部件142，第二触发部件142与上料组件120或承载座110活动连接，且第二触发部件142包括第一端部1421和第二端部1422。当放置槽1222内未装载料盘124时，第一端部1421通过槽口1225延伸至放置槽1222内，此时第二端部1422未触发第二探测器141，当放置槽1222内装载料盘124时，第一端部1421在料盘124的抵接作用下下降退出放置槽1222，第二端部1422触发第二探测器141产生第二触发信号。示例性地，第二触发部件142与上料组件120活动连接，并跟随上料组件120一起运动。当然，在具体应用中，第二触发部件142也可与承载座110活动连接。

如图3和图5所示，作为一种实施方式，第二探测器141包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。示例性地，本实施例提供的第二探测器141为光耦，当然，在具体应用中，第二探测器141不限于光耦，例如，作为一种替代方案，第二探测器141也可以是行程开关或者压力传感器。

如图3和图5所示，作为一种实施方式，第二触发部件142与上料组件120和承载座110中的其中一者转动连接；当料盘124放置在放置槽1222内时，料盘124与第一端部1421抵接，此时第一端部1421在料盘124的重力作用下退出放置槽1222，由于第二触发部件142是转动连接，相应的第二端部1422会抬高从而移出第二探测器141之外，从而触发第二探测器141产生第二触发信号。当然，在具体应用中，

如图5和图7所示，作为一种实施方式，托盘122包括放置部1221和与放置部1221连接的握持部1223，放置槽1222设于放置部1221。示例性地，本实施例握持部1223为凹陷槽，便于操作人员握持，当然，在具体应用中，握持部1223的结构不限于此，例如，作为一种替代方案，也可以设置凸出的把手作为握持部1223。握持部1223的设置只是为了便于拿取，故对于本申请而言，只需要达到目的即可，并不对握持部1223的具体结构作限定。

如图5和图7所示，作为一种实施方式，托盘122相对两侧设有方便取放料盘124的取放缺口1224，且取放缺口1224与放置槽1222连通。操作人员可通过取放缺口1224进行料盘124的取放，方便快捷，并且取放缺口1224在相对两侧都设有，便于双手取放料盘124。

如图4和图5所示，作为一种实施方式，上料装置100还包括限位机构160，限位机构160包括第一磁吸件161和用于与第一磁吸件161磁性吸合的第二磁吸件162，第一磁吸件161安装于上料组件120，第二磁吸件162安装于承载座110；第一磁吸件161和第二磁吸件162中至少一者包括磁铁。限位机构160的设置可以防止上料组件120推送过位，同时限位组件具有一定的缓冲作用，能够在一定程度上避免推送时用力过猛，从而导致上料组件120或者上料组件120上的物料损坏。第一磁吸件161和第二磁吸件162至少有一者是包括磁铁，另一者是能与磁铁吸合的材料。当然，也可以是第一磁吸件161和第二磁吸件162都是磁铁。上料时，上料组件120上的第一磁吸件161朝承载座110上的第二磁吸件162靠近，当第一磁吸件161和第二磁吸件162接触时相互吸合，对上料组件120进行限位，然后由锁定机构进行锁紧定位。

实施例二：

如图8所示，本实施例与实施例一的区别主要在于第二触发部件142的连接方式不同。具体体现在：

第二触发部件142与上料组件120和承载座110中的其中一者可升降滑动连接。在本实施例中，第二触发部件142与上料组件120可升降滑动连接，同时第一检测机构140还包括与第二触发部件142弹性连接的弹性件143，当放置槽1222中放置有料盘124时，第二触发部件142在料盘124的重力作用下下降，此时第二触发部件142部分伸入第二探测器141触发第二触发信号。当料盘124取走时，第二触发部件142在弹性件143的作用下重新通过槽口1225进入放置槽1222内。

除了上述不同之外，本实施例提供的上料装置100及其所属部件的结构都可参照实施例一进行优化设计，在此不再详述。

实施例三：

如图9所示，本实施例与实施例一的区别主要在于第二触发部件142的连接方式不同。具体体现在：

本实用新型的第二个目的在于提供一种液基制片设备200，其特征在于，包括上述的上料装置100，上料组件120用于对承载沉降管组件进行上料。本申请提供的液基制片设备200，可以自动化实现制片的全过程，包括但不限于样本上料、样本洗脱混匀、试剂添加、离心处理、沉降染色、浸泡处理、输出玻片等步骤。

图9示出了各个功能装置在承载座110上的示意分布位置，液基制片设备200包括承载座110、上下料装置210、洗脱混匀装置220、样本离心装置230、沉降染色装置和浸泡处理装置，上下料装置210、洗脱混匀装置220、样本离心装置230、沉降染色装置和浸泡处理装置都设置于承载座110上。承载座110是液基制片设备200内所有其它组成部分的承载体，承载座110可以是板状结构，也可以理解承载座110是包含具有支承板、支承杆等支承件在内的壳体结构或框体结构。承载座110上可以安装支撑脚或支撑轮，以便于液基制片设备200的安装、移动。以下描述中各功能单元的具体组成元件，如未做特别说明，则均可直接或间接固定在承载座110上。上料装置100用于液基制片设备200的上料，属于上下料装置210的一部分。

如图9所示，上下料装置210用于将采样后的样本传送至洗脱混匀装置220，洗脱混匀装置220用于将样本洗脱混匀形成样本液，将样板液转移至离心管内增加梯度分离液后，通过样本离心装置230进行离心处理，离心后将上层清液吸走后再添加缓冲液形成细胞混合液送入沉降染色装置，将细胞混合液加入沉降管组件中进行沉降染色，然后将沉降染色后的玻片送入浸泡处理装置进行浸泡处理，最后将制片完成的玻片输出至封片机进行封片。

如图9所示，且在各个功能单元之间用箭头示出了样本在各个功能装置中的流向。用户只需要放置样本于上下料装置210，以及补充沉降管组件等一些耗材，则整个制片的其它中间步骤，如沉降管组件的上料、样本上料、样本洗脱混匀、试剂添加、离心处理、沉降染色、浸泡处理、输出玻片等步骤，均可由液基制片设备200自动完成，以得到制备好的样本玻片。

上述整个制片过程只需用户在外围提供原料、耗材和治具，所有中间过程均无需人工操作的介入，因而自动化程度高，可大幅提升制片效率。同时因为减少了人工操作的介入，玻片等器材因需要人工转移等操作的次数减少而无需暴露在外部环境中，也降低了这些器件在外部环境中被污染的风险，使得制片的安全和结果准确性能得到改善。

除了上述不同之外，本实施例提供的上料装置100及其所属部件的结构都可参照实施例一或实施例二进行优化设计，在此不再详述。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例，并非因此限制本实用新型的专利范围，凡是在本实用新型的实用新型构思下，利用本实用新型说明书及附图内容所作的等效结构变换，或直接/间接运用在其他相关的技术领域均包括在本实用新型的专利保护范围内。

Claims (12)

1.一种上料装置，其特征在于，包括：

承载座；

上料组件，所述上料组件用于承载沉降管组件并滑动安装于所述承载座上，所述上料组件具有放置槽，所述放置槽用于放置承载所述沉降管组件的料盘；

锁紧机构，用以实现对所述上料组件的锁紧定位；

第一检测机构，用于检测所述料盘是否放置到位；

第二检测机构，用于检测所述上料组件是否放置到位；

当所述第一检测机构检测到所述料盘放置到位和所述第二检测机构检测到所述上料组件放置到位时，所述锁紧机构对所述上料组件进行锁紧定位。

2.如权利要求1所述的上料装置，其特征在于，所述锁紧机构设于所述承载座上，所述上料组件上设有定位孔，所述锁紧机构包括锁定部和动力组件，所述动力组件用于驱动所述锁定部运动伸入所述定位孔以对所述上料组件进行锁紧定位。

3.如权利要求2所述的上料装置，其特征在于，所述动力组件包括电磁铁和弹性复位件，所述电磁铁通电后用于驱动所述锁定部运动伸入所述定位孔，所述弹性复位件用于在所述电磁铁断电后使所述锁定部退出所述定位孔；或者，

所述动力组件为气缸；或者，

所述动力组件为电机。

4.如权利要求3所述的上料装置，其特征在于，所述第二检测机构包括第一探测器和控制器，第一探测器被配置为：当承载有所述沉降管组件的所述上料组件在所述承载座上放置到位时，产生第一触发信号；

控制器被配置为：当接收到所述第一探测器反馈的所述第一触发信号时，控制所述锁紧机构将所述上料组件锁定于所述承载座上。

5.如权利要求4所述的上料装置，其特征在于，所述第一探测器设于所述承载座上，所述上料组件上设有用于触发所述第一探测器产生所述第一触发信号的第一触发部件，以通过所述第一探测器是否产生所述第一触发信号，判断所述上料组件是否放置到位；或者，

所述第一探测器设于所述上料组件上，所述承载座上设有用于触发所述第一探测器产生所述第一触发信号的第一触发部件，以通过所述第一探测器是否产生所述第一触发信号，判断所述上料组件是否放置到位。

6.如权利要求5所述的上料装置，其特征在于，所述第一探测器包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。

7.如权利要求4-6任一项所述的上料装置，其特征在于，所述第一检测机构包括第二探测器，所述第二探测器被配置为：当放置于所述承载座上的所述上料组件装有所述料盘时，产生第二触发信号，

所述控制器被配置为：当接收到所述第一触发信号和所述第二触发信号时，控制所述锁紧机构将所述上料组件锁定于所述承载座上。

8.如权利要求7所述的上料装置，其特征在于，所述上料组件包括托盘和滑动组件，所述放置槽设于所述托盘上，所述托盘通过所述滑动组件滑动安装于所述承载座上，所述托盘底部贯穿设置有与所述放置槽连通的槽口；

所述第一检测机构还包括用于触发所述第二探测器产生第二触发信号的第二触发部件，第二触发部件与所述上料组件或所述承载座活动连接，且所述第二触发部件包括第一端部和第二端部；

当所述放置槽内未装载所述料盘时，所述第一端部通过所述槽口延伸至所述放置槽内，此时所述第二端部未触发所述第二探测器，当所述放置槽内装载所述料盘时，所述第一端部在所述料盘的抵接作用下下降退出所述放置槽，所述第二端部触发所述第二探测器产生所述第二触发信号；且/或，

所述第二探测器包括光耦、行程开关和压力传感器中的其中之一。

9.如权利要求8所述的上料装置，其特征在于，所述第二触发部件与所述上料组件和所述承载座中的其中一者转动连接；或者，

所述第二触发部件与所述上料组件和所述承载座中的其中一者可升降滑动连接。

10.如权利要求8所述的上料装置，其特征在于，所述托盘包括放置部和与放置部连接的握持部，放置槽设于所述放置部；且/或，

所述托盘相对两侧设有方便取放所述料盘的取放缺口，且所述取放缺口与所述放置槽连通。

11.如权利要求1-6任一项所述的上料装置，其特征在于，所述上料装置还包括限位机构，所述限位机构包括第一磁吸件和用于与所述第一磁吸件磁性吸合的第二磁吸件，所述第一磁吸件安装于所述上料组件，所述第二磁吸件安装于所述承载座；

所述第一磁吸件和所述第二磁吸件中至少一者包括磁铁。

12.一种液基制片设备，其特征在于，包括如权利要求1至11任一项所述的上料装置，所述上料组件用于对承载沉降管组件进行上料。

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