CN217230355U - 一种多功能氧化沟工艺技术 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种多功能氧化沟工艺技术，包括本体，所述本体包括选择区、缺氧区、厌氧区、好痒区以及回流区，所述选择区、缺氧区、厌氧区、好痒区通过回流区首尾相连形成循环流，实现了污水处理厂全年不停产维护维修和无人干预，进一步增强了污水处理厂常年出水稳定达标排放的保障性。
Description
技术领域
本实用新型涉及污水生物处理技术领域，特别涉及一种多功能氧化沟工艺技术。
背景技术
氧化沟工艺为活性污泥法的一种变型，氧化沟工艺是目前国内外广泛应用的市政污水和工业污水处理工艺技术之一，具有出水水质好、剩余污泥产量少、管理方便等优点。氧化沟是一种首尾相连的循环流曝气沟渠，污水渗入其中得到净化，其曝气池是由钢筋混凝土建成的呈封闭状的沟渠。现有氧化沟大多沟宽池长水浅，占地面积极大，还需要配套潜水推流器等设备，能耗大。因此，建立占地面积小、能耗低的污水处理工艺势在必行。
因此，发明一种多功能氧化沟工艺技术来解决上述问题很有必要。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种多功能氧化沟工艺技术，以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种多功能氧化沟工艺技术，包括本体，所述本体包括选择区、缺氧区、厌氧区、好痒区以及回流区，所述选择区、缺氧区、厌氧区、好痒区通过回流区首尾相连形成循环流。
优选的，所述选择区前端设有进水区，所述内部设有药液添加区。
优选的，所述回流区一侧设有出水口。
优选的，所述选择区内部设有鼓风机。
本实用新型的技术效果和优点：
本实用新型事故率低，实现了污水处理厂全年不停产维护维修和无人干预，进一步增强了污水处理厂常年出水稳定达标排放的保障性。
附图说明
图1为本实用新型的整体结构示意图。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
本实用新型提供了如图所示的一种多功能氧化沟工艺技术，包括本体1，其特征在于：所述本体1包括选择区3、缺氧区4、厌氧区5、好痒区6以及回流区7，所述选择区3、缺氧区4、厌氧区5、好痒区6通过回流区7首尾相连形成循环流。
进一步的，在上述技术方案中，所述选择区3前端设有进水区2，所述3内部设有药液添加区8；
进一步的，在上述技术方案中，所述回流区7一侧设有出水口9；
进一步的，在上述技术方案中，所述选择区3内部设有鼓风机。
需要说明的是：
选择区：将污泥回流液或好氧末端硝化回流液的氧消耗，防止多余的氧消耗进水中的有机物，为缺氧区营造良好的缺氧环境，使更多的碳源用于厌氧释磷或反硝化降解总氮；
缺氧区：厌氧释磷或反硝化降解总氮；
厌氧区：根据来水水质的变化，可以在好氧和缺氧环境直接灵活转换，确保系统的稳定性；
好氧区：好氧祛除有机物和降解氨氮及好氧吸磷。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种多功能氧化沟工艺技术，包括本体（1），其特征在于：所述本体（1）包括选择区（3）、缺氧区（4）、厌氧区（5）、好痒区（6）以及回流区（7），所述选择区（3）、缺氧区（4）、厌氧区（5）、好痒区（6）通过回流区（7）首尾相连形成循环流。
2.根据权利要求1所述的一种多功能氧化沟工艺技术，其特征在于：所述选择区（3）前端设有进水区（2），所述选择区（3）内部设有药液添加区（8）。
3.根据权利要求1所述的一种多功能氧化沟工艺技术，其特征在于：所述回流区（7）一侧设有出水口（9）。
4.根据权利要求1所述的一种多功能氧化沟工艺技术，其特征在于：所述选择区（3）内部设有鼓风机。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| CN202123327067.0U CN217230355U (zh) | 2021-12-28 | 2021-12-28 | 一种多功能氧化沟工艺技术 |
Applications Claiming Priority (1)
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| CN202123327067.0U CN217230355U (zh) | 2021-12-28 | 2021-12-28 | 一种多功能氧化沟工艺技术 |
Publications (1)
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| CN217230355U true CN217230355U (zh) | 2022-08-19 |
Family
ID=82827377
Family Applications (1)
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| CN202123327067.0U Active CN217230355U (zh) | 2021-12-28 | 2021-12-28 | 一种多功能氧化沟工艺技术 |
Country Status (1)
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2021
- 2021-12-28 CN CN202123327067.0U patent/CN217230355U/zh active Active
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