CN217200771U - 真空吸附组件和绑定设备 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种真空吸附组件和绑定设备，真空吸附组件包括平台，平台具有吸附面，吸附面上设有多个凹槽，多个凹槽沿第一方向由内向外彼此间隔设置，每一凹槽在吸附面上围设出一吸附区，沿第一方向，位于内侧的凹槽对应的吸附区，落入到位于外侧的凹槽对应的吸附区之内，凹槽内设有至少一个抽真空孔。上述真空吸附组件，由内到外吸附区的尺寸逐渐增大，从而能与不同尺寸的待吸附工件对应。通过在凹槽内设置抽真空孔，以通过抽真空孔对每一凹槽内独立地抽取真空，从而使被抽取真空的凹槽的数量与待吸附工件的尺寸匹配。如此，只需对待吸附工件能够完全覆盖的吸附区所对应的凹槽抽取真空，就能将待吸附工件与平台固定，节省了操作步骤，提高效率。

Description

真空吸附组件和绑定设备

技术领域

本申请涉及液晶模块生产技术领域，特别是涉及一种真空吸附组件和绑定设备。

背景技术

目前，FOG(Flex On Glass)绑定设备广泛应用于液晶模块生产技术领域，其作用为将柔性电路板绑定在液晶玻璃边缘的电极上。通常，FOG绑定设备内设有用于支撑并固定液晶玻璃的平台。相关技术中，提供了一种真空吸附平台，该平台上设有多个彼此连通的真空孔，通过对真空孔抽取真空，使工件被吸附固定在平台上。为配合不同尺寸的工件，平台的表面粘贴有一层铁氟龙，使用时根据工件的尺寸扎穿铁氟龙，使工件通过被扎穿处的真空孔吸附固定。

然而，相关技术中的真空吸附平台，当更换不同尺寸的工件时，存在效率较低的问题。

实用新型内容

基于此，有必要针对相关技术中真空吸附平台效率较低的问题，提供一种提高效率的的真空吸附组件和绑定设备。

根据本申请的一个方面，提供一种真空吸附组件，包括平台；

所述平台具有吸附面，所述吸附面上设有多个凹槽，多个所述凹槽沿第一方向由内向外彼此间隔设置，每一所述凹槽在所述吸附面上围设出一吸附区，沿所述第一方向，位于内侧的所述凹槽对应的所述吸附区，落入到位于外侧的所述凹槽对应的所述吸附区之内，所述凹槽内设有至少一个抽真空孔。

上述真空吸附组件，在平台上设置多个凹槽，每一凹槽围设出一吸附区，吸附区用于与待吸附工件对应并对其提供支撑。通过设置沿第一方向，位于内侧的凹槽对应的吸附区落入到外侧的凹槽对应的吸附区之内，使多个吸附区的尺寸彼此不同，且沿第一方向由内到外，吸附区的尺寸逐渐增大，从而能与不同尺寸的待吸附工件对应，使待吸附工件能够完全覆盖于对应的吸附区。通过在凹槽内设置至少一个抽真空孔，以通过抽真空孔对凹槽内抽取真空，由于多个凹槽之间彼此间隔，每一凹槽能彼此独立地抽取真空，从而使被抽取真空的凹槽的数量和各自的位置与待吸附工件的尺寸匹配。如此，只需对所需的凹槽抽取真空，即可将待吸附工件与平台吸附固定，节省了操作步骤，提高效率。

在其中一实施例中，所述凹槽的延伸路径构成一环形图形。

在其中一实施例中，所述凹槽包括中心凹槽和位于所述中心凹槽外侧的多个周边凹槽；

所述周边凹槽对应的所述环形图形在所述第一方向上的一侧设有开口；

所述中心凹槽对应的所述环形图形具有位于所述开口处的第一边。

在其中一实施例中，所述周边凹槽对应的所述环形图形具有与所述开口相对的第二边，所述第二边与所述第一边平行，所述周边凹槽对应的所述环形图形还具有两个分别连接于所述第二边两端的第三边，所述第三边与所述第二边垂直。

在其中一实施例中，所述第一边和所述端部设于所述吸附面的一端。

在其中一实施例中，所述凹槽的底壁向所述平台内凹陷形成所述抽真空孔。

在其中一实施例中，所述真空吸附组件还包括多个抽真空管路和多个电磁阀；

所述抽真空管路与所述凹槽一一对应设置，所述抽真空管路与对应的所述凹槽内的所述抽真空孔连通；

所述电磁阀一一对应地设于所述抽真空管路，所述电磁阀用于控制对应的所述抽真空管路的开闭。

在其中一实施例中，所述平台内设有与所述凹槽一一对应的通气管路，所述通气管路的一侧与对应的所述凹槽内的所述抽真空孔连通，所述通气管路的另一侧设有连接孔，所述抽真空管路插接于对应的所述连接孔内。

在其中一实施例中，多个所述通气管路彼此平行间隔设置。

根据本申请的另一个方面，提供一种绑定设备，包括如上述任一项实施例所述的真空吸附组件。

附图说明

图1为本申请一实施例中真空吸附组件的结构示意图；

图2为图1所示实施例中平台的结构示意图；

图3为图2所示A处的局部放大图；

图4为本申请一实施例中绑定设备的结构示意图；

图5为图4所示实施例中绑定设备的爆炸图。

附图标记说明：

10、平台；12、吸附面；20、凹槽；22、中心凹槽；220、第一边；24、周边凹槽；242、第二边；244、第三边；30、吸附区；40、抽真空孔；50、抽真空管路；60、电磁阀；70、接头；80、绑定设备。

具体实施方式

为使本申请的上述目的、特征和优点能够更加明显易懂，下面结合附图对本申请的具体实施方式做详细的说明。在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本申请。但是本申请能够以很多不同于在此描述的其它方式来实施，本领域技术人员可以在不违背本申请内涵的情况下做类似改进，因此本申请不受下面公开的具体实施例的限制。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”、“轴向”、“径向”、“周向”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本申请和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本申请的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括至少一个该特征。在本申请的描述中，“多个”的含义是至少两个，例如两个，三个等，除非另有明确具体的限定。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”、“固定”等术语应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或成一体；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通或两个元件的相互作用关系，除非另有明确的限定。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本申请中的具体含义。

在本申请中，除非另有明确的规定和限定，第一特征在第二特征“上”或“下”可以是第一和第二特征直接接触，或第一和第二特征通过中间媒介间接接触。而且，第一特征在第二特征“之上”、“上方”和“上面”可是第一特征在第二特征正上方或斜上方，或仅仅表示第一特征水平高度高于第二特征。第一特征在第二特征“之下”、“下方”和“下面”可以是第一特征在第二特征正下方或斜下方，或仅仅表示第一特征水平高度小于第二特征。

需要说明的是，当元件被称为“固定于”或“设置于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“上”、“下”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的，并不表示是唯一的实施方式。

目前，在FOG(Flexible On Glass)绑定设备内，通常需要将工件放置并固定于平台上。为此，相关技术中提供了一种真空吸附平台，通过将多个彼此连通的真空孔铺满平台表面，由一个电磁阀控制是否对多个真空孔抽取真空，以产生或消除对工件的吸附力。由于工件具有不同的尺寸，上述真空吸附平台在使用时，需要在平台的表面上粘贴一层铁氟龙，根据工件的尺寸扎穿铁氟龙，以通过位于被扎穿孔处的真空孔吸附工件，位于未被扎穿处的真空孔被铁氟龙封闭，防止漏气。

然而，相关技术中的真空吸附组件，在更换不同尺寸的工件时，需要大量时间将铁氟龙贴附到模板表面，然后根据工件的尺寸人工扎穿铁氟龙。因此，相关技术中的真空吸附组件无法快速更换工件尺寸，存在效率低的问题。

因此，有必要提供一种提高效率的真空吸附组件和绑定设备。

图1为本申请一实施例中真空吸附组件的结构示意图；图2为图1所示实施例中平台的结构示意图；图3为图2所示A处的局部放大图。

参阅图1-3，本申请一实施例中提供的真空吸附组件，包括平台10。平台10具有吸附面12，吸附面12上设有多个凹槽20，多个凹槽20沿第一方向由内向外彼此间隔设置，每一凹槽20在吸附面12上围设出一吸附区30，沿第一方向，位于内侧的凹槽20对应的吸附区30，落入到位于外侧的凹槽20对应的吸附区30之内，凹槽20内设有至少一个抽真空孔40(见图3)。

上述真空吸附组件，通过在平台10上设置多个凹槽20，每一凹槽20围设出一吸附区30，吸附区30用于与待吸附工件对应，并支撑对应的待吸附工件。通过设置沿第一方向，位于内侧的凹槽20围设出的吸附区30落到位于外侧的凹槽20围设出的吸附区30之内，使多个凹槽20各自对应的吸附区30的尺寸不同，且由内向外，吸附区30的尺寸逐渐增大，以分别对应于不同尺寸的待吸附工件。在实际使用过程中，待吸附工件完整地覆盖于与其对应的吸附区30上，同时完整地覆盖了落入该吸附区30内的尺寸较小的其他吸附区30。由于多个凹槽20内分别设有抽真空孔40，可通过抽真空孔40对多个凹槽20彼此独立地抽取真空，从而能根据待吸附工件能够完整覆盖的吸附区30的数量，向对应的凹槽20抽取真空。如此，通过对被抽取真空的凹槽20的数量的改变，实现对待吸附工件的尺寸的适配，从而节省了每次更换不同尺寸的工件时的人工操作，使效率提高，人力成本减小，并避免操作人员在平台10上更换并粘贴铁氟龙时对待吸附工件造成污染，使产品的不良率降低。

此外，上述真空吸附组件通过设置凹槽20，使得凹槽20内开设至少一个抽真空孔40，就能在吸附面12开设有凹槽20的区域产生吸附力，从而减小了在平台10上开设的抽真空孔40的数量，使平台10的结构简单，并使能够产生吸附力的区域的面积增加，使吸附更牢。

需要说明的是，在实际使用过程中，被待吸附工件完整地覆盖的凹槽20均被通过抽真空孔40抽取真空，以使待吸附工件的不同部分均受到吸附力的作用，将待吸附工件更加可靠地固定。由于沿第一方向，位于内侧的凹槽20对应的吸附区30落入到位于外侧的凹槽20对应的吸附区30之内，使待吸附工件覆盖的凹槽20的数量随着待吸附工件的尺寸的增大而增多，使尺寸较大的待吸附工件受到的吸附力较大。

可以理解的是，吸附区30被构造为与待吸附工件适配。例如，吸附区30的形状与待吸附工件的形状适配，吸附区30的尺寸与待吸附工件的尺寸适配。此外，根据尺寸的不同将待吸附工件划分成不同的类别，吸附区30的数量与该类别的数量适配。

一些实施例中，凹槽20的延伸路径构成一环形图形，以便于匹配待吸附工件的形状，使待吸附工件的不同部分较为均匀地受力。

可选地，环形图形可以呈圆环形、矩环形或或其他形状，只要能与待吸附工件的形状适配即可，在此不做限定。

一些实施例中，凹槽20的延伸路径可以构成一封闭的环形图形，使得待吸附工件的四周均能受到吸附力，以在通过抽真空孔40向对应的凹槽20内的空间抽取真空时，使待吸附工件与吸附面12紧密贴合，防止漏气，并使待吸附工件更牢固地固定在平台上。

另一些实施例中，如图1-2所示，凹槽20的延伸路径也可以构成一具有开口的环形图形，以简化平台10的结构。

可选地，如图2所示，凹槽20包括中心凹槽22和位于中心凹槽22外侧的多个周边凹槽24，周边凹槽24对应的环形图形在第一方向上的一侧设有开口，中心凹槽22对应的环形图形具有位于开口处的第一边220。如此，通过设置中心凹槽22和周边凹槽24，第一边220位于开口处，使得当待吸附工件覆盖于对应的吸附区30上时，待吸附工件未受到来自周边凹槽24的吸附力的一侧受到第一边220的吸附力。因此，使待吸附工件的四周受力，并减少了凹槽20的延伸路径的长度，使平台10的结构更加简单。

为使吸附区30的形状与待吸附工件的形状匹配，进一步地，如图1和图2所示，周边凹槽24对应的所述环形图形具有与开口相对的第二242，第二边242与第一边220平行，周边凹槽24对应的环形图形还具有两个分别连接于第二边242两端的第三边244，第三边244与与第二边242垂直。如此，使周边凹槽24的第二边242和两个第三边244共同围设出一个呈矩形的吸附区30，以当待吸附工件的形状呈矩形时，待吸附工件的边缘区域能够受到凹槽20的吸附作用，以防止待吸附工件在平台10上固定不牢。

更进一步地，中心凹槽22的的延伸路径构成一封闭的环形图形，且中心凹槽22的彼此连接的各个侧边分别与周边凹槽24的第二边242和第三边244平行。

为使吸附区30的尺寸和数量分别与待吸附工件的尺寸和类别相匹配，在一个实施例中，如图1-2所示，周边凹槽24的数量为五个，中心凹槽22和周边凹槽24分别围设出六个吸附区30。六个吸附区30包括用于吸附固定3英寸或4英寸工件的第一吸附区、用于吸附固定5英寸或6英寸工件的第二吸附区、用于吸附固定7英寸或8英寸工件的第三吸附区、用于吸附固定10英寸或11英寸工件的第四吸附区、用于吸附固定12英寸、13英寸或14英寸工件的第五吸附区，以及用于吸附固定15英寸或17英寸工件的第六吸附区。可以理解的是，吸附区30和对应的凹槽20的数量和尺寸也可根据需要而采用其他设置。

一些实施例中，如图2所示，第一边220和端部设于吸附面12的一端，使得将待吸附工件放置于平台10上时，将待吸附工件的一端与吸附面12的此端对齐放置即可，以便于实现待吸附工件的准确定位。

一些实施例中，如图2所示，平台10具有与第一方向平行的对称轴，凹槽20关于该对称轴对称。如此，使每一凹槽20的两个第三边244与相邻的凹槽20的距离相同，便于将待吸附工件的边缘放置于两个凹槽20之间，减少放置时的位置误差和漏气风险。

如此，在实际使用过程中，将待吸附工件放置于对应的吸附区30上，使待吸附工件能完全地覆盖于对应的凹槽20。然后，通过设于凹槽20内的抽真空孔40对凹槽20内的空间抽取真空，由于凹槽20的开口被待吸附工件覆盖，凹槽20内与外界的气体压差使待吸附工件固定于平台10。

在一个实施例中，每一凹槽20内设有的抽真空孔40的数量为一个，以节省开孔成本。

可选地，结合图2和图3所示，抽真空孔40分别设于周边凹槽24的端部和中心凹槽22的第一边220。

一些实施例中，如图3所示，凹槽20的底壁向平台10内凹陷形成抽真空孔40。可以理解的是，为对凹槽20内抽取真空，需要将抽真空孔40与能够抽取真空的装置连通。如图1所示，由于平台10的吸附面12用于与待吸附工件连接，抽取真空的装置可设置于平台10与吸附面12相对的一侧。通过设置凹槽20的底壁向平台10内凹陷形成抽真空孔40，使抽真空孔40的位置靠近平台10与吸附面12相对的一侧，便于与其他装置或零件连接，以进一步简化平台10的结构。

一些实施例中，如图1所示，真空吸附组件还包括多个抽真空管路50和多个电磁阀60，抽真空管路50与凹槽20一一对应设置，抽真空管路50与对应的凹槽20内的抽真空孔40连通，电磁阀60一一对应地设于抽真空管路50，电磁阀60用于控制对应的抽真空管路50的开闭。如此，通过设置抽真空管路50和电磁阀60，通过电磁阀60控制对应的抽真空管路50的开闭，以产生或消除对应的凹槽20处产生的吸附力。因此，对应于不同尺寸的待吸附工件，可以通过控制不同数量的电磁阀60打开以改变开启的抽真空管路50的数量，从而改变能够产生吸附力的凹槽20的数量。在实际使用过程中，更换不同尺寸的工件时，只需要控制不同数量的电磁阀60的开启或闭合即可，进一步地简便了更换不同尺寸的工件时的操作，使效率提高。

一些实施例中，真空吸附组件还包括抽真空装置，抽真空装置与抽真空管路50远离抽真空孔40的一端连接，以在待吸附工件、凹槽20和抽真空管路50所形成的封闭空间内抽气，产生真空。

可选地，抽真空装置可以采用真空泵。

一些实施例中，平台10内设有与凹槽20一一对应的通气管路(图中未示出)，通气管路的一侧与对应的凹槽20内的抽真空孔40连通，通气管路的另一侧设有连接孔，抽真空管路50插接于对应的连接孔内。需要说明的是，抽真空孔40的径向尺寸较小，通过设置通气管路和连接孔，以便于使抽真空孔40与抽真空管路50连通，并便于抽取真空。

具体地，如图1所示，抽真空管路50的一端设有用于插接于连接孔内的接头70。

一些实施例中，多个通气管路彼此平行间隔设置。如此，由于通气管路之间需要保持彼此独立，通过设置多个通气管路彼此平行且间隔，便于多个通气管路在平台10内的设置，使多个通气管路彼此互不干涉。

图4为本申请一实施例中绑定设备的结构示意图；图5为图4所示实施例中绑定设备的爆炸图。

参阅图4-5，本申请还提供一种绑定设备80，包括如上述任一项实施例中的真空吸附组件。

一些实施例中，结合图1和图5所示，绑定设备80包括抽真空管路50和多个电磁阀60，抽真空管路50与凹槽20一一对应设置并与对应的凹槽20内的抽真空孔40连通，电磁阀60一一对应地设于抽真空管路50，以控制对应的抽真空管路50的开闭。绑定设备80还包括HMI(Human Machine Interface人机界面)程序，多个电磁阀60可分别通过HMI程序独立控制。如此，通过设置电磁阀60和HMI程序，使可根据待吸附工件的尺寸快速控制对应的电磁阀60的开闭，使操作简便快速。

进一步地，为避免待吸附工件受到污染，绑定设备80还包括封闭腔室，平台10设于封闭腔室的内部，HMI的操作界面设于封闭腔室的外部。如此，在封闭腔室的外部即可控制电磁阀60的开闭，从而防止粉尘颗粒等污染物进入封闭腔室的内部，使产品的不良率降低。

以上所述实施例的各技术特征可以进行任意的组合，为使描述简洁，未对上述实施例中的各个技术特征所有可能的组合都进行描述，然而，只要这些技术特征的组合不存在矛盾，都应当认为是本说明书记载的范围。

以上所述实施例仅表达了本申请的几种实施方式，其描述较为具体和详细，但并不能因此而理解为对实用新型专利范围的限制。应当指出的是，对于本领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请构思的前提下，还可以做出若干变形和改进，这些都属于本申请的保护范围。因此，本申请专利的保护范围应以所附权利要求为准。

Claims (10)

1.一种真空吸附组件，其特征在于，包括平台；

所述平台具有吸附面，所述吸附面上设有多个凹槽，多个所述凹槽沿第一方向由内向外彼此间隔设置，每一所述凹槽在所述吸附面上围设出一吸附区，沿所述第一方向，位于内侧的所述凹槽对应的所述吸附区，落入到位于外侧的所述凹槽对应的所述吸附区之内，所述凹槽内设有至少一个抽真空孔。

2.根据权利要求1所述的真空吸附组件，其特征在于，所述凹槽的延伸路径构成一环形图形。

3.根据权利要求2所述的真空吸附组件，其特征在于，所述凹槽包括中心凹槽和位于所述中心凹槽外侧的多个周边凹槽；

所述周边凹槽对应的所述环形图形在所述第一方向上的一侧设有开口；

所述中心凹槽对应的所述环形图形具有位于所述开口处的第一边。

4.根据权利要求3所述的真空吸附组件，其特征在于，所述周边凹槽对应的所述环形图形具有与所述开口相对的第二边，所述第二边与所述第一边平行，所述周边凹槽对应的所述环形图形还具有两个分别连接于所述第二边两端的第三边，所述第三边与所述第二边垂直。

5.根据权利要求4所述的真空吸附组件，其特征在于，所述第三边的一端与所述第二边连接，所述第三边的另一端具有端部；

所述第一边和所述端部设于所述吸附面的一端。

6.根据权利要求1所述的真空吸附组件，其特征在于，所述凹槽的底壁向所述平台内凹陷形成所述抽真空孔。

7.根据权利要求1所述的真空吸附组件，其特征在于，所述真空吸附组件还包括多个抽真空管路和多个电磁阀；

所述抽真空管路与所述凹槽一一对应设置，所述抽真空管路与对应的所述凹槽内的所述抽真空孔连通；

所述电磁阀一一对应地设于所述抽真空管路，所述电磁阀用于控制对应的所述抽真空管路的开闭。

8.根据权利要求7所述的真空吸附组件，其特征在于，所述平台内设有与所述凹槽一一对应的通气管路，所述通气管路的一侧与对应的所述凹槽内的所述抽真空孔连通，所述通气管路的另一侧设有连接孔，所述抽真空管路插接于对应的所述连接孔内。

9.根据权利要求8所述的真空吸附组件，其特征在于，多个所述通气管路彼此平行间隔设置。

10.一种绑定设备，其特征在于，包括如权利要求1～9任一项所述的真空吸附组件。

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