CN217181401U - 一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，涉及半导体设备领域。一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，包括水平移动臂，所述水平移动臂的一侧设置有伸缩臂旋转机构，所述伸缩臂旋转机构的顶部设置有伸缩臂；该实用新型，通过真空吸盘、水平移动臂、伸缩臂、组合喷嘴、伸缩臂旋转机构，真空吸盘吸附圆形或方形基板旋转和精准定位，组合喷嘴安装在伸缩臂上，可沿伸缩臂移动，伸缩臂旋转机构带动伸缩臂在工作范围内旋转，伸缩臂安装在水平移动臂上，伸缩臂可整体在水平方向移动，采用基板旋转，喷嘴固定和基板固定，喷嘴移动的方式进行基本边缘清洗，既可以清洗圆形晶圆，又可以清洗带平边晶圆或者方形基板。
Description
技术领域
本实用新型涉及单片非圆形基板技术领域，具体为一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构。
背景技术
晶圆加工过程中，涂胶是一步重要的工艺过程，现在通常采用的涂胶方式是旋转涂布，在电机主轴上安装有真空吸盘，晶圆吸附在真空吸盘上，电机带动晶圆高速旋转。在晶圆上面中间部位喷洒光刻胶，在离心力的作用下，光刻胶均匀地涂布的晶圆表面，光刻胶具有一定的粘性，旋转的涂布方式会在晶圆侧面及背面残留有光刻胶，残胶会影响后续的工艺过程，也会在晶圆传递过程中造成设备污染，所以在涂胶步骤结束后，需要进行去边及背洗流程，在晶圆背面及正面边缘，有专门的喷洒去边剂的喷嘴，喷嘴可以喷出极细的柱状液体，配合电机的旋转，把晶圆侧面和背面的残胶洗掉，同时晶圆正面的光刻胶也会被去掉一定宽度。
这种方式可以快速高效的去除圆形基板的残胶，但是对于非完整圆形（有平边）或矩形基板，则不能完全去除或无法去除侧面及背面的残胶。
实用新型内容
（一）解决的技术问题
针对现有技术的不足，本实用新型公开了一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，以解决上述背景技术中提出的问题。
（二）技术方案
为实现以上目的，本实用新型通过以下技术方案予以实现：一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，包括：
水平移动臂，所述水平移动臂的一侧设置有伸缩臂旋转机构，所述伸缩臂旋转机构的顶部设置有伸缩臂；
真空吸盘，所述真空吸盘的一侧设置有电机；
组合喷嘴，所述组合喷嘴的一侧设置有N喷嘴，所述组合喷嘴的一侧且在N喷嘴的其中一侧设置有去边剂喷嘴。
优选的，所述伸缩臂的一侧滑动连接有滑块，所述滑块的一端安装在组合喷嘴的一侧。
优选的，所述真空吸盘在伸缩臂的一侧且位于水平移动臂的上方。
优选的，所述真空吸盘的一侧设置有圆形晶圆。
优选的，所述真空吸盘的一侧设置有方形基板。
优选的，所述真空吸盘的一侧且位于水平移动臂的上方设置有带平边的晶圆。
本实用新型公开了一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其具备的有益效果如下：
1、该实用新型，通过真空吸盘、水平移动臂、伸缩臂、组合喷嘴、伸缩臂旋转机构，真空吸盘吸附圆形或方形基板旋转和精准定位，组合喷嘴安装在伸缩臂上，可沿伸缩臂移动，伸缩臂旋转机构带动伸缩臂在工作范围内旋转，伸缩臂安装在水平移动臂上，伸缩臂可整体在水平方向移动，采用基板旋转，喷嘴固定和基板固定，喷嘴移动的方式进行基本边缘清洗，既可以清洗圆形晶圆，又可以清洗带平边晶圆或者方形基板。
2、该实用新型，组合喷嘴由一个N2喷嘴和一个去边剂喷嘴组成，去边剂喷嘴喷洒柱状去边剂，清洗基板边缘，N2喷嘴用于保护基板不受到飞溅的去边剂和清洗掉的残胶的污染，组合喷嘴可在平面内进行移动和旋转，实现定点喷洒和移动喷洒。
附图说明
图1为本实用新型整体结构示意图；
图2为本实用新型喷嘴结构示意图；
图3为本实用新型圆形基板清洗结构示意图；
图4为本实用新型方形基板清洗结构示意图；
图5为本实用新型带平边的晶圆。
图中：1、真空吸盘；2、水平移动臂；3、伸缩臂；4、组合喷嘴；5、伸缩臂旋转机构；6、N2喷嘴；7、去边剂喷嘴；8、圆形晶圆；9、方形基板；10、带平边的晶圆。
具体实施方式
本实用新型实施例公开一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，如图1-5所示，包括：
水平移动臂2，水平移动臂2的一侧设置有伸缩臂旋转机构5，伸缩臂旋转机构5的顶部设置有伸缩臂3；
其中伸缩臂3通过伸缩臂旋转机构5安装在水平移动臂2上，水平移动臂2可带动伸缩臂3进行水平移动，水平移动臂2可在水平方向上进行移动，伸缩臂旋转机构5安装在水平移动臂2上，水平移动臂2、伸缩臂3、组合喷嘴4作为一个整体，可在水平移动臂2上移动，机构的水平运动、旋转运动、伸缩运动是相互独立的，任一动作进行时，不影响其他运动的进行。
真空吸盘1，真空吸盘1的一侧设置有电机；
真空吸盘1与电机及真空源相连，可吸附基板并旋转。
组合喷嘴4，组合喷嘴4的一侧设置有N2喷嘴6，组合喷嘴4的一侧且在N2喷嘴6的其中一侧设置有去边剂喷嘴7；
其中组合喷嘴4由N2喷嘴6和去边剂喷嘴7组成，两喷嘴可以组合使用，也可以单独使用，去边剂喷嘴7喷洒柱状去边剂，清洗基板边缘，N2喷嘴6的作用是清洗过程中保护基板不受到飞溅的去边剂和清洗掉的残胶的污染，组合喷嘴4在水平移动臂2、伸缩臂3、伸缩臂旋转机构5的作用可进行沿水平方向和伸缩臂方向的直线运动，以及绕伸缩臂旋转机构5的旋转运动。
伸缩臂3的一侧滑动连接有滑块，滑块的一端安装在组合喷嘴4的一侧；
其中组合喷嘴4安装在伸缩臂3上，伸缩臂3上的滑块可以带动组合喷嘴4沿直线运动，对组合喷嘴4上的N2喷嘴6和去边剂喷嘴7进行调节。
真空吸盘1在伸缩臂3的一侧且位于水平移动臂2的上方；
其中真空吸盘1对方形基板9、圆形晶圆8和带平边的晶圆10在清洗时进行吸附，基板边缘进行清洗时，组合喷嘴4在水平移动臂2和伸缩臂3的带动下。
真空吸盘1的一侧设置有圆形晶圆8；
其中圆形晶圆8吸附在真空吸盘1上进行清洗，在清洗时，组合喷嘴4在水平移动臂2和伸缩臂3的带动下，移动到圆形晶圆8边缘，真空吸盘1吸附住圆形晶圆8，并通过电机高速旋转，组合喷嘴4中的去边剂喷嘴7喷洒去边剂，将圆形晶圆8边缘及侧面的残胶去除。
真空吸盘1的一侧设置有方形基板9；
其中方形基板9的一条平边与伸缩臂3平行，组合喷嘴4移动到方形基板9上方，通过水平移动臂2调整去边剂喷嘴7距离和方形基板9与伸缩臂3平行边的距离，控制去边清洗的效果，清洗过程中，方形基板9处于静止状态，同时开启N2喷嘴6和去边剂喷嘴7，N2喷嘴6的作用是清洗过程中保护方形基板9内部不受到飞溅的去边剂和清洗掉的残胶的污染，伸缩臂3带动组合喷嘴4向下运动，直至喷嘴完全移出方形基板9，组合喷嘴4全部关闭，完成一边的清洗，再将方形基板9旋转90°，重复上述步骤可对方形基板9的其他边进行清洗。
真空吸盘1的一侧且位于水平移动臂2的上方设置有带平边的晶圆10；
其中带平边的晶圆10上的平边采用方形基板9的清洗方式进行清洗，带平边的晶圆10的圆边采用圆形晶圆8的清洗方式进行清洗。
工作原理：参考图1至图5，首先将真空吸盘1与电机及真空源相连，可吸附基板并旋转，再将组合喷嘴4安装在伸缩臂3上，伸缩臂3上的滑块可以带动组合喷嘴4沿直线运动，伸缩臂旋转机构5可以带动伸缩臂3进行旋转，水平移动臂2可在水平方向上进行移动，伸缩臂旋转机构5安装在水平移动臂2上，水平移动臂2上、伸缩臂3、组合喷嘴4作为一个整体，可在水平移动臂2上移动。机构的水平运动、旋转运动、伸缩运动是相互独立的，任一动作进行时，不影响其他运动的进行。
对圆形基板边缘进行清洗时，组合喷嘴4在水平移动臂2和伸缩臂3的带动下，移动到圆形晶圆8边缘，真空吸盘1吸附住圆形晶圆8，并高速旋转，组合喷嘴4中的去边剂喷嘴7喷洒曲边剂，将圆形晶圆8边缘及侧面的残胶去除。
对方形基板9进行清洗时，方形基板9和伸缩臂旋转机构5在视图平面内进行旋转，使得方形基板9的一条平边与伸缩臂3平行，组合喷嘴4移动的方形基板9上方，通过水平移动臂2调整去边剂喷嘴7距离方形基板9与伸缩臂3平行边的距离，控制去边清洗的效果；
清洗过程中，方形基板9处于静止状态，同时开启N2喷嘴6和去边剂喷嘴7，N2喷嘴6的作用是清洗过程中保护方形基板9内部不受到飞溅的去边剂和清洗掉的残胶的污染，伸缩臂3带动组合喷嘴4向下运动，直至喷嘴完全移出方形基板9，组合喷嘴4全部关闭，完成一边的清洗后，组合喷嘴4重新移动到方形基板9的上方，方向基板旋转90°，重复上述过程，完成对方形基板9所有边的清洗。
对于带有平边的晶圆10，可采用组合的方式进行清洗，首先采用方形基板9中的方式对带有平边的晶圆10的平边进行边缘清洗，然后采用圆形晶圆8中的方式对圆边进行清洗，即可完成清洗。
以上显示和描述了本实用新型的基本原理和主要特征和本实用新型的优点。本行业的技术人员应该了解，本实用新型不受上述实施例的限制，上述实施例和说明书中描述的只是说明本实用新型的原理，在不脱离本实用新型精神和范围的前提下，本实用新型还会有各种变化和改进，这些变化和改进都落入要求保护的本实用新型范围内。本实用新型要求保护范围由所附的权利要求书及其等效物界定。
Claims (6)
1.一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于，包括：
水平移动臂（2），所述水平移动臂（2）的一侧设置有伸缩臂旋转机构（5），所述伸缩臂旋转机构（5）的顶部设置有伸缩臂（3）；
真空吸盘（1），所述真空吸盘（1）的一侧设置有电机；
组合喷嘴（4），所述组合喷嘴（4）的一侧设置有N2喷嘴（6），所述组合喷嘴（4）的一侧且在N2喷嘴（6）的其中一侧设置有去边剂喷嘴（7）。
2.根据权利要求1所述的一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于：所述伸缩臂（3）的一侧滑动连接有滑块，所述滑块的一端安装在组合喷嘴（4）的一侧。
3.根据权利要求1所述的一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于：所述真空吸盘（1）在伸缩臂（3）的一侧且位于水平移动臂（2）的上方。
4.根据权利要求1所述的一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于：所述真空吸盘（1）的一侧设置有圆形晶圆（8）。
5.根据权利要求1所述的一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于：所述真空吸盘（1）的一侧设置有方形基板（9）。
6.根据权利要求1所述的一种用于单片非圆形基板边缘清洗的机构，其特征在于：所述真空吸盘（1）的一侧且位于水平移动臂（2）的上方设置有带平边的晶圆（10）。
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