CN217149298U - 一种磁控溅射镀膜机 - Google Patents
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Abstract
本实用公开了一种磁控溅射镀膜机,本实用,包括机体,所述机体一侧底部的一端安装有电箱,所述机体一侧靠近电箱一端的中间位置安装有控制面板,所述机体一侧靠近电箱一端的顶部安装有显示屏,所述机体一侧远离电箱一端的底部通过合页转动安装有活动门板,所述机体一侧远离电箱一端的顶部通过转轴转动安装有密封门板。本实用,工作人员将被镀件直接放置在转动杆上,然后通过电机输出端的带动,使得转动杆能够将带动被镀件在转动杆上转动,由于被镀件在磁控溅射镀膜机内是通过转动杆放置在磁控溅射镀膜机上的,解决了绳索固定出现断裂的问题,并且通过转动杆的转动,带动被镀件进行转动,使得被镀件能够镀膜更加完整。
Description
技术领域
本实用涉及磁控溅射技术领域,具体为一种磁控溅射镀膜机。
背景技术
磁控溅射是物理气相沉积(PVD)的一种,一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,而上世纪70年代发展起来的磁控溅射法更是实现了高速、低温、低损伤。因为是在低气压下进行高速溅射,必须有效地提高气体的离化率。磁控溅射通过在靶阴极表面引入磁场,利用磁场对带电粒子的约束来提高等离子体密度以增加溅射率。
传统的磁控溅射镀膜机在对被镀件进行镀膜时,工作人员需要根据被镀件的体积和形状,将被镀件通过绳索固定在镀膜机内的被镀件放置杆上,然后再由磁控溅射镀膜机对被镀件进行镀膜处理,由于一些被镀件体积较大,这些体积较大的被镀件在进行磁控溅射镀膜时,容易造成绳索断裂使得被镀件无法很好的镀膜,从而造成被镀件镀膜不完整。
实用新型内容
本实用的目的在于提供一种磁控溅射镀膜机,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用提供如下技术方案:一种磁控溅射镀膜机,包括机体,所述机体一侧底部的一端安装有电箱,所述机体一侧靠近电箱一端的中间位置安装有控制面板,所述机体一侧靠近电箱一端的顶部安装有显示屏,所述机体一侧远离电箱一端的底部通过合页转动安装有活动门板,所述机体一侧远离电箱一端的顶部通过转轴转动安装有密封门板,所述机体远离电箱一端底部的中间位置安装有管道,所述机体远离控制面板的一侧安装有防护板,所述机体内部底端靠近管道的一端安装有真空泵,所述机体内部靠近防护板一侧底端的中间位置安装有固定架,所述机体内部靠近防护板一侧底端的中间位置通过固定架安装有惰性气体气罐,所述机体内部顶端靠近管道一端安装有镀膜舱,所述镀膜舱顶部和底部均安装有承载件,所述承载件的内部安装有磁铁,所述镀膜舱内部顶端的承载件的底部安装有靶材,所述镀膜舱内部底端的承载件的顶部安装有基板,所述镀膜舱的两端均安装有电机,所述电机的输出端安装有转动杆。
优选的,所述真空泵的输出端与管道之间相连通,所述机体远离电箱一端底部的中间位置开设有圆形通孔,所述机体上圆形通孔的尺寸和管道的尺寸相适配,所述机体内部底端靠近管道的一端开设有多个固定螺纹孔,所述真空泵底部的四个顶角处均开设有固定通孔,所述机体上固定螺纹孔的尺寸和位置与真空泵上固定通孔的尺寸和位置相对应。
优选的,所述镀膜舱内部靠近防护板一侧的两端分别开设有出气口和进气口,所述真空泵的输入端通过连接管贯穿机体靠近防护板一侧的底端并延伸至镀膜舱与出气口相连通,所述惰性气体气罐的输出端通过气管贯穿机体靠近防护板一侧的顶部并延伸至镀膜舱与进气口相连通。
优选的,所述承载件内部等距排列开设有多个固定槽,所述承载件上固定槽的尺寸和磁铁的尺寸相适配,所述电机的输出端贯穿镀膜舱的两端并延伸至镀膜舱的内部,所述转动杆的一端与电机的输出端相连接,所述转动杆的另一端贯穿镀膜舱的一端。
优选的,所述镀膜舱靠近密封门板一侧的两端均开设有矩形凹槽,所述镀膜舱上矩形凹槽内部靠近转动杆的一端等距排列有多个螺纹孔,所述电机靠近转动杆一端的四个顶尖处均开设有通孔,所述镀膜舱上螺纹孔的尺寸和开设位置与电机上通孔的尺寸和开设位置相对应。
优选的,所述转动杆的一端与电机的输出端相连接,所述转动杆的另一端贯穿镀膜舱的一端,所述镀膜舱靠近密封门板一侧的顶部和底部均开设有收纳槽,所述镀膜舱上收纳槽的尺寸与基板和靶材的尺寸相适配,所述镀膜舱内部的顶端和底端均开设有开口,所述镀膜舱上开口与收纳槽相连通。
与现有技术相比,本实用的有益效果是:该磁控溅射镀膜机,工作人员将被镀件直接放置在转动杆上,然后通过电机输出端的带动,使得转动杆能够将带动被镀件在转动杆上转动,由于被镀件在磁控溅射镀膜机内是通过转动杆放置在磁控溅射镀膜机上的,解决了绳索固定出现断裂的问题,并且通过转动杆的转动,带动被镀件进行转动,使得被镀件能够镀膜更加完整。
附图说明
图1为本实用的示意图;
图2为本实用主视图;
图3为本实用侧视图;
图4为本实用内部结构主视图。
图中:1、机体;2、电箱;3、显示屏;4、控制面板;5、活动门板;6、密封门板;7、管道;8、防护板;9、真空泵;10、固定架;11、惰性气体气罐;12、承载件;13、磁铁;14、基板;15、靶材;16、镀膜舱;17、电机; 18、转动杆。
具体实施方式
下面将结合本实用实施例中的附图,对本实用实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅是本实用的一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用保护的范围。
请参阅图1-4,本实用提供的一种实施例:一种磁控溅射镀膜机,包括机体1,机体1一侧底部的一端安装有电箱2,机体1一侧靠近电箱2一端的中间位置安装有控制面板4,控制面板4与电箱2、显示屏3、真空泵9和电机 17之间电性连接,机体1一侧靠近电箱2一端的顶部安装有显示屏3,机体1 一侧远离电箱2一端的底部通过合页转动安装有活动门板5,工作人员可以通过活动门板5对机体1内部的真空泵9进行更换与惰性气体气罐11进行更换,机体1一侧远离电箱2一端的顶部通过转轴转动安装有密封门板6,通过密封门板6将镀膜舱16与外界分隔开,机体1远离电箱2一端底部的中间位置安装有管道7,真空泵9输出端通过管道7将镀膜舱16内部的空气抽出,机体 1远离控制面板4的一侧安装有防护板8,工作人员可以将防护板8拆卸下来,对机体1靠近防护板8一侧的连接管和气管进行更换,机体1内部底端靠近管道7的一端安装有真空泵9,机体1内部靠近防护板8一侧底端的中间位置安装有固定架10,机体1内部靠近防护板8一侧底端的中间位置通过固定架 10安装有惰性气体气罐11,工作人员通过固定架10将惰性气体气罐11稳定牢固安装在机体1内部,机体1内部顶端靠近管道7一端安装有镀膜舱16,镀膜舱16顶部和底部均安装有承载件12,承载件12的内部安装有磁铁13,镀膜舱16内部顶端的承载件12的底部安装有靶材15,镀膜舱16内部底端的承载件12的顶部安装有基板14,镀膜舱16的两端均安装有电机17,电机17 的输出端安装有转动杆18,工作人员将被镀件稳定牢固放置在转动杆18上。
在本实施中,真空泵9的输出端与管道7之间相连通,机体1远离电箱2 一端底部的中间位置开设有圆形通孔,机体1上圆形通孔的尺寸和管道7的尺寸相适配,机体1内部底端靠近管道7的一端开设有多个固定螺纹孔,真空泵9底部的四个顶角处均开设有固定通孔,机体1上固定螺纹孔的尺寸和位置与真空泵9上固定通孔的尺寸和位置相对应。
在本实施中,镀膜舱16内部靠近防护板8一侧的两端分别开设有出气口和进气口,真空泵9的输入端通过连接管贯穿机体1靠近防护板8一侧的底端并延伸至镀膜舱16与出气口相连通,惰性气体气罐11的输出端通过气管贯穿机体1靠近防护板8一侧的顶部并延伸至镀膜舱16与进气口相连通。
在本实施中,承载件12内部等距排列开设有多个固定槽,承载件12上固定槽的尺寸和磁铁13的尺寸相适配,磁铁13通过固定槽稳定牢固的安装在承载件12上,电机17的输出端贯穿镀膜舱16的两端并延伸至镀膜舱16 的内部,转动杆18的一端与电机17的输出端相连接,转动杆18的另一端贯穿镀膜舱16的一端。
在本实施中,镀膜舱16靠近密封门板6一侧的两端均开设有矩形凹槽,镀膜舱16上矩形凹槽内部靠近转动杆18的一端等距排列有多个螺纹孔,电机17靠近转动杆18一端的四个顶尖处均开设有通孔,镀膜舱16上螺纹孔的尺寸和开设位置与电机17上通孔的尺寸和开设位置相对应,电机17通过螺纹孔和通孔稳定牢固在矩形凹槽内部。
在本实施中,电机17的输出端贯穿镀膜舱16的两端并延伸至镀膜舱16 的内部,镀膜舱16靠近密封门板6一侧的顶部和底部均开设有收纳槽,镀膜舱16上收纳槽的尺寸与基板14和靶材15的尺寸相适配,工作人员可以将使用完的靶材15直接从收纳槽内抽出,然后换上新的靶材15,镀膜舱16内部的顶端和底端均开设有开口,镀膜舱16上开口与收纳槽相连通,使得靶材15 和基板14之间的配合能够对镀膜舱16内部的被镀件进行镀膜。
工作原理:工作人员将惰性气体气罐11与气管相连通,并且通过固定架 10将惰性气体气罐11稳定牢固的安装在机体1内部,然后工作人员将被镀件通过转动杆18放置在镀膜舱16内部,工作人员再将密封门板6关上,然后工作人员通过控制面板4启动真空泵9,由真空泵9对镀膜舱16内的空气抽出,从而达到改变镀膜舱16内部环境的目的,同时工作人员将惰性气体气罐 11中的气体送往镀膜舱16内部,并通过控制面板4启动电机17,由电机17带动转动杆18转动,使得转动杆18能够带动被镀件进行转动,使得被镀件镀膜能够更加的完整,当镀膜完成后,工作人员再启动真空泵9,由真空泵9 往镀膜舱16内输入空气,并且关闭惰性气体气罐11,然后工作人员打开密封门板6,将镀膜舱16内镀膜完成的被镀件取出即可。
对于本领域技术人员而言,本实用不限于上述示例性实施例的细节,而且在不背离本实用的精神或范围的情况下,能够以其他的具体形式实现本实用。因此,本实用的实施例是示例性的,而且是非限制性的。本实用的范围由所附权利要求而不是上述说明限定,因此旨在将落在权利要求的等同要件的含义和范围内的所有变化囊括在本实用内。不应将权利要求中的任何附图标记视为限制所涉及的权利要求。
在本实用的描述中,除非另有说明,“多个”的含义是两个或两个以上;术语“上”、“下”、“左”、“右”、“内”、“外”、“前端”、“后端”、“头部”、“尾部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系,仅是为了便于描述本实用和简化描述,而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作,因此不能理解为对本实用的限制。此外,术语“第一”、“第二”、“第三”等仅用于描述目的,而不能理解为指示或暗示相对重要性。
在本实用的描述中,需要说明的是,除非另有明确的规定和限定,术语“相连”、“连接”应做广义理解,例如,可以是固定连接,也可以是可拆卸连接,或一体地连接;可以是机械连接,也可以是电连接;可以是直接相连,也可以通过中间媒介间接相连。对于本领域的普通技术人员而言,可以具体情况理解上述术语在本实用中的具体含义。
Claims (6)
1.一种磁控溅射镀膜机,包括机体(1),其特征在于:所述机体(1)一侧底部的一端安装有电箱(2),所述机体(1)一侧靠近电箱(2)一端的中间位置安装有控制面板(4),所述机体(1)一侧靠近电箱(2)一端的顶部安装有显示屏(3),所述机体(1)一侧远离电箱(2)一端的底部通过合页转动安装有活动门板(5),所述机体(1)一侧远离电箱(2)一端的顶部通过转轴转动安装有密封门板(6),所述机体(1)远离电箱(2)一端底部的中间位置安装有管道(7),所述机体(1)远离控制面板(4)的一侧安装有防护板(8),所述机体(1)内部底端靠近管道(7)的一端安装有真空泵(9),所述机体(1)内部靠近防护板(8)一侧底端的中间位置安装有固定架(10),所述机体(1)内部靠近防护板(8)一侧底端的中间位置通过固定架(10)安装有惰性气体气罐(11),所述机体(1)内部顶端靠近管道(7)一端安装有镀膜舱(16),所述镀膜舱(16)顶部和底部均安装有承载件(12),所述承载件(12)的内部安装有磁铁(13),所述镀膜舱(16)内部顶端的承载件(12)的底部安装有靶材(15),所述镀膜舱(16)内部底端的承载件(12)的顶部安装有基板(14),所述镀膜舱(16)的两端均安装有电机(17),所述电机(17)的输出端安装有转动杆(18)。
2.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述真空泵(9)的输出端与管道(7)之间相连通,所述机体(1)远离电箱(2)一端底部的中间位置开设有圆形通孔,所述机体(1)上圆形通孔的尺寸和管道(7)的尺寸相适配,所述机体(1)内部底端靠近管道(7)的一端开设有多个固定螺纹孔,所述真空泵(9)底部的四个顶角处均开设有固定通孔,所述机体(1)上固定螺纹孔的尺寸和位置与真空泵(9)上固定通孔的尺寸和位置相对应。
3.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜舱(16)内部靠近防护板(8)一侧的两端分别开设有出气口和进气口,所述真空泵(9)的输入端通过连接管贯穿机体(1)靠近防护板(8)一侧的底端并延伸至镀膜舱(16)与出气口相连通,所述惰性气体气罐(11)的输出端通过气管贯穿机体(1)靠近防护板(8)一侧的顶部并延伸至镀膜舱(16)与进气口相连通。
4.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述承载件(12)内部等距排列开设有多个固定槽,所述承载件(12)上固定槽的尺寸和磁铁(13)的尺寸相适配,所述电机(17)的输出端贯穿镀膜舱(16)的两端并延伸至镀膜舱(16)的内部,所述转动杆(18)的一端与电机(17)的输出端相连接,所述转动杆(18)的另一端贯穿镀膜舱(16)的一端。
5.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述镀膜舱(16)靠近密封门板(6)一侧的两端均开设有矩形凹槽,所述镀膜舱(16)上矩形凹槽内部靠近转动杆(18)的一端等距排列有多个螺纹孔,所述电机(17)靠近转动杆(18)一端的四个顶尖处均开设有通孔,所述镀膜舱(16)上螺纹孔的尺寸和开设位置与电机(17)上通孔的尺寸和开设位置相对应。
6.根据权利要求1所述的一种磁控溅射镀膜机,其特征在于:所述转动杆(18)的一端与电机(17)的输出端相连接,所述转动杆(18)的另一端贯穿镀膜舱(16)的一端,所述镀膜舱(16)靠近密封门板(6)一侧的顶部和底部均开设有收纳槽,所述镀膜舱(16)上收纳槽的尺寸与基板(14)和靶材(15)的尺寸相适配,所述镀膜舱(16)内部的顶端和底端均开设有开口,所述镀膜舱(16)上开口与收纳槽相连通。
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CN202122984823.0U Active CN217149298U (zh) | 2021-11-24 | 2021-11-24 | 一种磁控溅射镀膜机 |
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