CN217137952U - 清洗座、清洗基站和自清洁系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种清洗座、清洗基站和自清洁系统，清洗座包括底座本体和支架结构，底座本体具有收集腔；支架结构设置在收集腔内，且支架结构与底座本体可拆卸地连接，支架结构包括至少一套清洗机构，清洗机构具有清洗区。本实用新型解决了现有的一体式设计的收集腔及清洗机构中累积的污渍难以清洁的问题。

Description

清洗座、清洗基站和自清洁系统

技术领域

本实用新型属于清洁设备技术领域，具体涉及一种清洗座、清洗基站和自清洁系统。

背景技术

随着生活水平的提高，家具清洁逐步进入了智能化、机器化的时代，清洁机器人由此应运而生，清洁机器人的出现有效地解放了用户的双手，从而减轻用户在家居清洁作业中的工作负担，其中，清洁机器人的工作原理是通过刷扫和真空吸附的方式将地面上的灰尘或其他污渍吸入尘盒内，从而完成地面的清理作业。

此外，与清洁机器人配套使用的通常还有清洗座，清洁机器人作业一段时间后会自动移动至清洗座内，从而对清洁机器人的拖擦件进行清洗，但是，现有的清洗基站通常将收集腔和清洗机构一体式设计，在长期使用后，清洗机构和收集腔之间的角落处容易积累难以清洁的污渍。

发明内容

因此，本实用新型所要解决的技术问题是现有的一体式设计的收集腔及清洗机构中累积的污渍难以清洁的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洗座，包括底座本体和支架结构，底座本体具有收集腔；支架结构设于收集腔内，且支架结构与底座本体可拆卸地连接；其中，支架结构包括至少一套清洗机构，清洗机构具有清洗区。

可选地，支架结构还包括支架，任一套清洗机构均包括清洁座，及凸出固定在清洁座外表面上的至少一个清洗凸起，所有清洗凸起的表面形成清洗区，清洁座设在支架上；清洗机构通过支架可拆卸地设在底座本体。

可选地，清洗机构的至少一个端部固定在支架上，清洗机构除端部外的其他部分和支架在底座本体上的投影错开分布。

可选地，支架呈闭合环形的围板，清洗机构设在围板内，清洗机构的端部与围板的内壁固定连接，清洗机构与围板之间形成镂空区。

可选地，围板的外壁面与收集腔的内壁面相适配，围板至少嵌入收集腔内，且围板的外壁面抵接在收集腔的内壁面上，以安装在收集腔内。

可选地，支架结构还包括导流机构，导流机构具有导流通道，导流通道的第一端与清洁座的清洗区连通，导流通道的第二端与支架连接，且导流通道的第二端与底座本体上的进液口连通，或，导流通道的第二端与清洗基站上的进液口连通。

可选地，清洁座包括至少两个分支体，两个分支体的内侧端固定连接，以形成第一安装部，两个分支体的外侧端呈放射状延伸分布并与支架连接，各分支体上均设置有清洗凸起，第一安装部与导流通道的第一端连接。

可选地，清洗机构为多个，多个清洗机构依次分布，相邻的两个清洗机构中相邻的两个分支体的外端部连接并形成第二安装部，第二安装部与支架连接。

可选地，支架呈闭合环形的围板，清洗机构和导流机构均设在围板内，清洗机构、导流机构和围板之间形成镂空区。

可选地，支架结构上设有磁吸件，支架结构通过磁吸件与底座本体可拆卸地连接。

可选地，收集腔的腔底面上开设有排液口；支架结构还包括过滤结构，过滤结构至少避开清洗机构分布，并罩设在排液口的外周上，以使收集腔内的清洗液经过滤结构过滤后由排液口排出。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种清洗基站，清洗基站包括清洗座，清洗座为上述的清洗座。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种自清洁系统，包括清洁机器人和清洗基站，其中，清洗基站用于对清洁机器人的拖擦件进行清洗作业，清洗基站为上述的清洗基站。

本实用新型还提供一种清洗座，通过将清洗座设置成包括底座本体和支架结构的结构形式，同时，底座本体具有收集腔，支架结构可拆卸地设置在底座本体的收集腔内，支架结构上设置有清洗机构，清洗机构具有对清洁机器人的拖擦件进行清洁的清洗区，由于支架结构与底座本体可拆卸地连接，使得在对收集腔进行清洗作业时，只需要取出支架结构即可，避免了一体式设计的支架结构与底座本体导致收集腔内积累较多的污渍而难以清洁的问题，进一步保障了清洗基站对清洁机器人的拖擦件的清洁可靠性。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型一种可选实施例的清洗座的结构示意图；

图2为图1中的清洗座的分解结构示意图；

图3为图1中的清洗座的结构示意图；

图4为图3中的清洗座的底座本体的结构示意图；

图5为图3中的清洗座的支架结构的结构示意图。

附图标记说明：

10-基站本体；11-壳体；111-进液口；12-清洗座；121-底座本体；1211-导向端；1212-收集腔；1212a-排液口；1213-水位检测组件；1214-磁吸传感器；122-支架结构；1221-支架；1222-清洗机构；1222a-导流机构；1222b-清洁座；1223-过滤结构；1224-磁吸件；100-容纳槽；200-镂空区；300-导流通道；400-清洗凸起；500-第二安装部。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。下文中将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。需要说明的是，在不冲突的情况下，本实用新型中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

需要说明的是，本实用新型的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。

在本实用新型中，在未作相反说明的情况下，使用的方位词如“上、下、顶、底”通常是针对附图所示的方向而言的，或者是针对部件本身在竖直、垂直或重力方向上而言的；同样地，为便于理解和描述，“内、外”是指相对于各部件本身的轮廓的内、外，但上述方位词并不用于限制本实用新型。

需要说明的是，本申请提供了一种自清洁系统，包括清洁机器人和清洗基站，其中，清洗基站用于对清洁机器人的拖擦件进行清洗作业，清洗基站为上述和下述的清洗基站。

具体地，当清洁机器人的拖擦件位于清洗座12内时，拖擦件相对于清洗座12可活动地设置，拖擦件活动至清洗座12的导流区内与清洗液接触并浸湿，再活动至清洗座12的清洗区内进行清洗作业，以去除拖擦件上的污渍。

需要说明的是，本申请提供了一种清洗基站，清洗基站包括清洗座12，清洗座12为上述和下述的清洗座12。

如图1至图5所示，清洗座包括底座本体121和支架结构122，底座本体121具有收集腔1212；支架结构122设于收集腔1212内，且支架结构122与底座本体121可拆卸地连接；其中，支架结构122包括至少一套清洗机构1222，清洗机构1222具有清洗区。

本实用新型还提供一种清洗座12，通过将清洗座12设置成包括底座本体121和支架结构122的结构形式，同时，底座本体121具有收集腔1212，支架结构122可拆卸地设置在底座本体121的收集腔1212内，支架结构122上设置有清洗机构1222，清洗机构1222具有对清洁机器人的拖擦件进行清洁的清洗区，由于支架结构122与底座本体121可拆卸地连接，使得在对收集腔1212进行清洗作业时，只需要取出支架结构122即可，避免了一体式设计的支架结构122与底座本体121导致收集腔1212内积累较多的污渍而难以清洁的问题，进一步保障了清洗基站对清洁机器人的拖擦件的清洁可靠性。

此外，通过将支架结构122与底座本体121设置成可拆卸的结构形式，便于用户将支架结构122取下对支架结构122进行清洗作业，防止支架结构122上残留污渍和颗粒物。

如图2和图3所示，底座本体121具有伸出容纳槽100设置的导向端1211以及位于容纳槽100内的收集腔1212。

如图2、图3和图5所示，支架结构122还包括支架1221，任一套清洗机构1222均包括清洁座，及凸出固定在清洁座外表面上的至少一个清洗凸起400，所有清洗凸起400的表面形成清洗区，清洁座设在支架1221上；清洗机构1222通过支架1221可拆卸地设在底座本体121。这样，拖擦件在转动过程中与多个清洗凸起400接触，从而去除拖擦件上的污渍和颗粒物，确保清洗座12对拖擦件的清洗可靠性。

如图2、图3和图5所示，清洗机构1222的至少一个端部固定在支架1221上，清洗机构1222除端部外的其他部分和支架1221在底座本体121上的投影错开分布。

如图2、图3和图5所示，支架1221呈闭合环形的围板，清洗机构1222设在围板内，清洗机构1222的端部与围板的内壁固定连接，清洗机构1222与围板之间形成镂空区200。这样，清洗机构1222对拖擦件进行清洗作业的过程中，经过清洗作业的清洗液通过镂空区200进入收集腔1212内。

可选地，围板的外壁面与收集腔1212的内壁面相适配，围板至少嵌入收集腔1212内，且围板的外壁面抵接在收集腔1212的内壁面上，以安装在收集腔1212内。这样，确保清洗座12的外观美感的同时，还确保了支架结构122放置到收集腔1212内时能够与收集腔1212很好的适配，不会因拖擦件转动与清洁座1222b接触作业的过程中，而导致支架结构122在收集腔1212出现晃动现象。

可选地，在本申请一个未图示的实施例中，支架结构122还包括导流机构1222a，导流机构1222a具有导流通道300，导流通道300的第一端与清洁座的清洗区连通，导流通道300的第二端与支架1221连接，且导流通道300的第二端与底座本体121上的进液口111连通。

如图2、图3和图5所示，支架结构122还包括导流机构1222a，导流机构1222a具有导流通道300，导流通道300的第一端与清洁座的清洗区连通，导流通道300的第二端与支架1221连接，导流通道300的第二端与清洗基站上的进液口111连通。这样，通过将清洗机构1222设置成包括导流机构1222a和清洁座1222b的结构形式，导流机构1222a的导流通道300能够将滴入位置处的清洗液导流至拖擦件转动区域的覆盖位置处，从而确保拖擦件能够有效地浸湿，拖擦件在转动过程中与多个清洗凸起400接触，从而去除拖擦件上的污渍和颗粒物，确保清洗座12对拖擦件的清洗可靠性。

如图2、图3和图5所示，清洁座包括至少两个分支体，两个分支体的内侧端固定连接，以形成第一安装部，两个分支体的外侧端呈放射状延伸分布并与支架1221连接，各分支体上均设置有清洗凸起400，第一安装部与导流通道300的第一端连接。这样，在确保支架结构122的结构简单的前提下，通过将清洁座1222b设置成包括多个的结构形式，确保多个清洁座1222b能够同时对拖擦件进行清洗作业，有利于提升清洁座1222b的清洗效率以及清洗可靠性。

如图2、图3和图5所示，清洗机构1222为多个，多个清洗机构1222依次分布，相邻的两个清洗机构1222中相邻的两个分支体的外端部连接并形成第二安装部500，第二安装部500与支架1221连接。这样，确保多个清洁座1222b能够尽可能地分布于拖擦件的转动区域，从而确保拖擦件在转动过程中能够同时与多个清洁座1222b进行清洗作业。

可选地，在本申请的一个未图示的实施例中，导流机构1222a和清洁座1222b均为多个，各导流机构1222a的第二端均与各清洁座1222b的第一端连接，各导流机构1222a的第一端均与支架1221的内壁面连接，且连接位置不重合，各清洁座1222b的第二端均与支架1221的内壁面连接，且连接位置不重合。这样，确保多个导流机构1222a和多个清洁座1222b协同作业，从而提升清洗机构1222的清洗效率以及清洗可靠性。

如图2、图3和图5所示，支架1221呈闭合环形的围板，清洗机构1222和导流机构1222a均设在围板内，清洗机构1222、导流机构1222a和围板之间形成镂空区200。

如图4和图5所示，支架结构122上设有磁吸件1224，支架结构122通过磁吸件1224与底座本体121可拆卸地连接。这样，确保安装和拆卸的便捷性。

如图4和图5所示，支架结构122上设置有磁吸件1224，底座本体121上设置有磁吸传感器1214，通过磁吸传感器1214感应磁吸件1224，从而判断支架结构122是否安装到位。

如图3至图5所示，收集腔1212的腔底面上开设有排液口1212a；支架结构122还包括过滤结构1223，过滤结构1223至少避开清洗机构1222分布，并罩设在排液口1212a的外周上，以使收集腔1212内的清洗液经过滤结构1223过滤后由排液口1212a排出。这样，过滤结构1223起到对收集腔1212内的清洗液的过滤可靠性，防止收集腔1212内的较大颗粒的污渍进入排液口1212a而堵塞排液口1212a，从而确保排液口1212a的排污可靠性。

当然，过滤结构1223的外周侧与清洗机构1222的导流机构1222a之间同样具有镂空区200。

如图3至图5所示，收集腔1212的最低位置处开设有排液口1212a。如图2、图3和图5所示支架结构122包括支架1221和清洗机构1222，支架1221具有安装空间，安装空间具有导流区和清洗区；清洗机构1222设置在安装空间内并与支架1221的内壁面连接，清洗机构1222的一部分位于导流区内，清洗机构1222的另一部分位于清洗区内；其中，清洗机构1222的外周面与支架1221的内壁面之间形成有与收集腔1212连通的镂空区200。这样，清洗机构1222对拖擦件进行清洗作业的过程中，经过清洗作业的清洗液通过镂空区200进入收集腔1212内。

如图1至图5所示，基站本体10具有容纳槽100，容纳槽100的槽口位于基站本体10的侧面；其中，沿远离槽口的方向上，容纳槽100的底面依次具有清洗区和导流区，容纳槽100与导流区相对的顶面上开设有进液口111，通过进液口111向导流区内引入清洗液；当清洁机器人的拖擦件位于容纳槽100内时，拖擦件相对于基站本体10可活动地设置，拖擦件活动至导流区内与清洗液接触并浸湿，再活动至清洗区内进行清洗作业，以去除拖擦件上的污渍及颗粒物。

通过在基站本体10的容纳槽100与导流区相对的顶面上开设有进液口111，使得进液口111能够向导流区内引入清洗液，这样，由于进液口111位于导流区的上方，不存在被拖擦件封堵的现象，确保进液口111能够向导流区内引入清洗液，当清洁机器人的拖擦件位于容纳槽100内时，拖擦件相对于基站本体10可活动地设置，拖擦件活动至导流区内时能够充分浸湿，进而确保后续活动至清洗区内后能够有效去除拖擦件上的污渍及颗粒物，从而确保清洗座12对拖擦件的清洗可靠性。

如图1和图2所示，基站本体10还包括壳体11，壳体11设置在清洗座12上，且壳体11与清洗座12围成容纳槽100，容纳槽100的槽口位于基站本体10的侧面，容纳槽100与导流区相对的槽壁面开设有进液口111，通过进液口111向导流区内引入清洗液。这样，通过将基站本体10设置成包括壳体11和清洗座12的结构形式，壳体11上的进液口111用于向清洗座12的导流区内引入清洗液，避免拖擦件遮挡进液口111。

可选地，清洗座12还包括储液箱，壳体11具有容纳腔，储液箱设置在容纳腔内，进液口111与储液箱连通。这样，通过将储液箱集成在容纳腔内，确保储液箱能够及时向进液口111提供清洗液的同时，还避免了使用大量较长的管路来从外界提供清洗液。

可选地，进液口111与外界清洗液源连通。这样，避免在清洗座12上安装较为沉重的储液箱，从而有利于降低清洗座12的壳体11的负荷。

可选地，拖擦件可转动地设置，拖擦件以其转轴为中心转动，拖擦件的转动区域覆盖清洗区和部分的导流区，这样，由于拖擦件覆盖了部分的导流区，使得另一部分的导流区暴露在拖擦件之外，并与进液口111相对设置，这样，进液口111引入的清洗液直接滴在暴露在拖擦件之外的导流区处并流向拖擦件的转动区域覆盖的导流区，确保拖擦件能够有效地浸湿，从而在转动过程中边浸湿边转动至清洗区进行清洗作业，提高了清洗座12对拖擦件的清洗可靠性。

此外，进液口111以滴入的方式向导流区引入清洗液，避免了清洗液的浪费；当然，也可以以流入的方式向导流区引入清洗液，确保对拖擦件的清洗可靠性的同时，提升了清洗效率。

如图4所示，底座本体121上还设置有水位检测组件1213和控制模块，水位检测组件1213用于检测收集腔1212内的水位，当收集腔1212内的水位大于等于预设水位时，控制模块根据水位检测组件1213的检测信息停止向导流区内供清洗液，避免收集腔1212内的清洗液过多不能及时从排液口1212a排出而出现溢出现象。

显然，上述所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分的实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下，可以做出其它不同形式的变化或变动，都应当属于本实用新型保护的范围。

Claims (13)

1.一种清洗座，其特征在于，包括：

底座本体，所述底座本体具有收集腔；

支架结构，所述支架结构设于所述收集腔内，且所述支架结构与所述底座本体可拆卸地连接；

其中，所述支架结构包括至少一套清洗机构，所述清洗机构具有清洗区。

2.根据权利要求1所述的清洗座，其特征在于，所述支架结构还包括：

支架；

任一套所述清洗机构均包括清洁座，及凸出固定在所述清洁座外表面上的至少一个清洗凸起，所有所述清洗凸起的表面形成所述清洗区，所述清洁座设在所述支架上；

所述清洗机构通过所述支架可拆卸地设在所述底座本体。

3.根据权利要求2所述的清洗座，其特征在于，所述清洗机构的至少一个端部固定在所述支架上，所述清洗机构除端部外的其他部分和所述支架在所述底座本体上的投影错开分布。

4.根据权利要求3所述的清洗座，其特征在于，所述支架呈闭合环形的围板，所述清洗机构设在所述围板内，所述清洗机构的端部与所述围板的内壁固定连接，所述清洗机构与所述围板之间形成镂空区。

5.根据权利要求4所述的清洗座，其特征在于，所述围板的外壁面与所述收集腔的内壁面相适配，所述围板至少嵌入所述收集腔内，且所述围板的外壁面抵接在所述收集腔的内壁面上，以安装在所述收集腔内。

6.根据权利要求2所述的清洗座，其特征在于，所述支架结构还包括导流机构，所述导流机构具有导流通道，所述导流通道的第一端与所述清洁座的清洗区连通，所述导流通道的第二端与所述支架连接，且所述导流通道的第二端与所述底座本体上的进液口连通，或，所述导流通道的第二端与清洗基站上的进液口连通。

7.根据权利要求6所述的清洗座，其特征在于，所述清洁座包括至少两个分支体，两个所述分支体的内侧端固定连接，以形成第一安装部，两个所述分支体的外侧端呈放射状延伸分布并与所述支架连接，各所述分支体上均设置有所述清洗凸起，所述第一安装部与所述导流通道的第一端连接。

8.根据权利要求7所述的清洗座，其特征在于，所述清洗机构为多个，多个所述清洗机构依次分布，相邻的两个所述清洗机构中相邻的两个所述分支体的外端部连接并形成第二安装部，所述第二安装部与所述支架连接。

9.根据权利要求6所述的清洗座，其特征在于，所述支架呈闭合环形的围板，所述清洗机构和所述导流机构均设在所述围板内，所述清洗机构、所述导流机构和所述围板之间形成镂空区。

10.根据权利要求1所述的清洗座，其特征在于，

所述支架结构上设有磁吸件，所述支架结构通过所述磁吸件与所述底座本体可拆卸地连接。

11.根据权利要求10所述的清洗座，其特征在于，

所述收集腔的腔底面上开设有排液口；

所述支架结构还包括：

过滤结构，所述过滤结构至少避开所述清洗机构分布，并罩设在所述排液口的外周上，以使所述收集腔内的清洗液经所述过滤结构过滤后由所述排液口排出。

12.一种清洗基站，所述清洗基站包括清洗座，其特征在于，所述清洗座为权利要求1至11中任一项所述的清洗座。

13.一种自清洁系统，其特征在于，包括：

清洁机器人；

清洗基站，所述清洗基站用于对所述清洁机器人的拖擦件进行清洗作业，所述清洗基站为权利要求12所述的清洗基站。

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