CN216956666U - 一种晶圆级纳米压印设备 - Google Patents
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Abstract
本实用新型公开了一种晶圆级纳米压印设备，包括外框架与压印主体框架，所述外框架内侧上设有超高效空气净化装置、门自动开关装置以及电气装置，所述压印主体框架上设有压印装置、UV光固装置、膜框升降装置、平台吸附固定装置、顶PIN升降装置以及自动取放料装置，平台吸附固定装置包括载具，所述载具上均匀排布有与真空管道连接的凹槽以及加热装置，基片被吸附在载具上，压印薄膜被装载到膜框升降装置上，利用膜框升降装置的升降作用，能够将压印薄膜与载具上的基片相配合，通过UV光固装置与加热装置相配合利用传递的热能量将已经压印出纳米孔的膜体进行光化学反应或热化学反应而固化，实现软膜与基板之间的纳米结构压印。
Description
技术领域
本实用新型涉及半导体领域，具体为一种晶圆级纳米压印设备。
背景技术
纳米压印技术是一种新型的微纳加工技术，随着科技的进步和发展，人们从理论和实验研究中发现，当许多材料被加工为具有纳米尺度范围的形状时，会呈现出不同的性质。于是人们开发了一些能够进行纳米尺度加工的技术，例如电子束与X射线曝光等。但这些技术的缺点是设备昂贵，产量低，这样便出现了一种新型的微纳加工技术，即晶圆级纳米压印设备，现有技术的晶圆级纳米压印设备存在不方便上上下物料，不方便压印薄膜上下移动，不方便压印薄膜与基板相配合压印操作，没有物料的上下料机构，使得结构设计复杂且不便于微纳加工，使得制作周期长，效率低。
为此，我们提出一种压印操作方便，结构设计合理，结构简单，加工成本低，制作周期短，结构还原度高，易于操作的晶圆级纳米压印设备来解决上述问题。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种晶圆级纳米压印设备，以解决上述背景技术中遇到的问题。
为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种晶圆级纳米压印设备，包括分体式结构框架，所述分体式结构框架包括外框架与压印主体框架，所述压印主体框架设于外框架内侧下方，所述外框架内侧设有位于其上的超高效空气净化装置、门自动开关装置以及电气装置，所述压印主体框架内侧设有位于其上的压印装置、UV光固装置、膜框升降装置、平台吸附固定装置、顶PIN升降装置以及自动取放料装置；
所述超高效空气净化装置设置在压印装置的上方，所述压印装置上设有用于形成所述纳米孔的、呈预定阵列布置的压印元件，所述压印装置垂向对准于平台吸附固定装置，所述膜框升降装置带动压印薄膜升降后与平台吸附固定装置相配合，所述膜框升降装置设于平台吸附固定装置的上方，所述平台吸附固定装置设于顶PIN升降装置的上方，所述UV光固装置设于压印装置上且设于膜框升降装置的右方，所述自动取放料装置设置在顶PIN升降装置的上方，所述外框架上的门自动开关装置用于与自动取放料装置相配合对物料进行拿取与放置。
所述超高效空气净化装置安装于外框架内腔左上壁，所述电气装置安装于外框架内腔右下壁。
所述外框架底部四角对称设有四个自锁万向轮，所述外框架底部且位于四个自锁万向轮的内侧设有四个脚杯。
所述平台吸附固定装置包括载具，所述载具上均匀排布有与真空管道连接的凹槽以及加热装置，所述UV光固装置与加热装置相配合利用传递的热能量将已经压印出纳米孔的膜体进行光化学反应或热化学反应而固化，所述真空管道连接有真空泵。
与现有技术相比，本实用新型的有益效果如下：通过真空泵以及真空管道的作用将基片被吸附在载具上，压印薄膜被装载到膜框升降装置上，利用膜框升降装置的升降作用，能够将压印薄膜与载具上的基片相配合，压印装置上的压印元件下移，与载具相配合，在UV光固装置与加热装置的作用下，将压印薄膜压印至基片上，可紫外固化也可加热固化，应用范围广，实现软膜对基板之间的纳米结构压印；
顶PIN升降装置能够带动平台吸附固定装置上移，将基板上移贴合压印薄膜，在压印装置以及加热装置的配合下，实现基板对软膜及软膜对基板之间的纳米结构压印；该晶圆级纳米压印设备用于微纳结构的基板对软膜及软膜对基板之间的纳米结构压印，有高的结构还原度和易于操作的人机界面，同时加工成本低，制作周期短。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图。
图中：1、超高效空气净化装置；2、压印装置；3、UV光固装置；4、膜框升降装置；5、平台吸附固定装置；6、顶PIN升降装置；7、自动取放料装置；101、外框架；102、门自动开关装置；103、电气装置；104、自锁万向轮；105、脚杯；201、压印主体框架。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1，一种晶圆级纳米压印设备，包括分体式结构框架，所述分体式结构框架包括外框架101与压印主体框架201，所述压印主体框架201设于外框架101内侧下方，所述外框架101内侧设有位于其上的超高效空气净化装置1、门自动开关装置102以及电气装置103，所述压印主体框架201内侧设有位于其上的压印装置2、UV光固装置3、膜框升降装置4、平台吸附固定装置5、顶PIN升降装置6以及自动取放料装置7；
超高效空气净化装置1用于对压印环境下的空气进行净化，门自动开关装置102能够自动化的打开门体，方便基片、压印薄膜的上下料，方便将基片上料至平台吸附固定装置5的载具基板上，方便将压印薄膜上料至膜框升降装置4上，也方便自动取放料装置7上物料的拿取与放置，UV光固装置3包括紫外灯，UV光固装置3上的紫外灯出的紫外线透过压印薄膜以及基片，将压印薄膜压印到基片上，顶PIN升降装置6用于驱动平台吸附固定装置5的升降，方便平台吸附固定装置5与压印装置2的配合使用；
所述超高效空气净化装置1设置在压印装置2的上方，所述压印装置2上设有用于形成所述纳米孔的、呈预定阵列布置的压印元件，所述压印装置2垂向对准于平台吸附固定装置5，所述膜框升降装置4带动压印薄膜升降后与平台吸附固定装置5相配合，所述膜框升降装置4设于平台吸附固定装置5的上方，所述平台吸附固定装置5设于顶PIN升降装置6的上方，所述UV光固装置3设于压印装置2上且设于膜框升降装置4的右方，所述自动取放料装置7设置在顶PIN升降装置6的上方，所述外框架101上的门自动开关装置102用于与自动取放料装置7相配合对物料进行拿取与放置。
所述超高效空气净化装置1安装于外框架101内腔左上壁，所述电气装置103安装于外框架101内腔右下壁。
所述外框架101底部四角对称设有四个自锁万向轮104，所述外框架101底部且位于四个自锁万向轮104的内侧设有四个脚杯105，自锁万向轮104以及脚杯105的相互组合能够方便设备的移动以及固定，还方便设备的调平稳定操作。
所述平台吸附固定装置5包括载具，所述载具上均匀排布有与真空管道连接的凹槽以及加热装置，所述UV光固装置3与加热装置相配合利用传递的热能量将已经压印出纳米孔的膜体进行光化学反应或热化学反应而固化，所述真空管道连接有真空泵，载具上排布有与真空管道连接的凹槽，方便固定产品的位置，采用加热装置加热载具，更利于压印操作以及脱膜操作。
工作原理：通过真空泵以及真空管道的作用将基片被吸附在载具上，压印薄膜被装载到膜框升降装置4上，利用膜框升降装置4的升降作用，能够将压印薄膜与载具上的基片相配合，压印装置2上的压印元件下移，与载具相配合，在UV光固装置3与加热装置的作用下，将压印薄膜压印至基片上，可紫外固化也可加热固化，应用范围广，实现软膜对基板之间的纳米结构压印；
顶PIN升降装置6能够带动平台吸附固定装置5上移，将基板上移贴合压印薄膜，在压印装置2以及加热装置的配合下，实现基板对软膜及软膜对基板之间的纳米结构压印；该晶圆级纳米压印设备用于微纳结构的基板对软膜及软膜对基板之间的纳米结构压印，有高的结构还原度和易于操作的人机界面，同时加工成本低，制作周期短。
最后应说明的是：以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明，对于本领域的技术人员来说，其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改，或者对其中部分技术特征进行等同替换，凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种晶圆级纳米压印设备，包括分体式结构框架，其特征在于：所述分体式结构框架包括外框架(101)与压印主体框架(201)，所述压印主体框架(201)设于外框架(101)内侧下方，所述外框架(101)内侧设有位于其上的超高效空气净化装置(1)、门自动开关装置(102)以及电气装置(103)，所述压印主体框架(201)内侧设有位于其上的压印装置(2)、UV光固装置(3)、膜框升降装置(4)、平台吸附固定装置(5)、顶PIN升降装置(6)以及自动取放料装置(7)；
所述超高效空气净化装置(1)设置在压印装置(2)的上方，所述压印装置(2)上设有压印元件，所述压印装置(2)垂向对准于平台吸附固定装置(5)，所述膜框升降装置(4)带动压印薄膜升降后与平台吸附固定装置(5)相配合，所述膜框升降装置(4)设于平台吸附固定装置(5)的上方，所述平台吸附固定装置(5)设于顶PIN升降装置(6)的上方，所述UV光固装置(3)设于压印装置(2)上且设于膜框升降装置(4)的右方，所述自动取放料装置(7)设置在顶PIN升降装置(6)的上方，所述外框架(101)上的门自动开关装置(102)用于与自动取放料装置(7)相配合对物料进行拿取与放置。
2.根据权利要求1所述的一种晶圆级纳米压印设备，其特征在于：所述超高效空气净化装置(1)安装于外框架(101)内腔左上壁，所述电气装置(103)安装于外框架(101)内腔右下壁。
3.根据权利要求1所述的一种晶圆级纳米压印设备，其特征在于：所述外框架(101)底部四角对称设有四个自锁万向轮(104)，所述外框架(101)底部且位于四个自锁万向轮(104)的内侧设有四个脚杯(105)。
4.根据权利要求1所述的一种晶圆级纳米压印设备，其特征在于：所述平台吸附固定装置(5)包括载具，所述载具上均匀排布有与真空管道连接的凹槽以及加热装置，所述真空管道连接有真空泵。
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| CN202122748332.6U CN216956666U (zh) | 2021-11-10 | 2021-11-10 | 一种晶圆级纳米压印设备 |
Applications Claiming Priority (1)
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Publications (1)
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| CN216956666U true CN216956666U (zh) | 2022-07-12 |
Family
ID=82304386
Family Applications (1)
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| CN202122748332.6U Active CN216956666U (zh) | 2021-11-10 | 2021-11-10 | 一种晶圆级纳米压印设备 |
Country Status (1)
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|---|---|
| CN (1) | CN216956666U (zh) |
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2021
- 2021-11-10 CN CN202122748332.6U patent/CN216956666U/zh active Active
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