CN216919086U - 一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜 - Google Patents

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吕松
黄宝玉
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杨求平
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Abstract

本实用新型涉及光伏胶膜技术领域,尤其是一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜;所述胶膜的上表面和下表面分别设置有若干排等间距交替设置的深“回”字型花纹和浅“回”字型花纹,且相邻排“回”字型花纹交替设置,每个“回”字型花纹中有“1”字型孔洞,所述“1”字型孔洞与胶膜收卷方向平行;在“回”字型花纹中间规律分布穿透“1”字线型孔洞,可以有效避免因为开孔而导致该区域局部胶膜填充量不足,表面的“回”字型胶膜压花可以有效增加该区域的胶量,同时“回”字型的存在也可以有效吸收胶膜影响贯穿式的开孔而释放出的应力,增加孔洞四周胶膜的局部强度,避免胶膜出现破损。

Description

一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜
技术领域
本实用新型涉及光伏胶膜技术领域,尤其是一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜。
背景技术
太阳能是一种取之不尽用之不竭的清洁能源,光伏组件的工作原理是把太阳能直接转换为电能,不断提高光伏组件的功率输出是太阳能光伏组件发展一个基本方向。
目前的大功率太阳能电池组件越来越多,在晶硅转换效率技术没有明显提升的情况下,增大硅片的面积提升组件功率应运而生,从而导致组件的尺寸也会相应增加。而大宽幅胶膜的生产制造中容易导致胶膜在流延及收卷过程中产生局部的应力集中,从而影响在组件生产裁切及铺设过程中出现大宽幅胶膜的翘曲、拱起及排骨纹情况,从而导致组件生产制造过程中电池片的报废率高,以及组件铺设及流传的效率低下。
因此,本领域技术人员亟需提供一种降低大宽幅胶膜流延及收卷过程中应力产生,减少甚至避免胶膜收卷过程中的翘曲打皱情况,提高组件端在裁切及铺设过程中的平整度,提高组件端生产制备的良率及效率的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜。
发明内容
本实用新型的目的是:克服现有技术中的不足,提供一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,可以有效减小胶膜收卷过程中的内应力残余,降低胶膜在组件制备过程中的翘曲、拱起及排骨纹情况,促进胶膜在组件制备过程中的平整度良好,避免电池片在流水线转运及层压过程中的碎片率,提升组件制备良率及效率。
为解决上述技术问题,本发明采用的技术方案如下:
一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,所述胶膜的上表面和下表面分别设置有若干排等间距交替设置的深“回”字型花纹和浅“回”字型花纹,且相邻排“回”字型花纹交替设置,每个“回”字型花纹中有“1”字型孔洞,所述“1”字型孔洞与胶膜收卷方向平行。
进一步的,所述上表面的“回”字型花纹和下表面的“回”字型花纹的位置一一对应。
进一步的,上表面的深“回”字型花纹和下表面的深“回”字型花纹的位置交替设置,上表面的浅“回”字型花纹和下表面的浅“回”字型花纹的位置交替设置。
进一步的,每排深“回”字型花纹和浅“回”字型花纹均为等间距设置。
进一步的,所述“回”字型花纹的外框长度为300-600μm,“回”字型花纹的内框长度为250-500μm。
进一步的,所述深“回”字型花纹的深度为40-160μm。
进一步的,所述浅“回”字型花纹的深度为30-100μm。
进一步的,所述“1”字型孔洞的长度为180-360μm,宽度<2μm。
进一步的,“1”字型孔洞位于“回”字型花纹的中心位置。
进一步的,所述胶膜层的厚度为400-900μm。
采用本发明的技术方案的有益效果是:
(1)在胶膜上下层表面使用规律分布的“回”字型压花结构,可以有效增加胶膜收卷过程中膜与膜表面之间的摩擦系数,减少膜与膜之间的接触面积,避免因为黏连而导致的胶膜在收放卷过程中因为黏连而导致的拉伸应力过大从而影响胶膜的平整度;
(2)在“回”字型花纹中间规律分布穿透“1”字线型孔洞,可以有效避免因为开孔而导致该区域局部胶膜填充量不足,表面的“回”字型胶膜压花可以有效增加该区域的胶量,同时“回”字型的存在也可以有效吸收胶膜影响贯穿式的开孔而释放出的应力,增加孔洞四周胶膜的局部强度,避免胶膜出现破损;
(3)穿透“1”字线型孔洞的设计可以有效避免大宽幅胶膜在流延及收卷过程中产生的应力,同时由于胶膜弹性体的特性,可以有效将局部产生的应力差在线型开孔处得到释放,降低胶膜在组件制备过程中的翘曲、拱起及排骨纹情况,促进胶膜在组件制备过程中的平整度良好,避免电池片在流水线转运及层压过程中的碎片率,提升组件制备良率及效率。
附图说明
图1是本实用新型一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜的结构示意图。
图中:1为胶膜层,2为深“回”字型花纹,3为浅“回”字型花纹,4为“1”字线型孔洞。
具体实施方式
下面结合具体实施方式对本实用新型中的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜作进一步说明。
请参阅图1,一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,胶膜的上表面和下表面分别设置有若干排等间距交替设置的深“回”字型花纹2和浅“回”字型花纹3,且相邻排“回”字型花纹交替设置,每个“回”字型花纹中有“1”字型孔洞,“1”字型孔洞与胶膜收卷方向平行,在“回”字型花纹中间规律分布穿透“1”字线型孔洞4,从而达到释放胶膜挤出流延及收卷过程中的应力,使得胶膜在组件端裁切铺设的过程中不会出现翘曲、拱起及排骨纹情况。具体的,胶膜层1的厚度为400-900μm,例如400μm、450μm、500μm、550μm、600μm、650μm、700μm、750μm、800μm、850μm、900μm。
作为本实用新型中“回”字型花纹分布的一个实施例,上表面的“回”字型花纹和下表面的“回”字型花纹的位置一一对应。
作为本实用新型中“回”字型花纹分布的一个实施例,上表面的深“回”字型花纹2和下表面的深“回”字型花纹2的位置交替设置,上表面的浅“回”字型花纹3和下表面的浅“回”字型花纹3的位置交替设置。
本实例中的“回”字型花纹的外框长度为300-600μm,具体可以是:300μm、320μm、350μm、380μm、400μm、420μm、450μm、480μm、500μm、520μm、550μm、580μm、600μm,还可以是其他合适的尺寸,“回”字型花纹的内框长度为250-500μm,具体可以是:250μm、280μm、300μm、350μm、380μm、400μm、450μm、480μm、500μm。
此外,每排深“回”字型花纹2和浅“回”字型花纹3均为等间距设置,具体每排“回”字型花纹中相邻“回”字型花纹之间的间距可以大于“回”字型花纹的外框边长,也可以等于或小于“回”字型花纹的边长,生产过程中根据实际需要而定。
具体的,深“回”字型花纹2的深度为40-160μm,例如:40μm、50μm、60μm、70μm、80μm、90μm、100μm、110μm、120μm、130μm、140μm、150μm、160μm。
具体的,浅“回”字型花纹3的深度为30-100μm,例如:30μm、35μm、40μm、45μm、50μm、55μm、60μm、65μm、70μm、75μm、80μm、85μm、90μm、95μm、100μm.
具体的,“1”字型孔洞的长度为180-360μm,宽度<2μm。
请参阅图1,本实施例中的“1”字型孔洞位于“回”字型花纹的中心位置。
此外,应当理解,虽然本说明书按照实施方式加以描述,但并非每个实施方式仅包含一个独立的权利方案,说明书的这种叙述方式仅仅是为清楚起见,本领域技术人员应当将说明书作为一个整体,各实施例中的技术方案也可以经适当组合,形成本领域技术人员可以理解的其他实施方式。

Claims (10)

1.一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述胶膜的上表面和下表面分别设置有若干排等间距交替设置的深“回”字型花纹和浅“回”字型花纹,且相邻排“回”字型花纹交替设置,每个“回”字型花纹中有“1”字型孔洞,所述“1”字型孔洞与胶膜收卷方向平行。
2.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述上表面的“回”字型花纹和下表面的“回”字型花纹的位置一一对应。
3.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:上表面的深“回”字型花纹和下表面的深“回”字型花纹的位置交替设置,上表面的浅“回”字型花纹和下表面的浅“回”字型花纹的位置交替设置。
4.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:每排深“回”字型花纹和浅“回”字型花纹均为等间距设置。
5.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述“回”字型花纹的外框长度为300-600μm,“回”字型花纹的内框长度为250-500μm。
6.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述深“回”字型花纹的深度为40-160μm。
7.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述浅“回”字型花纹的深度为30-100μm。
8.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述“1”字型孔洞的长度为180-360μm,宽度<2μm。
9.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:“1”字型孔洞位于“回”字型花纹的中心位置。
10.根据权利要求1所述的一种大宽幅用低收卷应力压花胶膜,其特征在于:所述胶膜的厚度为400-900μm。
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