CN216838266U - 一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于，包括：第一固定件，设置在水冷屏管道的一侧；第二固定件，设置在导流筒组件的一侧；提升件，一端设置在所述第一固定件上，另一端穿过所述第二固定件，且所述第二固定件能够在所述提升件上来回移动，进而带动所述导流筒组件移动。本实用新型的有益效果是将导流筒组件提升设计为悬挂式，且每端均可进行手动调节，用于调节导流筒组件水平，利用提升件、第一固定件和第二固定件之间的配合来移动和固定导流筒组件的位置，第二固定件相对提升件上下移动，将导流筒组件移动至目标位置，再固定第二固定件，使得导流筒组件固定在目标位置，防止内部碳毡掉落至硅液中，影响炉台成晶率及单晶品质。

Description

一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置

技术领域

本实用新型硅单晶生产制造设备领域，尤其是涉及一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置。

背景技术

目前单晶硅生长技术主要有两种：区熔法和直拉法，其中直拉法是目前普遍采用的方法。

现单晶生产所使用的外导流筒在拉晶时，由于炉体热场无法绝对水平，导致炭炭上保温盖与上保温环形碳毡中间存在缝隙，炉台运行过程中产生的氧化物易吸附于炭炭上保温盖和上保温环形碳毡表面，且氧化物在随导流筒上下升降时易掉落至硅液中，同时，水冷屏与导流筒之间的碳毡在移动过程中也可能会掉落至硅液中，影响炉台成晶率及单晶品质。

实用新型内容

本实用新型要解决的问题是提供一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，有效的解决炉台运行过程中产生的氧化物易吸附于炭炭上保温盖和上保温环形碳毡表面，且氧化物在随导流筒上下升降时易掉落至硅液中，同时，水冷屏与导流筒之间的碳毡在移动过程中也可能会掉落至硅液中，影响炉台成晶率及单晶品质的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型采用的技术方案是：一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于，包括：

第一固定件，设置在水冷屏管道的一侧；

第二固定件，设置在导流筒组件的一侧；

提升件，一端设置在所述第一固定件上，另一端穿过所述第二固定件，且所述第二固定件能够在所述提升件上来回移动，进而带动所述导流筒组件移动。

优选地，所述第一固定件包括承载台和第一固定块，所述承载台布置在所述水冷屏管道远离所述导流筒组件的一侧，所述第一固定块设置在所述承载台远离所述水冷屏管道的一侧，固定所述提升件。

优选地，所述承载台和所述第一固定块上设有一供所述提升件第一螺纹孔。

优选地，所述第一固定件还包括一防止所述水冷屏管道磨损的防磨垫，设置在所述水冷屏管道与所述承载台之间。

优选地，所述提升件为表面带有螺纹的提升杆。

优选地，所述导流筒组件包括上保温盖和导流筒主体，所述上保温盖与所述导流筒主体为一体设置。

优选地，所述第二固定件包括第二固定块，设置在所述上保温盖远离所述水冷屏管道的一侧，用于将所述上保温盖固定在所述提升件上。

优选地，所述第二固定块上还设有一供所述提升件穿过的第二螺纹孔。

优选地，所述第二固定件还包括第三固定块，设置在所述上保温盖靠近所述水冷屏的一侧，配合所述第二固定块固定所述上保温盖。

优选地，所述所述第三固定块上设有一供所述提升件穿过的第三螺纹孔。

采用上述技术方案，将导流筒组件提升设计为悬挂提升，且每端均可进行手动调节，用于调节导流筒组件水平，利用提升件、第一固定件和第二固定件之间的配合来移动和固定导流筒组件的位置，第二固定件相对提升件上下移动，将导流筒组件移动至目标位置，再固定第二固定件，使得导流筒组件固定在目标位置，防止内部碳毡掉落至硅液中。

附图说明

图1是本实用新型实施例一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置示意图

图中：

1、上保温盖 2、导流筒 3、水冷屏

4、水冷屏管道 5、承载台 6、第一固定块

7、提升杆 8、第二固定块 9、第三固定块

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本实用新型作进一步说明：

在本实用新型实施例的描述中，需要理解的是，术语“顶部”、“底部”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。在本实用新型的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以通过具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

如图1一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置示意图所示，一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，包括：

第一固定件，设置在水冷屏管道4的一侧；其中，水冷屏管道4包括水冷屏进水管和水冷屏出水管；

第二固定件，设置在导流筒组件的一侧；导流筒组件包括上保温盖1和导流筒主体2，上保温盖1与导流筒主体2为一体设置，例如可以利用螺栓将上保温盖1和导流筒主体2装置连接在一起，或者使用其他方式均可。上保温盖1的内径不变，相比现有技术，上保温盖1的外径缩小，仅需大于导流筒主体2的直径即可，防止炉台运行过程中产生的氧化物易吸附于炭炭上保温盖和上保温环形碳毡表面，且氧化物在随外导流筒上下升降时易掉落至硅液中，影响炉台成晶率及单晶品质的情况发生。

提升件，一端设置在第一固定件上，另一端穿过第二固定件，且第二固定件能够在提升件上来回移动，进而带动导流筒组件来回移动。

具体的，第一固定件包括承载台5和第一固定块6，承载台5布置在水冷屏管道远离导流筒组件的一侧，承载台5的材质可以为铁片、不锈钢等材料制成；承载台5的形状为矩形、圆形等其他形状，且承载台5部分相对水冷屏管道延伸，延伸的部分距离大于第一螺纹孔的距离，保证第一螺纹孔能够被提升杆穿过；承载台5的整体大小大于第一固定块6的大小，确保第一固定块5能够稳定的在承载台5上固定提升杆7，保证提升杆7的稳定，不会随导流筒组件的移动而发生倾斜甚至掉落。

第一固定块6设置在承载台5远离水冷屏管道4的一侧，固定提升杆7。第一固定块6采用铁或不锈钢材料制成，第一固定块6的大小小于承载台5的大小并且大于第一螺纹孔的大小，用于穿过提升杆7，与提升杆7连接固定提升杆7，使得提升杆7稳定的固定在承载台5上。第一固定块6的形状可以为圆形、矩形等其他形状，优选为圆形，便于工作人员安装。

在承载台5和第一固定块6上设置有一供提升杆7穿过的第一螺纹孔，；承载台5和第一固定块6的第一螺纹孔设置在同一位置，保证提升杆7的顺利穿过。提升杆7的一端首先穿过承载台5，然后使用第一固定块6固定提升杆7伸出的一端，将提升杆7固定在承载台5上。

一些可行的实施例中，第一固定件还包括一防止水冷屏管道4磨损的防磨垫，设置在水冷屏管道4与承载台5之间，防止长时间的使用对水冷屏管道产生磨损而导致水管破裂等情况发生，尽量降低装置的磨损率，提高装置的使用寿命，进而降低部分生产成本。

提升件为表面带有螺纹的提升杆7，提升杆7的长度至少长于水冷屏管道4与上保温盖1之间的最长距离，保证导流筒组件不会在移动中掉落；提升杆7表面的螺纹与第一螺纹孔、第二螺纹孔和第三螺纹孔相匹配，确保导流筒组件的顺利移动。

第二固定件包括第二固定块8，设置在上保温盖1远离水冷屏管道4的一侧，即上保温盖1的内侧，用于将上保温盖1固定在提升杆7上，将导流筒组件固定在目标位置。第二固定块8的形状为圆形或矩形等其他形状，优选为圆形，便于工作人员的安装。第二固定块8的最长距离小于上保温盖1与水冷屏3之间的距离即可，优选为小于或等于第一固定块6的大小，便于工作人员或机械手等安装或拆卸第二固定块8。

在第二固定块8上还设有一第二螺纹孔，第二螺纹孔与上保温盖1上的螺纹孔位置一致，且与第一螺纹孔位置一致，确保提升杆7的顺利穿过。第一螺纹孔和第二螺纹孔的螺纹均与提升杆7表面的螺纹相匹配。

一些可行的实施例中，第二固定件还包括第三固定块9，设置在上保温盖1靠近水冷屏3的一侧，配合第二固定块8固定上保温盖1。第三固定块9的形状为圆形或矩形等其他形状，优选为圆形，便于工作人员的安装。第三固定块9的最长距离小于上保温盖1与水冷屏3之间的距离即可，优选为小于或等于第二固定块8的大小，便于工作人员或机械手等安装或拆卸第三固定块9。

第三固定块9上设有一供提升杆7穿过的第三螺纹孔。第三螺纹孔与上保温盖1上的螺纹孔位置一致，且与第一螺纹孔盒第二螺纹孔位置一致，确保提升杆7的顺利穿过。第一螺纹孔、第二螺纹孔和第三螺纹孔的螺纹均与提升杆7表面的螺纹相匹配。

一些可行的实施例中，在导流筒组件上对称设置有两组相同的提升装置，两端同时提升导流筒组件，使得导流筒主体2与水冷屏抵接的更加紧密，减小碳毡掉落至硅液中的风险。

工作过程：

当需要提升导流筒主体时，拆卸第二固定块8和第三固定块9，将上保温盖1提升至提升杆7上的目标位置，即导流筒主体的底部与水冷屏3接触后上保温盖1的位置。到达目标位置后，上保温盖1保持不动，将第二固定块8安装在上保温盖1内侧的提升杆7上，利用二者间的螺纹配合，旋紧至抵接在上保温盖1的内侧，将导流筒组件固定在目标位置上，防止导流筒主体2与水冷屏3之间抵接不严，内部充入的碳毡从缝隙中掉落至硅液中，污染硅液，影响后续单晶的成晶率和单晶品质。

一些可行的实施例中，在第二固定块8旋紧至抵接在上保温盖1的内侧后，第三固定块9安装在上保温盖1外侧的提升杆7上，利用二者间的螺纹配合，旋紧至抵接在上保温盖1的外侧，配合第二固定块8一起将导流筒组件更加稳定的固定在提升杆7上。

以上对本实用新型的实施例进行了详细说明，但所述内容仅为本实用新型的较佳实施例，不能被认为用于限定本实用新型的实施范围。凡依本实用新型申请范围所作的均等变化与改进等，均应仍归属于本实用新型的专利涵盖范围之内。

Claims (10)

1.一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于，包括：

第一固定件，设置在水冷屏管道的一侧；

第二固定件，设置在导流筒组件的一侧；

提升件，一端设置在所述第一固定件上，另一端穿过所述第二固定件，且所述第二固定件能够在所述提升件上来回移动，进而带动所述导流筒组件移动。

2.根据权利要求1所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第一固定件包括承载台和第一固定块，所述承载台布置在所述水冷屏管道远离所述导流筒组件的一侧，所述第一固定块设置在所述承载台远离所述水冷屏管道的一侧，固定所述提升件。

3.根据权利要求2所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述承载台和所述第一固定块上设有一供所述提升件穿过的第一螺纹孔。

4.根据权利要求2所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第一固定件还包括一防止所述水冷屏管道磨损的防磨垫，设置在所述水冷屏管道与所述承载台之间。

5.根据权利要求1所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述提升件为表面带有螺纹的提升杆。

6.根据权利要求1所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述导流筒组件包括上保温盖和导流筒主体，所述上保温盖与所述导流筒主体为一体设置。

7.根据权利要求6所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第二固定件包括第二固定块，设置在所述上保温盖远离所述水冷屏管道的一侧，用于将所述上保温盖固定在所述提升件上。

8.根据权利要求7所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第二固定块上还设有一供所述提升件穿过的第二螺纹孔。

9.根据权利要求7或8所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第二固定件还包括第三固定块，设置在所述上保温盖靠近所述水冷屏的一侧，配合所述第二固定块固定所述上保温盖。

10.根据权利要求9所述的一种用于提升单晶品质的导流筒提升装置，其特征在于：所述第三固定块上设有一供所述提升件穿过的第三螺纹孔。

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