CN216749817U

CN216749817U - 半导体工艺设备

Info

Publication number: CN216749817U
Application number: CN202123161201.4U
Authority: CN
Inventors: 甄瑞杰; 王凯
Original assignee: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
Current assignee: Beijing Naura Microelectronics Equipment Co Ltd
Priority date: 2021-12-15
Filing date: 2021-12-15
Publication date: 2022-06-14
Anticipated expiration: 2031-12-15

Abstract

本申请实施例提供了一种半导体工艺设备。该半导体工艺设备包括；工艺腔室、排气管、第一吹扫组件及第二吹扫组件；排气管的进气端与工艺腔室连接，排气管的排气端与厂务排气连接，用于排出工艺腔室内的工艺气体；第一吹扫组件及第二吹扫组件沿排气管的排气方向依次设置，用于向排气管内通入稀释气体，以对工艺气体进行稀释，第二吹扫组件的出气方向与排气方向之间呈一预设夹角；第一吹扫组件还用于在排气管内形成一气流保护层，气流保护层位于第一吹扫组件及第二吹扫组件之间，用于阻挡第二吹扫组件通入的稀释气体进入工艺腔室内。本申请实施例实现了避免对工艺腔室的压力环境造成影响，进而提高了工艺效果。

Description

半导体工艺设备

技术领域

本申请涉及半导体加工技术领域，具体而言，本申请涉及一种半导体工艺设备。

背景技术

目前，半导体工艺设备的工艺腔室内需要通入特殊气体，例如在工艺腔室内输入氢气，并且最初的设计都是在工艺腔室把特殊气体进行稀释，但是实验发现当工艺腔室内特殊气体(氢气)的含量越高对工艺结果越好，所以在工艺腔室通入纯度较高的特殊气体，而将稀释工作放到工艺腔室的排气端。

现有技术中的排气管与工艺腔室连接，吹扫管路与排气管连接，用于向排气管内通入大量的吹扫气体，以对工艺腔室内排出的特殊气体进行稀释，并且通过排气管排放至厂务排气。但是在实际应用时，当吹扫管路的吹扫气体流量越大，吹扫管路的出气口在排气管内形成负腔对工艺腔室的压力影响就越大，经过测试显示最大压降达到29Torr(托，1托≈133.32帕)，从而严重影响工艺腔室压力环境，进而严重影响了工艺结果。

实用新型内容

本申请针对现有方式的缺点，提出一种半导体工艺设备，用以解决现有技术存在的由于吹扫管路在排气管内形成负腔，从而严重影响工艺腔室压力环境及工艺结果的技术问题。

第一个方面，本申请实施例提供了一种半导体工艺设备，包括；工艺腔室、排气管、第一吹扫组件及第二吹扫组件；所述排气管的进气端与所述工艺腔室连接，所述排气管的排气端与厂务排气连接，用于排出所述工艺腔室内的工艺气体；所述第一吹扫组件及所述第二吹扫组件沿所述排气管的排气方向依次设置，用于向所述排气管内通入稀释气体，以对所述工艺气体进行稀释，所述第二吹扫组件的出气方向与所述排气方向之间呈一预设夹角；所述第一吹扫组件还用于在所述排气管内形成一气流保护层，所述气流保护层位于所述第一吹扫组件及所述第二吹扫组件之间，用于阻挡所述第二吹扫组件通入的稀释气体进入所述工艺腔室内。

于本申请的一实施例中，所述第一吹扫组件包括有第一导向管及第一连通部件，所述第一导向管设置于所述排气管内，并且沿所述排气管的轴向延伸设置；所述第一导向管为圆台结构；所述第一导向管相对较小的一端靠近所述进气端设置，并且通过所述第一连通部件与气源连接，所述第一导向管相对较大的一端用于在所述排气管内形成所述气流保护层。

于本申请的一实施例中，所述第二吹扫组件包括有第二导向管及第二连通部件，所述第二导向管设置于所述排气管内，并且沿所述排气管的轴向延伸设置；所述第二导向管的一端为封闭结构，另一端通过所述第二连通部件与气源连接，并且所述第二导向管的周壁上具有导流结构，用于使所述第二导向管的出气方向与所述排气方向之间呈所述预设夹角。

于本申请的一实施例中，所述第二连通部件位于所述第二导向管与所述第一导向管之间，并且所述第二连通部件与所述第一导向管相对较大的一端之间具有第一间距；所述第一导向管较大的一端沿周壁倾斜方向与所述排气管内周壁之间具有第二间距，所述第一间距大于所述第二间距。

于本申请的一实施例中，所述导流结构的出气方向沿所述排气管的径向设置，以使所述预设夹角呈90度；或者，所述导流结构的出气方向朝向所述排气端的方向倾斜，以使所述预设夹角为小于90度。

于本申请的一实施例中，所述导流结构的开口总面积为第一面积，所述第二导向管的导向通道的横截面积为第二面积，所述第一面积大于等于第二面积。

于本申请的一实施例中，所述导流结构包括有开设于所述第二导向管周壁上的多个导流孔，多个所述导流孔对称的开设于所述第二导向管的周壁上，并且多个所述导流孔沿所述第二导向管的轴向均匀排布。

于本申请的一实施例中，所述第一导向管相对较大的一端沿轴向的正投影面积为第三面积，所述排气管的排气通道的横截面积为第四面积，所述第三面积小于等于所述第四面积的二分之一。

于本申请的一实施例中，所述第一连通部件包括有第一转向块及第一连通管，所述第一转向块设置于所述排气管内，并且相邻两侧面分别用于连接所述第一导向管及所述第一连通管；所述第一连通管的一端与所述第一转向块连接，另一端位于所述排气管外侧用于连接气源。

于本申请的一实施例中，所述第二连通部件包括有第二转向块及第二连通管，所述第二转向块设置于所述排气管内，并且相邻两侧面分别用于连接所述第二导向管及所述第二连通管；所述第二连通管的一端与所述第二转向块连接，另一端位于所述排气管外侧用于连接气源。

本申请实施例提供的技术方案带来的有益技术效果是：

本申请实施例通过在排气管内设置有第一吹扫组件及第二吹扫组件，并且使第一吹扫组件及第二吹扫组件沿排气管的排气方向依次设置，以及使第二吹扫组件的出气方向与排气管的排气方向之间呈预设夹角，防止第二吹扫组件向排气管通入稀释气体时，造成排气管内的气流加速，避免排气管内气流较高对工艺腔室的压力环境造成影响，从而大幅提高工艺效果。第一吹扫组件可以在排气管内形成有气流保护层，可以防止第二吹扫组件通入的稀释气体倒灌入工艺腔室内，从而防止对工艺腔室造成污染及影响工艺结果。

本申请附加的方面和优点将在下面的描述中部分给出，这些将从下面的描述中变得明显，或通过本申请的实践了解到。

附图说明

本申请上述的和/或附加的方面和优点从下面结合附图对实施例的描述中将变得明显和容易理解，其中：

图1A为本申请实施例提供的一种半导体工艺设备的整体结构示意图；

图1B为本申请实施例提供的一种排气管与第一吹扫组件及第二吹扫组件配合的结构示意图；

图2为本申请实施例提供的一种第一吹扫组件的结构示意图；

图3为本申请实施例提供的一种第二吹扫组件的结构示意图；

图4为本申请实施例提供的一种排气管与第一吹扫组件及第二吹扫组件配合的剖视示意图；

图5A为本申请实施例提供的一种第二导向管的主视示意图；

图5B为本申请实施例提供的一种第二导向管的仰视示意图；

图5C为本申请实施例提供的一种第二导向管的立体示意图；

图6A为本申请实施例提供的一种第一导向管的主视示意图；

图6B为本申请实施例提供的一种第一导向管的俯视示意图；

图6C为本申请实施例提供的一种第一导向管的仰视示意图。

具体实施方式

下面详细描述本申请，本申请的实施例的示例在附图中示出，其中自始至终相同或类似的标号表示相同或类似的部件或具有相同或类似功能的部件。此外，如果已知技术的详细描述对于示出的本申请的特征是不必要的，则将其省略。下面通过参考附图描述的实施例是示例性的，仅用于解释本申请，而不能解释为对本申请的限制。

本技术领域技术人员可以理解，除非另外定义，这里使用的所有术语(包括技术术语和科学术语)，具有与本申请所属领域中的普通技术人员的一般理解相同的意义。还应该理解的是，诸如通用字典中定义的那些术语，应该被理解为具有与现有技术的上下文中的意义一致的意义，并且除非像这里一样被特定定义，否则不会用理想化或过于正式的含义来解释。

下面以具体地实施例对本申请的技术方案以及本申请的技术方案如何解决上述技术问题进行详细说明。

本申请实施例提供了一种半导体工艺设备，该半导体工艺设备的结构示意图如图1A及图1B所示，包括：工艺腔室1、排气管2、第一吹扫组件3及第二吹扫组件4；

排气管2的进气端与工艺腔室1连接，排气管2的排气端与厂务排气连接，用于排出工艺腔室1内的工艺气体；

第一吹扫组件3及第二吹扫组件4沿排气管2的排气方向依次设置，用于向排气管2内通入稀释气体，以对工艺气体进行稀释，第二吹扫组件4的出气方向与排气方向之间呈一预设夹角；

第一吹扫组件3还用于在排气管2内形成一气流保护层，气流保护层位于第一吹扫组件3及第二吹扫组件4之间，用于阻挡第二吹扫组件4通入的稀释气体进入工艺腔室内。

如图1A所示，半导体工艺设备例如具体为立式炉设备，但是本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。工艺腔室1可以为竖管状结构，底部与排气管2连接，以用于排出工艺腔室1内的工艺气体，工艺气体可包括氢气或氘气等特殊气体，但是本申请实施例并不以此为限。排气管2底部的进气端可通过一横管与工艺腔室1连接，排气管2整体沿竖直方向延伸设置，排气管2顶部的排气端可以与厂务排气连接，用于排出工艺腔室1内的工艺气体。第一吹扫组件3及第二吹扫组件4可以由低至高依次设置，即第一吹扫组件3及第二吹扫组件4沿排气管2的排气方向依次设置。第一吹扫组件3及第二吹扫组件4可以与一气源连接，并且用于向排气管2内通入稀释气体，以对排气管2内的工艺气体进行稀释，避免工艺气体中的特殊气体造成安全隐患及对环境造成污染。进一步，第二吹扫组件4的出气方向与排气管2内的排气方向之间呈一预设夹角，以防止第二吹扫组件4在排气管2内形成有负腔，从而避免对工艺腔室1内的压力环境造成影响。第一吹扫组件3还用于在排气管2内形成一气流保护层，并且该气流保护层位于第一吹扫组件3及第二吹扫组件4之间，在第二吹扫组件4在对排气管2通入稀释气体时，能避免第二吹扫组件4通入的稀释气体倒灌入工艺腔室1，从而防止对工艺腔室1造成污染及影响工艺结果。可选地，第二吹扫组件4的数量为多个，并且沿排气管2的排气方向依次排布，从而对通入排气管2内的稀释气体流量进行调节，但是本申请实施例并不限定第二吹扫组件4的具体数量，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

需要说明的是，本申请实施例并不限定工艺腔室1及排气管2的设置方式，例如排气管2也可以沿水平方向或者其它方向延伸设置。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A至图2所示，第一吹扫组件3包括有第一导向管31及第一连通部件32，第一导向管31设置于排气管2内，并且沿排气管2的轴向延伸设置；第一导向管31为圆台结构；第一导向管31相对较小的一端靠近进气端设置，并且通过第一连通部件32与气源连接，第一导向管31相对较大的一端用于在排气管2内形成气流保护层。

如图1A至图2所示，第一吹扫组件3包括有第一导向管31及第一连通部件32，其中第一导向管31设置于排气管2内，并且第一导向管31的轴向与排气管2的轴向平行设置，用于在排气管2形成气流保护层，第一连通部件32穿设于排气管2的周壁上，并且一端与第一导向管31连接，另一端可以与气源连接，用于向第一导向管31内通入稀释气体。具体来说，第一导向管31可以采用倒置圆台结构，第一导向管31相对较小的一端靠近排气管2的进气端设置，即第一导向管31的相对较小的一端位于底部，第一连通部件32可以与该相对较小的一端连接；而第一导向管31相对较大的一端靠近排气管2的排气端设置，即第一导向管31相对较大的一端位于顶部。由于第一导向管31采用圆台结构，因此第一导向管31相对较大的一端能在排气管2内形成扇形的气流保护层，不仅能防止第二吹扫组件4通入的稀释气体倒灌入工艺腔室1内，而且也能防止第一吹扫组件3通入的稀释气体倒灌入工艺腔室1内，从而避免对工艺腔室1造成污染以及提高工艺结果；并且采用上述设计还能使得本申请实施例结构简单，从而降低应用及维护成本。

需要说明的是，本申请实施例并不限定第一导向管31的具体结构，例如第一导向管31顶端封闭，并且周壁上可以开设有沿周向延伸的缝隙，从而实现在排气管2内形成气流保护层。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A、图1B及图3所示，第二吹扫组件4包括有第二导向管41及第二连通部件42，第二导向管41设置于排气管2内，并且沿排气管2的轴向延伸设置；第二导向管41的一端为封闭结构，另一端通过第二连通部件42与气源连接，并且第二导向管41的周壁上具有导流结构411，用于使第二导向管41的出气方向与排气方向之间呈预设夹角。

如图1A、图1B及图3所示，第二吹扫组件4包括有第二导向管41及第二连通部件42，其中第二导向管41设置于排气管2内，并且第二导向管41的轴向与排气管2的轴向平行设置，用于向排气管2通入稀释气体并进行导向。第二连通部件42穿设于排气管2的周壁上，并且一端与第二导向管41连接，另一端可以与气源连接，用于向第二导向管41内通入稀释气体。具体来说，第二导向管41的顶端采用封闭结构设置，而第二导向管41的底端与第二连通部件42连通设置，即第二导向管41的一端为封闭结构，另一端通过第二连通部件42与气源连接。第二导向管41的周壁可以贯穿有导流结构411，该导流结构411用于使第二导向管41的出气方向与排气管2的排气方向之间形成预设夹角。采用上述设计，避免第二导向管41顶部为开放状态时对排气管2内的气流进行加速，避免第二导向管41在排气管2内形成负腔，从而避免工艺腔室1的压力环境波动，进而提高工艺结果；并且采用上述设计，还能使得本申请实施例结构简单，从而大幅降低应用及维护成本。

需要说明的是，本申请实施例并不限定第二导向管41的具体结构，例如第二导向管41可以采用与第一导向管31相同的结构。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A至图4所示，第二连通部件42位于第二导向管41与第一导向管31之间，并且第二连通部件42与第一导向管31相对较大的一端之间具有第一间距；第一导向管31较大的一端沿周壁倾斜方向与排气管2内周壁之间具有第二间距，第一间距大于第二间距。

如图1A至图4所示，第二连通部件42位于第二导向管41与第一导向管31之间，即第二连通部件42与第二导向管41的底部连接。第二连通部件42的底面与第一导向管31的顶面之间可以具有第一间距，即第二连通部件42的底面与第一导向管31相对较大的一端之间具第一间距。第一导向管31的顶端与排气管2的内周壁之间具有第二间距，并且该第二间距为第一导向管31的周壁倾斜方向上，第一导向管31顶端与排气管2的内周壁之间的间距，即第一导向管31较大的一端沿周壁倾斜方向与排气管2内周壁之间具有第二间距。具体来说，可以将第一导向管31设置于排气管2的中部位置，而第二导向管41可以设置于排气管2的中上部位置，由于第一间距大于第二间距，使得靠近第一导向管31的第二连通部件42可以在气流保护层的上方，即第二连通部件42可以位于扇形的气流保护层外侧，以进一步提高防倒灌的效果，从而进一步提高工艺结果。

需要说明的是，本申请实施例并不限定第一间距及第二间距的具体数值，两者的具体数据均可以对应于第一吹扫组件3、第二吹扫组件4及排气管2的具体规格设置。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A、图1B及图3所示，导流结构411的出气方向沿排气管2的径向设置，以使预设夹角呈90度；或者，导流结构411的出气方向朝向排气端的方向倾斜，以使预设夹角为小于90度。具体来说，导流结构411可以沿排气管2的径向设置，并且贯穿于第二导向管41的周壁上，由于第二导向管41的轴向与排气管2的轴向平行设置，因此导流结构411沿第二导向管41的径向贯穿设置，从而使得第二导向管41的出气方向与排气管2的排气方向之间的预设夹角呈90度。采用上述设计，使得本申请实施例进一步减缓排气管2内气体流速，从而进一步降低对工艺腔室1压力环境造成影响，以进一步提高工艺结果。可选的，导流结构411贯穿第二导向管41的周壁时，与第二导向管41的径向之间呈预设夹角，并且可以朝向排气管2的排气端所在的方向倾斜，以使得导流结构411的出气方向与排气方向呈小于90度的夹角，防止第二导向管41影响排气管2的排气效率，从而提高本申请实施例的适用性及适用范围。

需要说明的是，本申请实施例并不限定预设夹角的具体数值，该预设夹角的具体数据可以对应排气管2的流速设置。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图5A至图5C所示，导流结构411的开口总面积为第一面积，第二导向管41的导向通道的横截面积为第二面积，第一面积大于等于第二面积。具体来说，由于导流结构411贯穿于第二导向管41的周壁上，因此导流结构411的开口总面积可以定义为第一面积。第二导向管41的导向通道的横截面积可以定义为第二面积，即第二导向管41的内圆面积为第二面积。于本申请的一实施例中，第二导向管41的内圆的直径可以设置为10.92mm，面积为93.66mm²，即第二面积为93.66mm²；第一面积可以设置为117.81mm²，即导流结构411的开口总面积为117.81mm²，并且第一面积大于第二面积。采用上述设计，可以避免导流结构411影响出气流畅度的问题发生，从而对工艺气体中的特殊气体较好的稀释，进而提高本申请实施例的安全性。

需要说明的是，本申请实施例并不限定第一面积及第二面积的具体数值，只要第一面积大于第二面积即可。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图5A至图5C所示，导流结构411包括有开设于第二导向管41周壁上的多个导流孔412，多个导流孔412对称的开设于第二导向管41的周壁上，并且多个导流孔412沿第二导向管41的轴向均匀排布。具体来说，第二导向管41的周壁上开设有六个圆形的导流孔412，六个导流孔412分为两列且分别位于第二导向管41相对的两侧上，并且每列中的三个导流孔412沿第二导向管41的轴向均匀间隔设置，从而提高第二导向管41的气流均匀性。可选地，当第二导向管41的内圆直径设置为10.92mm时，六个导流孔412的直径可以设置5mm，六个导流孔412的开口总面积为117.81mm²,即第一面积为117.81mm²。采用上述设计，不仅能使得本申请实施结构简单易于实现，从而大幅降低本申请实施例的应用及维护成本。

需要说明的是，本申请实施例并不限定导流孔412的具体结构，例如导流孔412可以采用矩形及椭圆形结构，并且可以采用沿第二导向管41的周向及轴向均匀且间隔排布即可。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A、图1B、图6A至图6C所示，第一导向管31相对较大的一端沿轴向的正投影面积为第三面积，排气管2的排气通道的横截面积为第四面积，第三面积小于等于第四面积的二分之一。具体来说，第一导向管31的顶端外圆面积可以定义为第三面积，即第一导向管31相对较大的一端沿其自身轴向的正投影面积定义为第三面积。排气管2的内圆面积可以定义为第四面积，即排气管2的排气通道的横截面积定义为第四面积。在实际应用时，第三面积可以小于第四面积，并且具体的第三面积可以小于等于第四面积的二分之一，即第三面积可以为第四面积的二分之一，或者第三面积小于第四面积的二分之一。采用上述设计，由于第一导向管相对较大一端的面积小于排气管2内的排气通道的横截面面积，可以避免第一导向管31影响排气管2内气流速度，从而确保排气管2的排气效率。

需要说明的是，本申请实施例并不限定第三面积及第四面积的具体数值，只要确保第一导向管31不影响排气管2的排气效率即可。因此本申请实施例并不以此为限，本领域技术人员可以根据实际情况自行调整设置。

于本申请的一实施例中，如图1A至图2所示，第一连通部件32包括有第一转向块321及第一连通管322，第一转向块321设置于排气管2内，并且相邻两侧面分别用于连接第一导向管31及第一连通管322；第一连通管322的一端与第一转向块321连接，另一端位于排气管2外侧用于连接气源。具体来说，第一转向块321具体形状可以为正方体结构，第一转向块321两相邻的侧面上开设有相互连通的开口，并且位于第一转向块321顶部侧面的开口与第一导向管31连通设置，以及位于第一转向块321左部侧面上的开口与第一连通管322连通设置。第一连通管322穿设于排气管2的周壁，并且沿排气管2的径向延伸设置，第一连通管322可以用于与一气源连接。采用上述设计，由于在第一连通管322与第一导向管31之间设置有第一转向块321，使得第一连通管322与第一导向管31连接处内径保持一致，从而使得第一吹扫组件3的气流更加流畅；并且还能使得本申请实施例结构简单，从而进一步降低应用及维护成本。

于本申请的一实施例中，如图1A、图1B及图3所示，第二连通部件42包括有第二转向块421及第二连通管422，第二转向块421设置于排气管2内，并且相邻两侧面分别用于连接第二导向管41及第二连通管422；第二连通管422的一端与第二转向块421连接，另一端位于排气管2外侧用于连接气源。具体来说，第二转向块421具体形状可以为正方体结构，第二转向块421两相邻的侧面上开设有相互连通的开口，并且位于第二转向块421顶部侧面的开口与第二导向管41连通设置，以及位于第二转向块421左部侧面上的开口与第二连通管422连通设置。第二连通管422穿设于排气管2的周壁，并且沿排气管2的径向延伸设置，第二连通管422可以用于与一气源连接。采用上述设计，由于在第二连通管422与第二导向管41之间设置有第二转向块421，使得第二连通管422与第二导向管41连接处内径保持一致，从而使得第二吹扫组件4的气流更加流畅；并且还能使得本申请实施例结构简单，从而进一步降低应用及维护成本。

应用本申请实施例，至少能够实现如下有益效果：

可以理解的是，以上实施方式仅仅是为了说明本实用新型的原理而采用的示例性实施方式，然而本实用新型并不局限于此。对于本领域内的普通技术人员而言，在不脱离本实用新型的精神和实质的情况下，可以做出各种变型和改进，这些变型和改进也视为本实用新型的保护范围。

在本申请的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，除非另有说明，“多个”的含义是两个或两个以上。

在本申请的描述中，需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

在本说明书的描述中，具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上所述仅是本申请的部分实施方式，应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本申请原理的前提下，还可以做出若干改进和润饰，这些改进和润饰也应视为本申请的保护范围。

Claims

1.一种半导体工艺设备，其特征在于，包括；工艺腔室、排气管、第一吹扫组件及第二吹扫组件；

所述排气管的进气端与所述工艺腔室连接，所述排气管的排气端与厂务排气连接，用于排出所述工艺腔室内的工艺气体；

所述第一吹扫组件及所述第二吹扫组件沿所述排气管的排气方向依次设置，用于向所述排气管内通入稀释气体，以对所述工艺气体进行稀释，所述第二吹扫组件的出气方向与所述排气方向之间呈一预设夹角；

所述第一吹扫组件还用于在所述排气管内形成一气流保护层，所述气流保护层位于所述第一吹扫组件及所述第二吹扫组件之间，用于阻挡所述第二吹扫组件通入的稀释气体进入所述工艺腔室内。

2.如权利要求1所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第一吹扫组件包括有第一导向管及第一连通部件，所述第一导向管设置于所述排气管内，并且沿所述排气管的轴向延伸设置；所述第一导向管为圆台结构；所述第一导向管相对较小的一端靠近所述进气端设置，并且通过所述第一连通部件与气源连接，所述第一导向管相对较大的一端用于在所述排气管内形成所述气流保护层。

3.如权利要求2所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第二吹扫组件包括有第二导向管及第二连通部件，所述第二导向管设置于所述排气管内，并且沿所述排气管的轴向延伸设置；所述第二导向管的一端为封闭结构，另一端通过所述第二连通部件与气源连接，并且所述第二导向管的周壁上具有导流结构，用于使所述第二导向管的出气方向与所述排气方向之间呈所述预设夹角。

4.如权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第二连通部件位于所述第二导向管与所述第一导向管之间，并且所述第二连通部件与所述第一导向管相对较大的一端之间具有第一间距；所述第一导向管较大的一端沿周壁倾斜方向与所述排气管内周壁之间具有第二间距，所述第一间距大于所述第二间距。

5.如权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述导流结构的出气方向沿所述排气管的径向设置，以使所述预设夹角呈90度；或者，所述导流结构的出气方向朝向所述排气端的方向倾斜，以使所述预设夹角为小于90度。

6.如权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述导流结构的开口总面积为第一面积，所述第二导向管的导向通道的横截面积为第二面积，所述第一面积大于等于第二面积。

7.如权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述导流结构包括有开设于所述第二导向管周壁上的多个导流孔，多个所述导流孔对称的开设于所述第二导向管的周壁上，并且多个所述导流孔沿所述第二导向管的轴向均匀排布。

8.如权利要求2所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第一导向管相对较大的一端沿轴向的正投影面积为第三面积，所述排气管的排气通道的横截面积为第四面积，所述第三面积小于等于所述第四面积的二分之一。

9.如权利要求2所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第一连通部件包括有第一转向块及第一连通管，所述第一转向块设置于所述排气管内，并且相邻两侧面分别用于连接所述第一导向管及所述第一连通管；所述第一连通管的一端与所述第一转向块连接，另一端位于所述排气管外侧用于连接气源。

10.如权利要求3所述的半导体工艺设备，其特征在于，所述第二连通部件包括有第二转向块及第二连通管，所述第二转向块设置于所述排气管内，并且相邻两侧面分别用于连接所述第二导向管及所述第二连通管；所述第二连通管的一端与所述第二转向块连接，另一端位于所述排气管外侧用于连接气源。