CN216679651U - 一种磁控溅射靶材的新型矫直机构 - Google Patents
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Abstract
本实用新型提供一种磁控溅射靶材的新型矫直机构;包括机箱,机箱的顶部通过螺栓安装有支撑架,支撑架的顶部通过螺栓安装有顶板,顶板上安装有矫正机构,矫正机构包括有液压伸缩杆,液压伸缩杆的输出端连接有升降板,升降板的底部卡接有矫直架二,机箱的顶部通过螺栓安装有底座,底座的顶部设置有矫直架一,机箱的顶部设置有输送机构,矫直架二的顶部通过螺栓安装有卡接块。本实用新型能对磁控溅射靶材进行快速矫直,提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率,能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触,能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构上,满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送,满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。
Description
技术领域
本实用新型具体涉及磁控溅射靶材技术领域,尤其是一种磁控溅射靶材的新型矫直机构。
背景技术
磁控溅射是物理气相沉积的一种。一般的溅射法可被用于制备金属、半导体、绝缘体等多材料,且具有设备简单、易于控制、镀膜面积大和附着力强等优点,溅射靶材的要求较传统材料行业高,一般要求如,尺寸、平整度、纯度、各项杂质含量、密度、N/O/C/S、晶粒尺寸与缺陷控制;较高要求或特殊要求包含:表面粗糙度、电阻值、晶粒尺寸均匀性、成份与组织均匀性、异物(氧化物)含量与尺寸、导磁率、超高密度与超细晶粒等等,磁性溅射靶材为圆柱形时需要对其进行矫直。
现有技术中的磁控溅射靶材矫直机构,存在以下问题:不能对磁控溅射靶材进行快速矫直,对磁控溅射靶材矫直的质量和效率相对较差,不能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构上,不满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送,不能相对较好的满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。因此,亟需设计一种磁控溅射靶材的新型矫直机构来解决上述问题。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,适应现实需要,提供一种磁控溅射靶材的新型矫直机构。
为了实现本实用新型的目的,本实用新型所采用的技术方案为:
设计一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,包括机箱,所述机箱的顶部通过螺栓安装有支撑架,所述支撑架的顶部通过螺栓安装有顶板,所述顶板上安装有矫正机构,所述矫正机构包括有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的输出端连接有升降板,所述升降板的底部卡接有矫直架二,所述机箱的顶部通过螺栓安装有底座,所述底座的顶部设置有矫直架一,所述机箱的顶部设置有输送机构。
所述矫直架二的顶部通过螺栓安装有卡接块,所述升降板的底部开有卡接槽,且卡接块卡接在卡接槽的内部。
所述矫直架一的底部焊接有插接杆,所述底座的顶部开有插接槽,且插接杆插接在插接槽的内部。
所述升降板的顶部焊接有导向杆一,所述顶部的顶部开有导向孔一,且导向杆一滑动插接在导向孔一的内部。
所述输送机构包括有电动伸缩杆、升降架和输送架,且电动伸缩杆通过螺栓安装在顶板的顶部,所述输送架通过螺栓安装在机箱的顶部。
所述输送架的正面通过螺栓安装有正反转电机,所述输送架的内部转动连接有若干送料辊,且其中一个送料辊的一端固定在正反转电机的输出端上。
所述升降架的顶部焊接有导向杆二,所述顶部的顶部开有导向孔二,且导向杆二滑动插接在导向孔二内。
本实用新型的有益效果在于:
(1)本设计利用矫正机构和矫直架一,矫正机构内的液压伸缩杆能带动升降板和矫直架二升降,矫直架二与矫直架一配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直,提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率。
(2)本设计利用输送机构,输送机构内的电动伸缩杆能带动升降架和辅助辊升降,能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触,正反转电机带动其中一个送料辊转动,能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构上,满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送。
(3)本设计利用卡接块、卡接槽、插接杆和插接槽,卡接块能卡接在卡接槽的内部,不仅便于安装矫直架二,同时便于更换不同型号的矫直架二,插接杆插接在插接槽的内部,不仅便于安装矫直架一,同时便于更换不同型号的矫直架一,满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。
(4)本设计利用导向杆、导向孔、接料架和接料辊,导向杆滑动插接在导向孔的内部,导向杆一和导向杆二能分别对升降板和升降架起到导向作用,提高升降板和升降架升降时的稳定性,接料架上的接料辊能对矫直之后的磁控溅射靶材进行承接,并且平稳输出。
附图说明
图1为本设计中的整体结构示意图;
图2为本设计中的矫正机构示意图;
图3为本设计中的底座示意图;
图4为本设计中的输送机构示意图;
图5为本设计中的接料架结构示意图。
图中:1机箱、2支撑架、3顶板、4矫正机构、5底座、6矫直架一、7输送机构、 8液压伸缩杆、9升降板、10矫直架二、11卡接槽、12卡接块、13导向孔一、14导向杆一、15插接槽、16插接杆、17电动伸缩杆、18升降架、19辅助辊、20导向孔二、 21导向杆二、22输送架、23正反转电机、24送料辊、25接料架、26接料辊。
具体实施方式
下面结合附图和实施例对本实用新型进一步说明:
实施例一
一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,参见图1至图4,包括机箱1,机箱1的顶部通过螺栓安装有支撑架2,支撑架2的顶部通过螺栓安装有顶板3,顶板3上安装有矫正机构4,矫正机构4包括有液压伸缩杆8,液压伸缩杆8能带动升降板9和矫直架二 10升降,液压伸缩杆8的输出端连接有升降板9,升降板9的底部卡接有矫直架二10,机箱1的顶部通过螺栓安装有底座5,底座5的顶部设置有矫直架一6,矫直架二10与矫直架一6配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直,提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率。
进一步的,本设计中,矫直架二10的顶部通过螺栓安装有卡接块12,升降板9的底部开有卡接槽11,且卡接块12卡接在卡接槽11的内部,不仅便于安装矫直架二10,同时便于更换不同型号的矫直架二10;矫直架一6的底部焊接有插接杆16,底座5的顶部开有插接槽15,且插接杆16插接在插接槽15的内部,不仅便于安装矫直架一5,同时便于更换不同型号的矫直架一5,满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直;升降板9的顶部焊接有导向杆一14,顶部3的顶部开有导向孔一13,且导向杆一14滑动插接在导向孔一13的内部,导向杆一14能对升降板9起到导向作用,提高升降板9 升降时的稳定性。
进一步的,本设计中,机箱1的顶部设置有输送机构7,输送机构7包括有电动伸缩杆17、升降架18和输送架22,且电动伸缩杆17通过螺栓安装在顶板3的顶部,电动伸缩杆17能带动升降架18和辅助辊19升降,能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触,输送架22通过螺栓安装在机箱1的顶部;输送架22的正面通过螺栓安装有正反转电机23,正反转电机23带动其中一个送料辊24转动,能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构4上,满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送,输送架22的内部转动连接有若干送料辊24,且其中一个送料辊24的一端固定在正反转电机23的输出端上;升降架 18的顶部焊接有导向杆二21,顶部3的顶部开有导向孔二20,且导向杆二21滑动插接在导向孔二20内,导向杆二21能对升降架18起到导向作用,提高升降架18升降时的稳定性。
实施例二
如图5所示,本实施例为磁控溅射靶材的新型矫直机构,其基本结构与实施例一基本相同。
本实施例与实施例一不同之处在于,机箱1顶部通过螺栓安装有接料架25,接料架25的内部转动连接有接料辊26,接料辊26能对矫直之后的磁控溅射靶材进行承接,并且平稳输出。
综上所述本实用新型的工作原理为:使用时,将磁控溅射靶材放置到输送辊24上,启动电动伸缩杆17,电动伸缩杆17能带动升降架18和辅助辊19升降,能对输送的磁控溅射靶材进行轻微接触,然后启动正反转电机23,正反转电机23带动其中一个送料辊24转动,能将磁控溅射靶材稳定输送至矫正机构4上,满足不同粗细的磁控溅射靶材进行输送,当电动伸缩杆17输送至矫直架一6内时,启动液压伸缩杆8,液压伸缩杆8能带动升降板9和矫直架二10升降,矫直架二10与矫直架一6配合能对磁控溅射靶材进行快速矫直,提高对磁控溅射靶材矫直的质量和效率,采用的卡接块12能卡接在卡接槽11的内部,不仅便于安装矫直架二10,同时便于更换不同型号的矫直架二10,插接杆16插接在插接槽15的内部,不仅便于安装矫直架一5,同时便于更换不同型号的矫直架一5,满足对不同粗细规格的磁控溅射靶材进行矫直。
本实用新型的实施例公布的是较佳的实施例,但并不局限于此,本领域的普通技术人员,极易根据上述实施例,领会本实用新型的精神,并做出不同的引申和变化,但只要不脱离本实用新型的精神,都在本实用新型的保护范围内。
Claims (7)
1.一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,包括机箱,其特征在于,所述机箱的顶部通过螺栓安装有支撑架,所述支撑架的顶部通过螺栓安装有顶板,所述顶板上安装有矫正机构,所述矫正机构包括有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的输出端连接有升降板,所述升降板的底部卡接有矫直架二,所述机箱的顶部通过螺栓安装有底座,所述底座的顶部设置有矫直架一,所述机箱的顶部设置有输送机构。
2.如权利要求1所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述矫直架二的顶部通过螺栓安装有卡接块,所述升降板的底部开有卡接槽,且卡接块卡接在卡接槽的内部。
3.如权利要求2所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述矫直架一的底部焊接有插接杆,所述底座的顶部开有插接槽,且插接杆插接在插接槽的内部。
4.如权利要求3所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述升降板的顶部焊接有导向杆一,所述顶部的顶部开有导向孔一,且导向杆一滑动插接在导向孔一的内部。
5.如权利要求4所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述输送机构包括有电动伸缩杆、升降架和输送架,且电动伸缩杆通过螺栓安装在顶板的顶部,所述输送架通过螺栓安装在机箱的顶部。
6.如权利要求5所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述输送架的正面通过螺栓安装有正反转电机,所述输送架的内部转动连接有若干送料辊,且其中一个送料辊的一端固定在正反转电机的输出端上。
7.如权利要求6所述的一种磁控溅射靶材的新型矫直机构,其特征在于:所述升降架的顶部焊接有导向杆二,所述顶部的顶部开有导向孔二,且导向杆二滑动插接在导向孔二内。
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