CN216634806U - 陶瓷上釉处理装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了陶瓷上釉处理装置，属于陶瓷加工技术领域，包括底座，所述底座上设有储釉槽，所述底座上固定连接有第一连接柱，所述第一连接柱内设有电机和减速器，所述电机与减速器相连接，所述第一连接柱顶部转动连接有第二连接柱，所述减速器与第二连接柱相连接，所述第一连接柱侧面固定连接有控制器；所述第二连接柱的侧面固定连接有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的前端底面固定连接有第二伸缩杆，所述第二伸缩杆的底面固定连接有吸附块；通过电机与减速器的相互配合，避免第二连接柱旋转过快，产生安全问题；通过第二连接柱、第一伸缩杆、第二伸缩杆和吸附块的相互配合，实现陶瓷的自动化上釉，提高上釉的效率。

Description

陶瓷上釉处理装置

技术领域

本实用新型属于陶瓷加工技术领域，具体是陶瓷上釉处理装置。

背景技术

陶瓷是由高岭土经过制浆、制坯、修坯、速烧、上釉等工艺流程制成的一种器物，其中上釉操作是较为重要的环节，釉浆的均匀程度将直接影响陶瓷成型后的品质。

公开号为CN211941389U的实用新型公开了一种上釉均匀的陶瓷上釉装置，包括固定安装在放置台内的驱动电机，所述驱动电机的输出端固定连接有转杆，且转杆上固定安装有托盘，所述放置台上固定安装有立柱，所述立柱上设有滑槽，且滑槽内转动连接有调节螺杆一，所述调节螺杆一上螺纹连接有滑块，且滑块上固定安装有喷头，所述放置台的侧壁固定安装有置釉箱，且置釉箱与喷头之间连接有连接软管，所述立柱上固定安装有安装块，且安装块上转动连接有安装板。

但是上述专利在实施时，因为陶瓷是放置在托盘上的，这将会使得在进行喷釉时，陶瓷底部并不能上釉，而且在喷釉的过程中极易将陶瓷表面使用的釉喷到陶瓷内部去，使陶瓷内部产生污染；因此本实用新型提出陶瓷上釉处理装置，解决陶瓷上釉不均匀的问题。

实用新型内容

为了解决上述方案存在的问题，本实用新型提供了陶瓷上釉处理装置。

本实用新型的目的可以通过以下技术方案实现：

陶瓷上釉处理装置，包括底座，所述底座上设有储釉槽，所述底座上固定连接有第一连接柱，所述第一连接柱内设有电机和减速器，所述电机与减速器相连接，所述第一连接柱顶部转动连接有第二连接柱，所述减速器与第二连接柱相连接，所述第一连接柱侧面固定连接有控制器；

所述第二连接柱的侧面固定连接有第一伸缩杆，所述第一伸缩杆的前端底面固定连接有第二伸缩杆，所述第二伸缩杆的底面固定连接有吸附块。

进一步地，所述底座为凸形。

进一步地，所述底座侧面设有出液口，所述出液口与储釉槽相连通。

进一步地，所述第一连接柱和第二连接柱均为圆柱形。

进一步地，所述控制器分别与电机和减速器电性连接。

进一步地，所述第一伸缩杆、第二伸缩杆和吸附块均为圆柱形。

进一步地，所述控制器分别与第一伸缩杆、第二伸缩杆和吸附块电性连接。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：通过电机与减速器的相互配合，避免第二连接柱旋转过快，产生安全问题；通过第二连接柱、第一伸缩杆、第二伸缩杆和吸附块的相互配合，实现陶瓷的自动化上釉，提高上釉的效率，降低生产成本；通过采用将陶瓷直接浸入储釉槽的方式，解决上釉不均匀的问题。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型整体结构示意图；

图2为本实用新型俯视图；

图3为本实用新型侧视图。

图中：1、底座；2、储釉槽；3、第一连接柱；4、第二连接柱；5、第一伸缩杆；6、第二伸缩杆；7、吸附块；8、控制器。

具体实施方式

下面将结合实施例对本实用新型的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

如图1-3所示，陶瓷上釉处理装置，包括底座1，所述底座1为凸形，所述底座1上设有储釉槽2，所述底座1侧面设有出液口，所述出液口与储釉槽2相连通；储釉槽2可以是圆形、矩形、椭圆形等规则形状，所述底座1上固定连接有第一连接柱3，所述第一连接柱3内设有电机和减速器，所述电机与减速器相连接，所述第一连接柱3顶部转动连接有第二连接柱4，所述减速器与第二连接柱4相连接；具体的连接方式为第一连接柱3和第二连接柱4的连接处设有滑槽和滑块，滑槽和滑块之间相互配合，滑槽和滑块分别设置在第一连接柱3和第二连接柱4上，具体的是滑槽设置在第一连接柱3或者第二连接柱4上都可以，只要滑槽和滑块分开设置即可；所述第一连接柱3和第二连接柱4均为圆柱形；所述第一连接柱3侧面固定连接有控制器8，所述控制器8分别与电机和减速器电性连接；

所述第二连接柱4的侧面固定连接有第一伸缩杆5，所述第一伸缩杆5的前端底面固定连接有第二伸缩杆6，上述提及的前端底面指的是远离第二连接柱4的一端，这是为了实现当第一伸缩杆5伸缩时，可以带动连接在第一伸缩杆5上的第二伸缩杆6移动；所述第二伸缩杆6的底面固定连接有吸附块7，吸附块7用于吸附陶瓷，主要是吸附在陶瓷内部的底面，所述第一伸缩杆5、第二伸缩杆6和吸附块7均为圆柱形；

所述控制器8分别与第一伸缩杆5、第二伸缩杆6和吸附块7电性连接。

本实用新型的工作原理：使用时将本实用新型和其他传送装置进行组合，通过控制器8控制第一伸缩杆5和第二伸缩杆6伸缩，使得吸附块7接触陶瓷内的底部，控制吸附块7吸附住陶瓷，调整第一伸缩杆5和第二伸缩杆6，确保第二连接柱4在旋转时，第一伸缩杆5和第二伸缩杆6不会碰触到东西，控制第二连接柱4旋转，并带动第一伸缩杆5和第二伸缩杆6旋转，当吸附块7位于储釉槽2上方时，停止第二连接柱4的旋转，控制第一伸缩杆5和第二伸缩杆6伸缩，使得陶瓷浸入储釉槽2，将陶瓷表边进行上釉，完成上釉后，调整第一伸缩杆5和第二伸缩杆6，控制第二连接柱4旋转，带动第一伸缩杆5和第二伸缩杆6旋转，将陶瓷放置在指定位置，停止吸附块7对陶瓷的吸附。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“中心”、“纵向”、“横向”、“长度”、“宽度”、“厚度”、“上”、“下”、“前”、“后”、“左”、“右”、“竖直”、“水平”、“顶”、“底”、“内”、“外”、“顺时针”、“逆时针”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的设备或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

此外，术语“第一”、“第二”仅用于描述目的，而不能理解为指示或暗示相对重要性或者隐含指明所指示的技术特征的数量。由此，限定有“第一”、“第二”的特征可以明示或者隐含地包括一个或者更多个该特征。在本实用新型的描述中，“多个”的含义是两个或两个以上，除非另有明确具体的限定。

以上内容仅仅是对本实用新型结构所做的举例和说明，所属本技术领域的技术人员对所描述的具体实施例做各种各样的修改或补充或采用类似的方式替代，只要不偏离实用新型的结构或者超越本权利要求书所定义的范围，均应属于本实用新型的保护范围。

Claims (7)

1.陶瓷上釉处理装置，包括底座(1)，其特征在于，所述底座(1)上设有储釉槽(2)，所述底座(1)上固定连接有第一连接柱(3)，所述第一连接柱(3)内设有电机和减速器，所述电机与减速器相连接，所述第一连接柱(3)顶部转动连接有第二连接柱(4)，所述减速器与第二连接柱(4)相连接，所述第一连接柱(3)侧面固定连接有控制器(8)；

所述第二连接柱(4)的侧面固定连接有第一伸缩杆(5)，所述第一伸缩杆(5)的前端底面固定连接有第二伸缩杆(6)，所述第二伸缩杆(6)的底面固定连接有吸附块(7)。

2.根据权利要求1所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述底座(1)为凸形。

3.根据权利要求1所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述底座(1)侧面设有出液口，所述出液口与储釉槽(2)相连通。

4.根据权利要求1所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述第一连接柱(3)和第二连接柱(4)均为圆柱形。

5.根据权利要求1所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述控制器(8)分别与电机和减速器电性连接。

6.根据权利要求1所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述第一伸缩杆(5)、第二伸缩杆(6)和吸附块(7)均为圆柱形。

7.根据权利要求6所述的陶瓷上釉处理装置，其特征在于，所述控制器(8)分别与第一伸缩杆(5)、第二伸缩杆(6)和吸附块(7)电性连接。

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