CN216573337U - 一种cmp研磨机的吸盘结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种CMP研磨机的吸盘结构，属于研磨机技术领域，技术要点包括安装座，所述安装座的顶部固定连接有两个支杆，两个所述支杆之间的顶部固定连接有固定台，所述固定台的顶部开设有放置槽，所述固定台的内部开设以后内腔，所述固定台的内部开设有沿放置槽的圆心向外扩散分布的孔组。该实用新型本方案通过将硅片放置在放置槽的内部，然后启动小型气泵将密封盒内部空气抽出，密封盒将内腔内部以及调节闭合机构内部的空气抽出，使得整个内腔的内部以及调节闭合机构的内部形成负压在通过孔组对硅片进行吸附固定，从而实现了装置可以实现对吸盘的气压进行调节，保护硅片不受损伤，并且可以快速地对硅片进行居中定位的优点。

Description

一种CMP研磨机的吸盘结构

技术领域

本实用新型涉及研磨机技术领域，更具体地说，涉及一种CMP研磨机的吸盘结构。

背景技术

硅片常用在航空、航天、工业、医学、农业、家电等领域中，用硅片制成的芯片是有名的“神算子”，有着惊人的运算能力，硅片在进行加工过程中需要CMP研磨机进行抛光平整处理，保持硅片的光滑平整。

目前现有的CMP研磨在对硅片研磨时通常使用气动吸盘对硅片进行固定，但是现有的吸盘无法进行气压调节，容易发生固定不稳或者吸力过大导致硅片损坏的情况，并且在对于不同直径的硅片进行打磨时，不能够快速地将硅片进行居中定位固定，使用不便，因此我们提出一种CMP研磨机的吸盘结构用以解决以上问题。

实用新型内容

针对现有技术中存在的问题，本实用新型的目的在于提供一种CMP研磨机的吸盘结构。

为实现上述目的，本实用新型采用如下的技术方案。

一种CMP研磨机的吸盘结构，包括安装座，所述安装座的顶部固定连接有两个支杆，两个所述支杆之间的顶部固定连接有固定台，所述固定台的顶部开设有放置槽，所述固定台的内部开设以后内腔，所述固定台的内部开设有沿放置槽的圆心向外扩散分布的孔组，所述孔组的顶部与底部分别与放置槽和内腔相连通，所述孔组的底部均设置有调节闭合机构，所述固定台的底部固定连接有密封盒和小型气泵，所述密封盒的左侧与小型气泵的输入端电性连接，所述密封盒的顶部与内腔相连通。

作为上述技术方案的进一步描述：所述调节闭合机构包括环形管、两个连接管和电磁阀，所述环形管的顶部固定连接至内腔的内部，所述环形管与其顶部对应的孔组相连通，所述环形管的底部与两个连接管固定连接，两个所述连接管的底端均与电磁阀固定连接。

作为上述技术方案的进一步描述：所述固定台的内部螺纹连接有四个螺纹杆，四个所述螺纹杆分别位于固定台四周的中间位置，四个所述螺纹杆相对的一端均延伸至放置槽的内部，四个所述螺纹杆位于放置槽内部的一端均转动连接有弧形推块，四个所述弧形推块均滑动连接至放置槽的内部，四个所述弧形推块为同一个圆上截取的四个弧度相等的圆弧。

作为上述技术方案的进一步描述：所述放置槽的内部固定连接有垫块，所述垫块的内部开设有与孔组相对应的通孔。

作为上述技术方案的进一步描述：所述密封盒的内部固定连接有气压传感器，所述固定台的右侧固定连接有PLC控制器，所述气压传感器的输出端与PLC控制器的输入端电性连接。

作为上述技术方案的进一步描述：所述安装座的四周分别固定连接有安装耳板，所述安装耳板的内部均开设有螺纹孔。

相比于现有技术，本实用新型的优点在于：

本方案通过安装座将装置固定在CMP研磨机上，然后将硅片放置在放置槽的内部，然后启动小型气泵将密封盒内部空气抽出，密封盒将内腔内部以及调节闭合机构内部的空气抽出，使得整个内腔的内部以及调节闭合机构的内部形成负压在通过孔组对硅片进行吸附固定，并且可以根据硅片的大小选择性关闭与硅片不接触的孔组底部对于的调节闭合机构，以实现装置对硅片的吸附力始终保持在硅片的承受范围之内，并且在固定直径不同的时方便对其进行居中固定，从而实现了装置可以实现对吸盘的气压进行调节，保护硅片不受损伤，并且可以快速地对硅片进行居中定位的优点。

附图说明

图1为本实用新型的正视立体结构示意图；

图2为本实用新型的正视剖面结构示意图；

图3为图2中A部结构放大示意图；

图4为本实用新型的俯视剖面结构示意图。

图中标号说明：

1、安装座；2、支杆；3、固定台；31、螺纹杆；32、弧形推块；33、PLC控制器；4、放置槽；41、垫块；5、内腔；6、孔组；7、调节闭合机构；71、环形管；72、连接管；73、电磁阀；8、密封盒；81、气压传感器；9、小型气泵；10、安装耳板；101、螺纹孔。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述；

请参阅图1～4，本实用新型中，一种CMP研磨机的吸盘结构，包括安装座1，安装座1的顶部固定连接有两个支杆2，两个支杆2之间的顶部固定连接有固定台3，固定台3的顶部开设有放置槽4，固定台3的内部开设以后内腔5，固定台3的内部开设有沿放置槽4的圆心向外扩散分布的孔组6，孔组6的顶部与底部分别与放置槽4和内腔5相连通，孔组6的底部均设置有调节闭合机构7，固定台3的底部固定连接有密封盒8和小型气泵9，密封盒8的左侧与小型气泵9的输入端电性连接，密封盒8的顶部与内腔5相连通。

本实用新型中，通过安装座1将装置固定在CMP研磨机上，然后将硅片放置在放置槽4的内部，然后启动小型气泵9将密封盒8内部空气抽出，密封盒8将内腔5内部以及调节闭合机构7内部的空气抽出，使得整个内腔5的内部以及调节闭合机构7的内部形成负压在通过孔组6对硅片进行吸附固定，并且可以根据硅片的大小选择性关闭与硅片不接触的孔组6底部对于的调节闭合机构7，以实现装置对硅片的吸附力始终保持在硅片的承受范围之内，并且在固定直径不同的时方便对其进行居中固定，从而实现了装置可以实现对吸盘的气压进行调节，保护硅片不受损伤，并且可以快速地对硅片进行居中定位的优点，解决了现有技术中吸盘无法进行气压调节，容易发生固定不稳或者吸力过大导致硅片损坏的情况，并且在对于不同直径的硅片进行打磨时，不能够快速地将硅片进行居中定位固定，使用不便的问题。

请参阅图2，其中：调节闭合机构7包括环形管71、两个连接管72和电磁阀73，环形管71的顶部固定连接至内腔5的内部，环形管71与其顶部对应的孔组6相连通，环形管71的底部与两个连接管72固定连接，两个连接管72的底端均与电磁阀73固定连接。

本实用新型中，通过环形管71、两个连接管72和电磁阀73的配合使用，通过与不同孔组6与其对应的环形管71之间组成独立的吸附通道，通过电磁阀73可以分别控制各个孔组6的连通状态，从而实现了装置可以实现吸盘的气压调节的优点。

请参阅图1～4，其中：固定台3的内部螺纹连接有四个螺纹杆31，四个螺纹杆31分别位于固定台3四周的中间位置，四个螺纹杆31相对的一端均延伸至放置槽4的内部，四个螺纹杆31位于放置槽4内部的一端均转动连接有弧形推块32，四个弧形推块32均滑动连接至放置槽4的内部，四个弧形推块32为同一个圆上截取的四个弧度相等的圆弧。

本实用新型中，通过四个螺纹杆31转动使其沿着固定台3的内部直线运动，并带动四个弧形推块32沿着放置槽4内部滑动靠近，根据硅片的直径与放置槽4直径的差值，可以得出螺纹杆31带动弧形推块32朝着圆心的运动距离，调节四个弧形推块32的等量运动，则可以将硅片准确的定位在放置槽4中心，从而使得装置可以快速地对硅片进行居中定位。

请参阅图1、图2与图3，其中：放置槽4的内部固定连接有垫块41，垫块41的内部开设有与孔组6相对应的通孔。

本实用新型中，通过垫块41可以对硅片的底部进行保护，避免其在放置槽4内壁发生摩擦而划伤。

请参阅图2，其中：密封盒8的内部固定连接有气压传感器81，固定台3的右侧固定连接有PLC控制器33，气压传感器81的输出端与PLC控制器33的输入端电性连接。

本实用新型中，通过气压传感器81配合PLC控制器33可以使得装置可以更加精确灵敏的对内腔5内部的气压进行调节，使得装置的气压调节更加精确实用。

请参阅图1与图2，其中：安装座1的四周分别固定连接有安装耳板10，安装耳板10的内部均开设有螺纹孔101。

本实用新型中，通过安装耳板10以及螺纹孔101可以方便将装置通过安装座1固定在CMP研磨机上，实用更加方便。

工作原理：使用时，首先通过安装座1将装置固定在CMP研磨机上，然后将硅片放置在放置槽4的内部，然后启动小型气泵9将密封盒8内部空气抽出，密封盒8将内腔5内部以及调节闭合机构7内部的空气抽出，使得整个内腔5的内部以及调节闭合机构7的内部形成负压在通过孔组6对硅片进行吸附固定，并且可以根据通过与不同孔组6与其对应的环形管71之间组成独立的吸附通道，通过电磁阀73可以分别控制各个孔组6的连通状态来适用不同大小的硅片加工，以实现装置对硅片的吸附力始终保持在硅片的承受范围之内，并且在固定直径不同的时方便对其进行居中固定，从而实现了装置可以实现对吸盘的气压进行调节，保护硅片不受损伤，并且可以快速地对硅片进行居中定位的优点，解决了现有技术中吸盘无法进行气压调节，容易发生固定不稳或者吸力过大导致硅片损坏的情况，并且在对于不同直径的硅片进行打磨时，不能够快速地将硅片进行居中定位固定，使用不便的问题。

以上所述，仅为本实用新型较佳的具体实施方式；但本实用新型的保护范围并不局限于此。任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内，根据本实用新型的技术方案及其改进构思加以等同替换或改变，都应涵盖在本实用新型的保护范围内。

Claims (6)

1.一种CMP研磨机的吸盘结构，包括安装座(1)，其特征在于：所述安装座(1)的顶部固定连接有两个支杆(2)，两个所述支杆(2)之间的顶部固定连接有固定台(3)，所述固定台(3)的顶部开设有放置槽(4)，所述固定台(3)的内部开设以后内腔(5)，所述固定台(3)的内部开设有沿放置槽(4)的圆心向外扩散分布的孔组(6)，所述孔组(6)的顶部与底部分别与放置槽(4)和内腔(5)相连通，所述孔组(6)的底部均设置有调节闭合机构(7)，所述固定台(3)的底部固定连接有密封盒(8)和小型气泵(9)，所述密封盒(8)的左侧与小型气泵(9)的输入端电性连接，所述密封盒(8)的顶部与内腔(5)相连通。

2.根据权利要求1所述的一种CMP研磨机的吸盘结构，其特征在于：所述调节闭合机构(7)包括环形管(71)、两个连接管(72)和电磁阀(73)，所述环形管(71)的顶部固定连接至内腔(5)的内部，所述环形管(71)与其顶部对应的孔组(6)相连通，所述环形管(71)的底部与两个连接管(72)固定连接，两个所述连接管(72)的底端均与电磁阀(73)固定连接。

3.根据权利要求1所述的一种CMP研磨机的吸盘结构，其特征在于：所述固定台(3)的内部螺纹连接有四个螺纹杆(31)，四个所述螺纹杆(31)分别位于固定台(3)四周的中间位置，四个所述螺纹杆(31)相对的一端均延伸至放置槽(4)的内部，四个所述螺纹杆(31)位于放置槽(4)内部的一端均转动连接有弧形推块(32)，四个所述弧形推块(32)均滑动连接至放置槽(4)的内部，四个所述弧形推块(32)为同一个圆上截取的四个弧度相等的圆弧。

4.根据权利要求1所述的一种CMP研磨机的吸盘结构，其特征在于：所述放置槽(4)的内部固定连接有垫块(41)，所述垫块(41)的内部开设有与孔组(6)相对应的通孔。

5.根据权利要求1所述的一种CMP研磨机的吸盘结构，其特征在于：所述密封盒(8)的内部固定连接有气压传感器(81)，所述固定台(3)的右侧固定连接有PLC控制器(33)，所述气压传感器(81)的输出端与PLC控制器(33)的输入端电性连接。

6.根据权利要求1所述的一种CMP研磨机的吸盘结构，其特征在于：所述安装座(1)的四周分别固定连接有安装耳板(10)，所述安装耳板(10)的内部均开设有螺纹孔(101)。

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