CN216487954U - 一种离子刻蚀机用真空室装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于离子刻蚀技术领域，具体公开了一种离子刻蚀机用真空室装置，包括相邻设置的工作真空室和预备真空室；预备真空室正对隔墙的一面开口并安装第一活动密封门，隔墙中部开口并安装第二活动密封门；预备真空室外侧对应第一活动密封门位置处安装有进出料传送机构，预备真空室内上下平行设置有进料传动层和出料传动层，且预备真空室底部设置有驱动进料传动层和出料传动层升降的进出料层升降机构。本实用新型利用工作真空室和预备真空室的配合，能够使工作真空室一直保持在真空状态下，减少了单个真空室抽真空时间，减少设备等待时间，设备可以连续刻蚀，提高设备效率，同时避免了离子枪接触空气，降低离子枪的氧化，延长保养周期。

Description

一种离子刻蚀机用真空室装置

技术领域

本实用新型涉及离子刻蚀技术领域，具体为一种离子刻蚀机用真空室装置。

背景技术

离子刻蚀是利用离子轰击作用，对材料表面进行刻蚀的过程。现有的离子刻蚀过程是在一个真空室内进行，待加工产品需要通过进出料传送机构传送到真空室内的离子枪上方待刻蚀位置，关闭活动密封门，开始抽真空，待真空室的真空度达到设定值后（约120秒），开始进行工作，等待真空室中正在刻蚀的产品刻蚀完成后，破真空到大气状态下打开活动密封门，通过进出料传送机构将刻蚀完毕的产品送出真空室，然后再重复以上操作。上述方式设备的等待时间长，无法进行连续刻蚀工作，工作效率低；且每次离子刻蚀好产品后等候冷却破真空到标准大气压下，拿出物料后再放入待加工产品开始抽真空，直到设定真空度开始离子刻蚀工作，这个过程一般需要120秒左右，每一个循环离子枪都会和大气接触，由于离子刻蚀过程中离子枪一直处于高温状态，所以离子枪和大气接触易氧化，增加设备消耗，缩短保养周期。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种离子刻蚀机用真空室装置，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种离子刻蚀机用真空室装置，包括相邻设置的工作真空室和预备真空室，且工作真空室和预备真空室之间由隔墙隔开；所述预备真空室正对隔墙的一面开口并安装第一活动密封门，隔墙中部正对第一活动密封门位置处开口并安装第二活动密封门；所述工作真空室内安装有离子枪，预备真空室外侧对应第一活动密封门位置处安装有进出料传送机构，预备真空室内上下平行设置有进料传动层和出料传动层，且预备真空室底部设置有驱动进料传动层和出料传动层升降的进出料层升降机构。

优选的，所述进料传动层和出料传动层上下间隔设置，且进料传动层和出料传动层之间通过支架支撑连接。

优选的，所述进出料层升降机构为电动伸缩杆、液压升降杆、气缸中的一种，进出料层升降机构的输出端与出料传动层底面垂直固接。

优选的，所述进出料传送机构、进料传动层和出料传动层均为传送带组件。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型利用工作真空室和预备真空室的配合，能够使工作真空室一直保持在真空状态下，减少了单个真空室抽真空时间，减少设备等待时间，设备可以连续刻蚀，提高设备效率，同时避免了离子枪接触空气，降低离子枪的氧化，延长保养周期。

附图说明

图1为本实用新型的整体结构示意图；

图2为本实用新型的俯视结构示意图。

图中：1、工作真空室；2、预备真空室；3、隔墙；4、第一活动密封门；5、第二活动密封门；6、离子枪；7、进出料传送机构；8、进料传动层；9、出料传动层；10、支架；11、进出料层升降机构；12、待加工产品。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要说明的是，术语“竖直”、“上”、“下”、“水平”等指示的方位或位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

在本实用新型的描述中，还需要说明的是，除非另有明确的规定和限定，术语“设置”、“安装”、“相连”、“连接”应做广义理解，例如，可以是固定连接，也可以是可拆卸连接，或一体地连接；可以是机械连接，也可以是电连接；可以是直接相连，也可以通过中间媒介间接相连，可以是两个元件内部的连通。对于本领域的普通技术人员而言，可以根据具体情况理解上述术语在本实用新型中的具体含义。

请参阅图1-2，本实用新型提供一种技术方案：一种离子刻蚀机用真空室装置，包括相邻设置的工作真空室1和预备真空室2，且工作真空室1和预备真空室2之间由隔墙3隔开；所述预备真空室2正对隔墙3的一面开口并安装第一活动密封门4，隔墙3中部正对第一活动密封门4位置处开口并安装第二活动密封门5；所述工作真空室1内安装有离子枪6，预备真空室2外侧对应第一活动密封门4位置处安装有进出料传送机构7，预备真空室2内上下平行设置有进料传动层8和出料传动层9，且预备真空室2底部设置有驱动进料传动层8和出料传动层9升降的进出料层升降机构11。

进一步的，所述进料传动层8和出料传动层9上下间隔设置，且进料传动层8和出料传动层9之间通过支架10支撑连接。

进一步的，所述进出料层升降机构11为电动伸缩杆、液压升降杆、气缸中的一种，进出料层升降机构11的输出端与出料传动层9底面垂直固接。

进一步的，所述进出料传送机构7、进料传动层8和出料传动层9均为传送带组件。

工作原理：

将原有技术中一个真空室更改为一个工作真空室1和一个预备真空室2的配合，在原来基础上添加一个预备真空室2形成二级真空室，这样工作真空室能够一直保持在真空状态下，减少了单个真空室抽真空时间。

两室之间可以根据需要关闭打开，可以实现当工作真空室1刻蚀物料同时预备真空室2放产品，真空状态下，工作真空室1与预备真空室2交换物料，这样工作真空室1一直在真空状态下，避免了离子枪6接触空气，减少离子枪6的氧化，延长保养周期。

具体工作流程如下：

S1、关闭第二活动密封门5，开始对工作真空室1抽真空，待工作真空室1的真空度达到设定值后，打开第一活动密封门4，通过进出料传送机构7将待加工产品12传送到进料传动层8上（此时进料传动层8置于加工层高度位置）；

S2、关闭第一活动密封门4，对预备真空室2抽真空，待预备真空室2的真空度达到设定值后，打开第二活动密封门5，由进料传动层8将待加工产品12送入工作真空室1内的加工工位，由离子枪6进行离子刻蚀；

S3、在待加工产品12进行离子刻蚀的过程中，对预备真空室2充气到标准大气压下，然后打开第一活动密封门4，通过进出料传送机构7将下一待加工产品12传送到进料传动层8，然后关闭第一活动密封门4，对预备真空室2抽真空至设定真空度；

S4、待加工产品12离子刻蚀完毕后，进出料层升降机构11启动，将出料传动层9上升到加工层高度，打开第二活动密封门5，将已离子刻蚀完毕的产品退出到出料传动层9，然后进出料层升降机构11将进料传动层8下降至加工层高度，将下一待加工产品12经进料传动层8送入到工作真空室1进行离子刻蚀；

S5、关闭第二活动密封门5，将预备真空室2充气到标准大气压下，打开第一活动密封门4，进出料层升降机构11将出料传动层9上升到加工层高度，出料传动层9通过进出料传送机构7传送出已离子刻蚀好的产品；

S6、进出料层升降机构11将进料传动层8下降至加工层高度，将待加工产品12通过进出料传送机构7传送到进料传动层8上，然后重复步骤S2-S5操作。

这样工作真空室1一直保持在真空状态下，节省了抽真空时间（约120），同时交换物料时间缩短到30秒之内，提高设备使用率。

值得注意的是：整个装置通过总控制按钮对其实现控制，由于控制按钮匹配的设备为常用设备，属于现有成熟技术，在此不再赘述其电性连接关系以及具体的电路结构。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (4)

1.一种离子刻蚀机用真空室装置，其特征在于，包括相邻设置的工作真空室（1）和预备真空室（2），且工作真空室（1）和预备真空室（2）之间由隔墙（3）隔开；所述预备真空室（2）正对隔墙（3）的一面开口并安装第一活动密封门（4），隔墙（3）中部正对第一活动密封门（4）位置处开口并安装第二活动密封门（5）；所述工作真空室（1）内安装有离子枪（6），预备真空室（2）外侧对应第一活动密封门（4）位置处安装有进出料传送机构（7），预备真空室（2）内上下平行设置有进料传动层（8）和出料传动层（9），且预备真空室（2）底部设置有驱动进料传动层（8）和出料传动层（9）升降的进出料层升降机构（11）。

2.根据权利要求1所述的一种离子刻蚀机用真空室装置，其特征在于：所述进料传动层（8）和出料传动层（9）上下间隔设置，且进料传动层（8）和出料传动层（9）之间通过支架（10）支撑连接。

3.根据权利要求1所述的一种离子刻蚀机用真空室装置，其特征在于：所述进出料层升降机构（11）为电动伸缩杆、液压升降杆、气缸中的一种，进出料层升降机构（11）的输出端与出料传动层（9）底面垂直固接。

4.根据权利要求1所述的一种离子刻蚀机用真空室装置，其特征在于：所述进出料传送机构（7）、进料传动层（8）和出料传动层（9）均为传送带组件。

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