CN216421947U - 精密控制磨抛量的自动磨抛装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了精密控制磨抛量的自动磨抛装置，包括铺设有磨抛材料的磨抛盘、可转动的样品盘和可控制磨抛量的夹具；所述样品盘位于所述磨抛盘的上方；夹具用于夹持待磨抛的样件；夹具的下端面设有耐磨环，样件的需被磨抛除去部分伸出耐磨环；样品盘上设有安装夹具的至少一个孔位；夹具落在孔位内；在样品盘转动时，样件的磨抛部分下表面与磨抛盘上的磨抛材料接触；在转动磨抛时，夹具上方的压头始终给样件施加一向下压力，以对样件持续磨抛；夹具上的耐磨环提前控制样件的磨抛量，提高了样件的磨抛精度。

Description

精密控制磨抛量的自动磨抛装置

技术领域

本实用新型涉及一种自动磨抛装置，尤其涉及一种精密控制磨抛量的自动磨抛装置。

背景技术

材料显微组织检验，是材料材料检验和分析的一种手段；一般需对材料表面进行磨抛。

当被检测的样件形状不规则，对需要磨抛的样件镶嵌在树脂中，成为圆柱体(该圆柱体在本专利中也简称样件)，并使样件待磨面与树脂表面齐平。然后放在金相磨抛机上进行磨抛处理。

CN112621466A的一种金相分析仪用金相磨抛机构，通过切换组件带动砂轮架旋转，进给电机带动进给齿轮旋转，进给齿轮带动砂轮架位移，再通过进给齿条和滑动轴等机构的配合使用，从而达到自动砂轮切换的效果。

CN112496964A的全自动水循环金相磨抛机，通过设置水循环系统，使磨抛机中的水可以循环利用。

CN214869443U的金相磨抛机自动打磨组件，CN202494594U的金相磨抛机。

上述磨抛机对金属材料进行磨抛时的精密控制程度不足。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题一种精密控制磨抛量的自动磨抛装置，利用带耐磨环的夹具固定样件，放在样品盘中进行持续磨抛，以达到精密控制磨抛的目的。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为：精密控制磨抛量的自动磨抛装置，包括铺设有磨抛材料的磨抛盘、可转动的样品盘和可控制磨抛量的夹具；所述样品盘位于所述磨抛盘的上方；

所述夹具用于夹持待磨抛的样件；所述夹具的下端面设有耐磨环，所述样件的磨抛部分伸出所述耐磨环；

所述样品盘上设有安装所述夹具的至少一个孔位；所述夹具落在所述孔位内；

压头，对夹具施加一个向下作用力，使夹具内样件下表面持续接触于磨抛盘的磨抛材料上。

本实用新型进一步的优选方案为：所述样品盘相对于所述磨抛盘转动。

本实用新型进一步的优选方案为：所述磨抛材料为砂纸、抛光布或金刚石磨盘。

本实用新型进一步的优选方案为：所述样品盘受转轴驱动，所述转轴安装于轴座上。

本实用新型进一步的优选方案为：所述压头为气缸，所述气缸的伸缩端压在夹具上表面。

本实用新型进一步的优选方案为：所述夹具包括具有腔体的内套和外套；所述耐磨环设于外套的下端；

内套以螺纹方式设于外套内，样件固定于所述内套的腔体内；

转动所述内套，使样件的待磨抛部分伸出耐磨环的前端面。

本实用新型进一步的优选方案为：所述耐磨环为陶瓷耐磨环。

本实用新型进一步的优选方案为：所述外套上设有刻度，所述刻度以标示样件的待磨抛量。

本实用新型进一步的优选方案为：所述样件镶嵌在树脂内，样件的待磨抛部分表面与树脂的表面齐平。

本实用新型进一步的优选方案为：所述夹具上端设有盖板，气缸的伸缩端设有一柔性垫，所述柔性垫压在所述盖板中心。

与现有技术相比，本实用新型的优点是将夹持有样件的夹具安装在样品盘上，在样品盘转动时，样件的磨抛部分下表面与磨抛盘上的磨抛材料接触；在转动磨抛时，夹具上方的压头始终给样件施加一向下压力，以对样件持续磨抛；夹具上的耐磨环控制样件的磨抛量，提高了样件的磨抛精度。

附图说明

以下将结合附图和优选实施例来对本实用新型进行进一步详细描述，但是本领域技术人员将领会的是，这些附图仅是出于解释优选实施例的目的而绘制的，并且因此不应当作为对本实用新型范围的限制。此外，除非特别指出，附图仅示意在概念性地表示所描述对象的组成或构造并可能包含夸张性显示，并且附图也并非一定按比例绘制。

图1为自动磨抛装置的整体结构示意图一；

图2为自动磨抛装置的整体结构示意图二；

图3为磨抛盘、样品盘及夹具的示意图；

图4为本实用新型夹具的整体结构示意图；

图5为夹具夹持镶嵌样品时的状态示意图；

图6为本实用新型夹具的结构拆解示意图。

具体实施方式

以下将参考附图来详细描述本实用新型的优选实施例。本领域中的技术人员将领会的是，这些描述仅为描述性的、示例性的，并且不应被解释为限定了本实用新型的保护范围。

应注意到：相似的标号在下面的附图中表示类似项，因此，一旦某一项在一个附图中被定义，则在随后的附图中可能不再对其进行进一步定义和解释。

如图1至图6所示，精密控制磨抛量的自动磨抛装置100，包括铺设有磨抛材料11的磨抛盘10、可转动的样品盘20和可控制磨抛量的夹具30；磨抛为对材料的研磨和抛光处理。

对自动磨抛装置进行介绍，如图1、图3所示，样品盘20位于磨抛盘10的上方；夹具30用于夹持镶嵌有样件r1的镶嵌样品r。镶嵌样品r的磨抛部分下表面伸出夹具 30的下端面，以便对镶嵌样品r进行磨抛处理。样品盘20上设有安装夹具30的孔位 22，优选地，可在样品盘20上设置有3个孔位22，以便自动磨抛装置100可以一次磨抛3个镶嵌样品r。需要进行磨抛处理时，夹具30位于孔位22内。当样品盘20转动时，样品盘20孔位内的夹具30也会随之转动,样件r1可为金属工件。

本实用新型的优点是，将待磨抛的镶嵌有样件r1的样品安装在样品盘20上，在样品盘20转动时，镶嵌样品r的磨抛部分下表面与磨抛盘10上的磨抛材料11接触；自动磨抛装置工作时，安装有镶嵌样品r的夹具30始终受到一个向下压力，以对镶嵌样品r内的样件r1持续性地磨抛；本实用新型所采用的夹具30可提前控制镶嵌样品r的磨抛量，这能提高样件r1的磨抛精度。

自动磨抛装置100包括压头，该压头会对夹具30施加一个向下作用力，使夹具30内镶嵌样品r的下表面持续接触于磨抛盘10的磨抛材料上。以便进行持续的磨抛处理工作。

样品盘20相对于磨抛盘10转动，本实施例中的磨抛盘10可转动，磨抛盘10的转动方向与样品盘20的转动方向相反，以进一步提高磨抛效率。当磨抛盘10向逆时针转动时，样品盘20为顺时针转动，提高磨抛的效果；当然也可以是磨抛盘10或样品盘20 中的其中一个转动，而另一个是静止的，优选样品盘20转动。或者是样品盘20与磨抛盘10两者转动方向相同，转动速度存在差异，以使两者存在相对转动。

优选地，布置在磨抛盘10上的磨抛材料11为砂纸，也可以是其他具有磨抛材料、如抛光布或金刚石磨盘，砂纸被固定平铺在磨抛盘上。实际工作时，样品盘20受转轴 43驱动，转轴43安装于轴座41上，转轴43与轴座之间的结构，可以是常规结构，不再此处进一步展开。

样品盘20的中间位置处设有与转轴43转动连接的连接部，以使转轴43转动时可以带动样品盘20转动。

本实施例中的压头为气缸的伸缩端，该气缸的伸缩端压在夹具30上表面。以持续对夹具30产生一个下压力，以进一步使夹具30内镶嵌样品r的下表面持续接触于磨抛盘10的磨抛材料上。在持续性地磨抛过程中，夹具向下移动，气缸的伸缩端也会跟随下移。

优选地，在本实施例中的气缸的伸缩端设有一柔性垫51，柔性垫51压在夹具30上。柔性垫51可以减缓气缸对夹具30表面进行挤压时的磨损程度，以起到对夹具30 进行一个保护作用。

如图6所示，本实用新型中的夹具30包括具有腔体32的内套31和外套33；内套 31以螺纹方式设于外套33内，镶嵌样品r固定于内套31的腔体32内；转动内套31，可使镶嵌样品r的待磨抛量伸出外套33的前端面。以便磨抛材料11进一步对镶嵌样品 r进行磨抛处理。样件r1的外表面与镶嵌样品r齐平，因此，镶嵌样品r的磨抛量即为样件r1的磨抛量。

外套33的前端设有陶瓷耐磨环34，镶嵌样品r的待磨抛部分伸出陶瓷耐磨环34 的前端面。陶瓷耐磨环34具有很高的硬度，不易被砂纸所磨损，其限制了镶嵌样品r 的进一步磨抛，起到精密控制磨抛的作用。

当然自动磨抛装置，也可以设定一个检测装置，检测镶嵌样品的磨抛量，当磨抛量符合要求后，装置就停止运行。

外套33上设有刻度f，刻度f以标示镶嵌样品r的待磨抛量。从而便于加工者可以更为直观且精确地知晓样件r1的磨抛量。内套31上设置一个基准位置，以便于显示外套33的刻度单位。

镶嵌样品r为圆柱形，具体为样件r1镶嵌在树脂内，样件r1的待磨抛部分的表面与树脂的表面齐平。树脂起到定位及保护样件r1的作用，尤其适用于不规则或异型工件，同时树脂材料易于磨抛。

若样件为规则形状，也可以直接用夹具夹住样件。

优选地，本实施例中的内套31上边缘的圆周向外延伸一定距离形成伸展部，当内套31与外套33套合后，延展部的周侧壁与外套33的周侧壁齐平。以使整个夹具30更具整体性和统一性，提高美观度。

进一步地，本实施例中的内套31与外套33的对应位置处开设有连接孔，当内套31通过螺纹结构旋定在外套33的某一位置时，再通过连接件固定，优选地，该连接件为顶紧螺丝。固定后，内套31就固定在外套33的某一位置上，此时镶嵌样品r就会超出外套33前端面预设的距离，以进一步进行磨抛工作。

本实用新型旨在说明，在样品盘20转动时，镶嵌样品r的下表面与磨抛盘10上的磨抛材料11接触；在转动磨抛时，安装有镶嵌样品r的夹具30始终受到向下压力，以对镶嵌样品r内的样件r1持续磨抛；夹具30可提前控制镶嵌样品r的磨抛量，提高了样件r1的磨抛精度。

在实际进行磨抛工作时，先将镶嵌有样件r1的镶嵌样品r装入夹具30内，样件r1的待磨抛量的表面与镶嵌样品r的表面齐平。具体地说，镶嵌样品r固定于内套31的腔体32内；转动内套31，使镶嵌样品r的待磨抛量伸出外套33的前端面，此时，外套 33的刻度f能够标示镶嵌样品r的待磨抛量。

继而驱动气缸以使气缸的伸缩端压在夹具30上，夹具上端设有盖板60,具体地压在夹具30的盖板60上，以持续对夹具30产生一个下压力，以进一步使夹具30内镶嵌样品r的下表面持续接触于磨抛盘10的磨抛材料上。继而驱动样品盘20和磨抛盘10，两者朝相反方向转动，以使样件r1的下表面被砂纸磨抛。

以上对本实用新型所提供进行了精密控制磨抛量的自动磨抛装置介绍，本文中应用了具体个例对本实用新型的原理及实施方式进行了阐述，以上实施例的说明只是用于帮助理解本实用新型及核心思想。应当指出，对于本技术领域的普通技术人员来说，在不脱离本实用新型原理的前提下，还可以对本实用新型进行若干改进和修饰，这些改进和修饰也落入本实用新型权利要求的保护范围内。

Claims (10)

1.精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于包括铺设有磨抛材料的磨抛盘、可转动的样品盘和可控制磨抛量的夹具；所述样品盘位于所述磨抛盘的上方；

所述夹具用于夹持待磨抛的样件；所述夹具的下端面设有耐磨环，所述样件的待磨抛部分伸出所述耐磨环；

所述样品盘上设有安装固定由样件的夹具的至少一个孔位；所述夹具落在所述孔位内；

压头，对夹具施加一个向下作用力，使夹具内样件下表面持续接触于磨抛盘的磨抛材料上。

2.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述样品盘相对于所述磨抛盘转动。

3.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述磨抛材料为砂纸、滴加抛光介质的抛光布或金刚石磨盘。

4.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述样品盘受转轴驱动，所述转轴安装于轴座上。

5.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述压头为气缸的伸缩端，所述气缸的伸缩端压在夹具上表面。

6.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述夹具包括具有腔体的内套和外套；所述耐磨环固定于外套的下端；

所述内套以螺纹方式设于外套内，样件固定于所述内套的腔体内；

转动所述内套，使样件的待磨抛部分伸出耐磨环的前端面。

7.根据权利要求6所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述耐磨环为陶瓷耐磨环。

8.根据权利要求6所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述外套上设有刻度，所述刻度以标示样件的待磨抛量。

9.根据权利要求1所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述样件镶嵌在树脂内，样件的待磨抛部分表面与树脂的下表面齐平。

10.根据权利要求5所述精密控制磨抛量的自动磨抛装置，其特征在于所述夹具上端设有盖板，气缸的伸缩端设有一柔性垫，所述柔性垫压在所述盖板中心。

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