CN216262399U - 一种半导体专用超声波清洗机 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及半导体专用超声波清洗设备领域，具体为一种半导体专用超声波清洗机。本实用新型，包括清洗机本体和夹持装置，清洗机本体的表面设有夹持装置，所述夹持装置包括若干个滑槽，若干个所述滑槽均匀开设在清洗机本体的表面，所述滑槽的内壁活动连接有夹持框架，所述夹持框架的圆弧面螺纹连接有螺杆，所述螺杆的一端转动连接有活动杆，所述活动杆的圆弧面固定连接有两个第一弹簧。解决现有技术中存在传统的清洗方法是将硅片放置在清洗槽内直接进行清洗，在半导体硅片的清洗过程中，震动会使硅片的表面与清洗槽持续地进行摩擦，导致硅片表面受损，即会影响硅片的性能和使用寿命，也降低了生产的良品率的问题。

Description

一种半导体专用超声波清洗机

技术领域

本实用新型涉及半导体专用超声波清洗设备领域，尤其涉及一种半导体专用超声波清洗机。

背景技术

超声波清洗机，是一种利用液体震动清洗的清洗设备，通过高频的声波使污秽物脱离清洗件的表面，达到清洁的效果，超声波清洗机具有效率高、清洗速度快、对清洗件损伤小的特点。

传统的清洗方法是将硅片放置在清洗槽内直接进行清洗，在半导体硅片的清洗过程中，震动会使硅片的表面与清洗槽持续地进行摩擦，导致硅片表面受损，即会影响硅片的性能和使用寿命，也降低了生产的良品率。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在传统的清洗方法是将硅片放置在清洗槽内直接进行清洗，在半导体硅片的清洗过程中，震动会使硅片的表面与清洗槽持续地进行摩擦，导致硅片表面受损，即会影响硅片的性能和使用寿命，也降低了生产的良品率的缺点，而提出的一种半导体专用超声波清洗机。

为了实现上述目的，本实用新型采用了如下技术方案：一种半导体专用超声波清洗机，包括清洗机本体和夹持装置，清洗机本体的表面设有夹持装置，所述夹持装置包括若干个滑槽，若干个所述滑槽均匀开设在清洗机本体的表面，所述滑槽的内壁活动连接有夹持框架，所述夹持框架的圆弧面螺纹连接有螺杆，所述螺杆的一端转动连接有活动杆，所述活动杆的圆弧面固定连接有两个第一弹簧，两个所述第一弹簧的表面固定连接有活动夹，所述活动夹的圆弧面与夹持框架滑动连接。

优选的，所述夹持框架的圆弧面螺纹连接有两个固定套，两个所述固定套的表面开设有防滑条纹，可以将夹持框架固定在清洗机本体的表面。

优选的，所述夹持框架的表面开设有第二凹槽，所述活动夹的表面开设有第一凹槽，所述第一凹槽的内壁活动连接有硅片，所述硅片的表面与第二凹槽活动连接，可以更好地夹持硅片。

优选的，所述第一弹簧的圆弧面套有限位杆，所述限位杆的一端与活动夹固定连接，所述限位杆的圆弧面与活动杆滑动连接，防止第一弹簧弯曲，影响弹簧使用。

优选的，所述清洗机本体的表面设有收放装置，所述收放装置包括滑轨，所述滑轨的表面与清洗机本体固定连接，所述滑轨的表面开设有限位孔，所述滑轨的表面滑动连接有活动板，所述活动板的圆弧面滑动连接有插杆，所述插杆的尺寸和限位孔的尺寸相适配，所活动板的表面活动连接有卡板，所述卡板的表面固定连接有收放盒，可以临时存放洗净后的硅片，方便移动。

优选的，所述插杆表面套有第二弹簧，所述第二弹簧的两端分别与活动板和插杆固定连接，可以防止插杆滑出限位孔。

优选的，所述收放盒的表面固定连接有两个提手，所述提手的横截面呈“U”形，方便工人搬运收放盒。

与现有技术相比，本实用新型的优点和积极效果在于：

1、本实用新型中，通过设置夹持装置，在需要对硅片进行清洗时，首先转动螺杆，使螺杆向远离夹持框架的方向移动，螺杆带动活动夹移动到合适的位置，在用手搬动活动夹，使活动夹压缩第一弹簧，将硅片放入活动夹的第一凹槽内，然后缓慢松开活动夹，使活动夹带动硅片插入第二凹槽内，当硅片放入两个凹槽内后，在轻轻拨动硅片是否存在晃动，如果存在晃动再转动螺杆，使活动夹和活动杆挤压弹簧，这样可以使硅片更加稳定，防止硅片再装置内部碰撞和摩擦，夹持完成后，将夹持框架放入清洗机本体的清洗槽内，将夹持框架两边带有固定套的横杆轻轻放入滑槽，再转动固定套，使两个固定套靠近清洗槽的边缘，并固定，清洗完成后，转动固定套远离清洗槽的边缘，再移动夹持框架继续后续的烘干操作，干燥完成后，扶着活动夹压缩第一弹簧，取下硅片，松开活动夹即可完成夹持装置的操作，限位杆可以防止第一弹簧变形，凹槽可以防止硅片滑落，固定套可以固定夹持框架，防止清洗时夹持框架间的碰撞，通过使用夹持装置可以有效防止硅片表面接触硬物发生硅片表面的损伤，提高了生产的良品率，同时清洗槽内可以同时清洗多个硅片，提高清洗效率，降低了生产成本。

2、本实用新型中，通过设置存放装置，清洗完成后，拔动插杆，使插杆拔出限位孔，再使用另一只手扶着活动板，移动至合适位置，松开插杆，再微调活动板，使插杆插入限位孔，双手扶着提手，将收放盒上的卡板卡入活动板上，再将清洁后的夹持装置放入存放盒上开设的槽内，装满后，双手扶着提手搬运至下一个操作流程，第二弹簧可以更好的辅助插杆的固定，防止插杆滑出限位孔，提手可以操作人员的搬运，当硅片清洗完成时，硅片和夹持装置存在附着的水珠，水珠掉落地面会污染生产环境，通过使用存放装置，可以方便搬运清洗后的硅片，有效防止清洗硅片后进行下个步骤搬运动过程中清洗液污染环境，还可以当作临时存放架，存放硅片。

附图说明

图1为本实用新型提出一种半导体专用超声波清洗机的立体结构示意图；

图2为本实用新型提出一种半导体专用超声波清洗机的硅片结构示意图；

图3为本实用新型提出一种半导体专用超声波清洗机的夹持装置示意图；

图4为本实用新型提出一种半导体专用超声波清洗机的A处结构示意图；

图5为本实用新型提出一种半导体专用超声波清洗机的收放装置结构示意图。

图例说明：1、清洗机本体；2、硅片；3、夹持装置；301、夹持框架；302、螺杆；303、活动杆；304、限位杆；305、第一弹簧；306、活动夹；307、第一凹槽；308、固定套；309、滑槽；310、第二凹槽；4、收放装置；41、滑轨；42、限位孔；43、活动板；44、插杆；45、第二弹簧；46、收放盒；47、提手；48、卡板。

具体实施方式

为了能够更清楚地理解本实用新型的上述目的、特征和优点，下面结合附图和实施例对本实用新型做进一步说明。需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请的实施例及实施例中的特征可以相互组合。

在下面的描述中阐述了很多具体细节以便于充分理解本实用新型，但是，本实用新型还可以采用不同于在此描述的其他方式来实施，因此，本实用新型并不限于下面公开说明书的具体实施例的限制。

请参阅图1-5，本实用新型提供一种技术方案：一种半导体专用超声波清洗机，包括清洗机本体1和夹持装置3，清洗机本体1的表面设有夹持装置3，清洗机本体1的表面设有收放装置4。

下面具体说一下其夹持装置3和收放装置4的具体设置和作用。

本实施方案中：夹持装置3包括若干个滑槽309，若干个滑槽309均匀开设在清洗机本体1的表面，滑槽309的内壁活动连接有夹持框架301，夹持框架301的圆弧面螺纹连接有螺杆302，螺杆302的一端转动连接有活动杆303，活动杆303的圆弧面固定连接有两个第一弹簧305，两个第一弹簧305的表面固定连接有活动夹306，活动夹306的圆弧面与夹持框架301滑动连接，通过螺杆302推动活动夹306可以起到夹持晶片2的效果，第一弹簧305可以保护硅片，防止螺杆302的推力太大，使硅片2受损。

具体的，夹持框架301的圆弧面螺纹连接有两个固定套308，两个固定套308的表面开设有防滑条纹，在清洗机本体1开动时，超声波带动水流震动，固定套308能够固定夹持框架301，防止两相邻的夹持框架301之间互相碰撞。

具体的，夹持框架301的表面开设有第二凹槽310，活动夹306的表面开设有第一凹槽307，第一凹槽307的内壁活动连接有硅片2，硅片2的表面与第二凹槽310活动连接。

在本实施例中：第一凹槽307和第二凹槽310可以辅助夹持装置3更好地对硅片2起到良好的夹持作用，防止硅片2滑落。

具体的，第一弹簧305的圆弧面套有限位杆304，限位杆304的一端与活动夹306固定连接，限位杆的304圆弧面与活动杆303滑动连接，限位杆304可以防止第一弹簧305受到压力时弯曲，影响第一弹簧305使用效果。

具体的，清洗机本体1的表面设有收放装置4，收放装置4包括滑轨41，滑轨41的表面与清洗机本体1固定连接，滑轨41的表面开设有限位孔42，滑轨41的表面滑动连接有活动板43，活动板43的圆弧面滑动连接有插杆44，插杆44的尺寸和限位孔42的尺寸相适配，所活动板43的表面活动连接有卡板48，卡板48的表面固定连接有收放盒46。

在本实施例中：通过收放盒46可以临时存放洗净后的硅片2，可以防止硅片2从清洗液中取出，水滴滴落在地上，导致污染生产环境，还可以提升工作效率。

具体的，插杆44表面套有第二弹簧45，第二弹簧45的两端分别与活动板43和插杆44固定连接，可以方便工人将插杆44插入限位孔42，也可以防止插杆44滑出限位孔42，导致活动板43异常滑动。

具体的，收放盒46的表面固定连接有两个提手47，所述提手47的横截面呈“U”形。

在本实施例中：使用提手47可以方便工人搬运，避免收放盒46滑落。

工作原理：通过设置夹持装置3，在需要对硅片2进行清洗时，首先转动螺杆302，使螺杆302向远离夹持框架301的方向移动，螺杆302带动活动夹306移动到合适的位置，在用手搬动活动夹306，使活动夹306压缩第一弹簧305，将硅片2放入活动夹306的第一凹槽307内，然后缓慢松开活动夹306，使活动夹306带动硅片2插入第二凹槽310内，当硅片2放入两个凹槽内后，在轻轻拨动硅片2是否存在晃动，如果存在晃动再转动螺杆302，使活动夹306和活动杆303挤压弹簧，这样可以使硅片2更加稳定，防止硅片2再装置内部碰撞和摩擦，夹持完成后，将夹持框架301放入清洗机本体1的清洗槽内，将夹持框架301两边带有固定套308的横杆轻轻放入滑槽309，再转动固定套308，使两个固定套308靠近清洗槽的边缘，并固定，清洗完成后，转动固定套308远离清洗槽的边缘，再移动夹持框架301继续后续的烘干操作，干燥完成后，扶着活动夹306压缩第一弹簧305，取下硅片2，松开活动夹306即可完成夹持装置3的操作，限位杆304可以防止第一弹簧305变形，凹槽可以防止硅片2滑落，固定套308可以固定夹持框架301，防止清洗时夹持框架301间的碰撞，通过设置存放装置，清洗完成后，拔动插杆44，使插杆44拔出限位孔42，再使用另一只手扶着活动板43，移动至合适位置，松开插杆44，再微调活动板43，使插杆44插入限位孔42，双手扶着提手47，将存放盒上的卡板48卡入活动板43上，再将清洁后的夹持装置3放入收放盒46上开设的槽内，装满后，双手扶着提手47搬运至下一个操作流程，第二弹簧45可以更好的辅助插杆44的固定，防止插杆44滑出限位孔42，提手47可以操作人员的搬运。

以上所述，仅是本实用新型的较佳实施例而已，并非是对本实用新型作其它形式的限制，任何熟悉本专业的技术人员可能利用上述揭示的技术内容加以变更或改型为等同变化的等效实施例应用于其它领域，但是凡是未脱离本实用新型技术方案内容，依据本实用新型的技术实质对以上实施例所作的任何简单修改、等同变化与改型，仍属于本实用新型技术方案的保护范围。

Claims (7)

1.一种半导体专用超声波清洗机，包括清洗机本体（1）和夹持装置（3），其特征在于：所述清洗机本体（1）的表面设有夹持装置（3），所述夹持装置（3）包括若干个滑槽（309），若干个所述滑槽（309）均匀开设在清洗机本体（1）的表面，所述滑槽（309）的内壁活动连接有夹持框架（301），所述夹持框架（301）的圆弧面螺纹连接有螺杆（302），所述螺杆（302）的一端转动连接有活动杆（303），所述活动杆（303）的圆弧面固定连接有两个第一弹簧（305），两个所述第一弹簧（305）的表面固定连接有活动夹（306），所述活动夹（306）的圆弧面与夹持框架（301）滑动连接。

2.根据权利要求1所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述夹持框架（301）的圆弧面螺纹连接有两个固定套（308），两个所述固定套（308）的表面开设有防滑条纹。

3.根据权利要求1所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述夹持框架（301）的表面开设有第二凹槽（310），所述活动夹（306）的表面开设有第一凹槽（307），所述第一凹槽（307）的内壁活动连接有硅片（2），所述硅片（2）的表面与第二凹槽（310）活动连接。

4.根据权利要求1所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述第一弹簧（305）的圆弧面套有限位杆（304），所述限位杆（304）的一端与活动夹（306）固定连接，所述限位杆（304）的圆弧面与活动杆（303）滑动连接。

5.根据权利要求1所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述清洗机本体（1）的表面设有收放装置（4），所述收放装置（4）包括滑轨（41），所述滑轨（41）的表面与清洗机本体（1）固定连接，所述滑轨（41）的表面开设有限位孔（42），所述滑轨（41）的表面滑动连接有活动板（43），所述活动板（43）的圆弧面滑动连接有插杆（44），所述插杆（44）的尺寸和限位孔（42）的尺寸相适配，所活动板（43）的表面活动连接有卡板（48），所述卡板（48）的表面固定连接有收放盒（46）。

6.根据权利要求5所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述插杆（44）表面套有第二弹簧（45），所述第二弹簧（45）的两端分别与活动板（43）和插杆（44）固定连接。

7.根据权利要求5所述的一种半导体专用超声波清洗机，其特征在于：所述收放盒（46）的表面固定连接有两个提手（47），所述提手（47）的横截面呈“U”形。

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