CN216228641U - 地漏抛光机 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开一种地漏抛光机。该地漏抛光机包含旋转台机构、多个治具机构、第一抛光机构和第二抛光机构。旋转台机构包括转盘，多个治具机构分贝配置在转盘上，地漏座则配置在治具机构上；第一抛光机构和第二抛光机构则环绕转盘设置。转盘能够带动地漏座分别旋转至第一抛光机构和第二抛光机构，以便第一抛光机构和第二抛光机构能够分别对地漏座进行抛光。本申请的地漏抛光机，在转盘旋转一圈后，就可以完成对地漏的抛光。

Description

地漏抛光机

技术领域

本实用新型总体来说涉及抛光设备技术领域，具体而言，涉及一种地漏抛光机。

背景技术

地漏是一种浴室常见的排水装置，其一般包括地漏座和防臭芯，其中地漏座一般为金属材质，其表面需要进行抛光处理。

现有技术的抛光机对地漏座进行抛光时，需要人工进行抛光，且由于地漏座需要分多道工艺分别进行抛光，因此操作人员需要通过不同设备对地漏座进行多次的抛光。这样不仅导致操作人员工作强度大、效率低下，而且每个操作人员的熟练程度不一样，会导致抛光质量参差不齐。因此，亟待提供一种能够进行自动抛光的抛光机。

有鉴于此，发明人在研究了现有的技术后特提出本申请。

实用新型内容

在实用新型内容部分中引入了一系列简化形式的概念，这将在具体实施方式部分中进一步详细说明。本实用新型内容部分并不意味着要试图限定出所要求保护的技术方案的关键特征和必要技术特征，更不意味着试图确定所要求保护的技术方案的保护范围。

本实用新型的一个主要目的在于克服上述现有技术的至少一种缺陷，提供一种地漏抛光机。

为实现上述实用新型目的，本实用新型采用如下技术方案：

一种地漏抛光机，包含：

旋转台机构，其包括可旋转的转盘；

治具机构，其配置于所述转盘，其用以放置待抛光的地漏座；

第一抛光机构，其包括第一支架组件、第一抛光组件和第一调节组件，所述第一抛光组件配置于所述第一支架组件上，所述第一抛光组件包括砂带；所述第一调节组件能够驱动所述第一支架组件并带动所述砂带上下活动，以调节所述砂带和地漏座之间的压紧程度；

第二抛光机构，其包括第二支架组件、第二抛光组件和第二调节组件，所述第二抛光组件配置于所述第二支架组件上，所述第二抛光组件包括抛光轮；所述第二调节组件能够驱动所述第二支架组件并带动所述抛光轮上下活动，以调节所述抛光轮和地漏座之间的压紧程度；

所述转盘能够带动地漏座分别旋转至所述砂带和所述抛光轮的下方，以便所述砂带和所述抛光轮分别对地漏座进行抛光。

根据本实用新型的一实施方式，其中旋转台机构还包括转座和转动电机，所述转座配置于所述转盘的下表面，所述转动电机能够驱动所述转座并带动所述转盘旋转。

根据本实用新型的一实施方式，其中地漏抛光机包括有多个所述治具机构，这些治具机构以呈环形的方式配置于所述转盘。

根据本实用新型的一实施方式，其中旋转台机构还包括转带和转带电机，所述转带分别传动连接于各个所述治具机构，所述转带电机能够带动所述转带旋转。

根据本实用新型的一实施方式，其中地漏抛光机包括有8个所述治具机构、3个所述第一抛光机构，以及3个所述第二抛光机构；所述转盘能够带动地漏座依次经过3个所述第一抛光机构和3个所述第二抛光机构。

根据本实用新型的一实施方式，其中第一抛光机构还包括有第一机座组件和第一驱动组件，所述第一抛光组件还包括有第一抛光架；所述第一机座组件支撑于放置面，所述第一支架组件支撑于所述第一机座组件，所述第一抛光架配置于所述第一支架组件，所述砂带支撑环设于所述第一抛光架。

根据本实用新型的一实施方式，其中第二抛光机构还包括有第二机座组件和第二驱动组件，所述第二抛光组件还包括有第二抛光架；所述第二机座组件支撑于放置面，所述第二支架组件支撑于所述第二机座组件，所述第二抛光架配置于所述第二支架组件，所述抛光轮支撑设置于所述第二抛光架。

根据本实用新型的一实施方式，其中抛光轮为麻轮。

根据本实用新型的一实施方式，其中第一调节组件和所述第二调节组件均为伺服电机式的升降单元。

根据本实用新型的一实施方式，其中治具机构能够锁紧和松开地漏座。

由上述技术方案可知，本实用新型的地漏抛光机的优点和积极效果在于：

通过转盘的旋转，能够让地漏座自动旋转至第一抛光机构和第二抛光机构所对应的位置，对地漏座进行进行抛光处理。且第一抛光机构和第二抛光机构能够分别调节其和地漏座之间的压紧程度，保证抛光参数的具体需求。

附图说明

通过结合附图考虑以下对本实用新型的优选实施例的详细说明，本实用新型的各种目标、特征和优点将变得更加显而易见。附图仅为本实用新型的示范性图解，并非一定是按比例绘制。在附图中，同样的附图标记始终表示相同或类似的部件。其中：

图1是根据一示例性实施方式示出的一种地漏抛光机的第一轴侧结构图。

图2是根据一示例性实施方式示出的一种地漏抛光机的第二轴侧结构图。

图3是根据一示例性实施方式示出的一种第一抛光机构的轴侧结构示意图。

图4是根据一示例性实施方式示出的一种第二抛光机构的轴侧结构示意图。

图5是根据一示例性实施方式示出的一种治具机构的轴侧结构示意图。

图6是根据一示例性实施方式示出的一种治具机构的剖面结构示意图。

图7是根据一示例性实施方式示出的一种治具机构的分解结构示意图。

其中，附图标记说明如下：

100-治具机构；110-本体；111-安装通道；120-配合座；130-活动座；131-定位孔；140-外筒；141-活动通道；150-拉杆；160-升降组件；170-压紧块；171-受破部；180-调节件；190-齿轮；S-活动间隙；

200-旋转台机构；210-转盘；220-转座；230-转动电机；240-转带；250-转带电机；

300-第一抛光机构；310-第一机座组件；320-第一支架组件；330-第一调节组件；340-第一驱动组件；350-第一抛光组件；351-砂带；352-第一抛光架；

400-第二抛光机构；410-第二机座组件；420-第二支架组件；430-第二调节组件；440-第二驱动组件；450-第二抛光组件；451-抛光轮；452-第二抛光架；

500-地漏座。

具体实施方式

现在将参考附图更全面地描述示例实施方式。然而，示例实施方式能够以多种形式实施，且不应被理解为限于在此阐述的实施方式；相反，提供这些实施方式使得本实用新型将全面和完整，并将示例实施方式的构思全面地传达给本领域的技术人员。图中相同的附图标记表示相同或类似的结构，因而将省略它们的详细描述。

所描述的特征、结构或特性可以以任何合适的方式结合在一个或更多实施方式中。在下面的描述中，提供许多具体细节从而给出对本实用新型的实施方式的充分理解。然而，本领域技术人员将意识到，可以实践本实用新型的技术方案而没有所述特定细节中的一个或更多，或者可以采用其它的方法、组件、材料等。在其它情况下，不详细示出或描述公知结构、材料或者操作以避免模糊本实用新型的各方面。

在下文的描述中，给出了大量具体的细节以便提供对本实用新型更为彻底的理解。然而，对于本领域技术人员来说显而易见的是，本实用新型可以无需一个或多个这些细节而得以实施。在其他的例子中，为了避免与本实用新型发生混淆，对于本领域公知的一些技术特征未进行描述。

如图1至图4所示，在本实施例中，地漏抛光机，包含旋转台机构200、8个治具机构100、3个第一抛光机构300和3个第二抛光机构400。其中，如图2所示，旋转台机构200包括转盘210、转座220和转动电机230，转盘210安装在转座220上，转盘210为圆形的盘状体，转动电机230位于转盘210的下方，转动电机230能够驱动转座220并带动转盘210旋转。8个治具机构100以环形的方式设置于转盘210的上。治具机构100用来放置待抛光的地漏座500。

如图1、图2和图3所示，在本实施例中，第一抛光机构300包括第一机座组件310、第一支架组件320、第一调节组件330、第一抛光组件350和第一驱动组件340。其中，第一机座组件310支撑于放置面上，第一支架组件320安装在第一机座组件310上。第一抛光组件350包括砂带351和第一抛光架352，该第一抛光架352支撑在第一支架组件320上，砂带351配置于第一抛光架352上。第一驱动组件340能够驱动第一支架组件320并带动第一抛光架352和砂带351一起上下活动，以便调节砂带351和地漏座500之间的压紧程度。在具体工作时，通过砂带351的循环移动实现对地漏座500的抛光，砂带351的传动结构属于本领域的现有技术，在此不再赘述。

如图1、图2和图4所示，在本实施例中，第二抛光机构400包括第二机座组件410、第二支架组件420、第二调节组件430、第二抛光组件450和第二驱动组件440。其中，第二机座组件410支撑于放置面上，第二支架组件420安装在第二机座组件410上。第二抛光组件450包括抛光轮451和第二抛光架452，该第二抛光架452支撑在第二支架组件420上，抛光轮451以可旋转的方式配置于第二抛光架452上。第二驱动组件440能够驱动第二支架组件420并带动第二抛光架452和抛光轮451一起上下活动，以便调节抛光轮451和地漏座500之间的压紧程度。在本实施例中，抛光轮451为麻轮，此外抛光轮451的传动结构属于本领域的现有技术，在此不再赘述。

在本实施例中，第一驱动组件340和第二驱动组件440均为伺服电机式的升降单元，这样可以更加稳定和精确的调节砂带351及抛光轮451压合地漏座500的力度。而伺服电机式的升降单元，属于本领域现有技术在此不再赘述。

需要说明的是，在本实施例中，3个第一抛光机构300，其砂带351压合地漏座500的角度和力度均不一样，可以依据实际抛光的效果，进行相应的调节。相应的，3个第二抛光机构400，其抛光轮451压合地漏座500的角度和力度也均不一样，也可以依据实际抛光的效果，进行相应的调节。

在实际工作时，转盘210上的8个治具机构100形成8个工位，其中：第1个工位所对应的治具机构100用来放置未抛光的地漏座500；第2个工位、第3个工位、第4个工位则分别和3个第一抛光机构300相对应；第5个工位、第6个工位和第7个工位则分别和3个第二抛光机构400相对应；第8个工位则用来收取抛光好的地漏座500。第2个工位、第3个工位和第4个工位为粗抛，第5个工位、第6个工位和第7个工位为精抛。地漏在转盘210的带动下，依次经过3个第一抛光机构300和3个第二抛光机构400，实现地漏抛光所需的步骤。

另外，在本实施例中，治具机构100能够实现锁紧和松开地漏座500的功能。具体的，如图5、图6和图7所示，在本实施例中，治具机构100包括本体110、外筒140、活动座130、配合座120、压紧块170、拉杆150和升降组件160。其中，本体110设置有上下贯穿的安装通道111。外筒140配置于安装通道111上，且外筒140设置有上下配置活动通道141。活动座130则可上下活动的配置于活动通道141上。配合座120则配置在活动座130的上端，且配合座120和活动座130之间形成有活动间隙S。压紧块170横向可活动的配置于外筒140上，且压紧块170设置有伸入活动间隙S的受破部171。拉杆150的两端分别连接于活动座130和升降组件160。地漏座500支撑在本体110上，地漏座500设置有向下延伸且开口逐渐缩小的下缘口，地漏座500属于本领域现有技术在此不再赘述。

在具体工作时，当升降组件160通过拉杆150带动活动座130向上活动时，会带动配合座120一起向上活动，让形成于二者之间的活动间隙S也会向上活动。而位于活动间隙S的受破部171，受破于活动间隙S的活动发生向外移动，最终让压紧块170压紧于地漏座500的下缘口边缘，使得地漏座500牢固的限位于治具机构100上，不会在抛光的过程飞出。相反的，当升降组件160通过拉杆150带动活动座130向下活动时，会让压紧块170向内活动，让压紧块170松开地漏座500，并缩回外筒140，以便顺畅的取下地漏座500。

如图6和图7所示，在本实施例中，治具机构100还包含螺旋配置于外筒140的一对调节件180，活动座130设置有两对左右对称设置的定位孔131。当活动座130向上活动并让压紧块170压紧地漏座500时，可以调节调节件180，使得调节件180的末端抵接于一对定位孔131上，达到锁紧活动座130的目的，保持地漏座500处于被压紧的状态。当活动座130向上活动，让一对压紧块170缩回于活动座130时，可以调节调节件180，使得调节件180的末端抵接于另一对定位孔131上，保持地漏座500处于没被压紧的状态。

如图5、图6和图7所示，在本实施例中，治具机构100还包含齿轮190。如图2所示，旋转台机构200还包括转带240和转带电机250，转带240分别传动连接于各个治具机构100的齿轮190，转带电机250能够通过转带240同步带动各个齿轮190旋转，实现地漏座500旋转，便于对其进行抛光。

通过本实施例的上述方案，本实施例的地漏抛光机，通过转盘210能够让地漏座500依次活动至第一抛光机构300和第二抛光机构400所对应的位置，完成地漏座500的抛光作业。且第一抛光机构300和第二抛光机构400能够分别调节其和地漏座500之间的压紧程度，保证抛光能够符合所需的要求，同时还能保证抛光质量稳定，不会出现很大的品质波动。当然，本实施例的地漏抛光机，其转盘210旋转一周就可以实现抛光的多道所需工艺，还能够极大提高抛光效率。

应理解，以上描述的多个示例可沿多个方向(如倾斜、颠倒、水平、垂直，等等)并且以多个构造被利用，而不背离本实用新型的原理。附图中示出的实施例仅作为本实用新型的原理的有效应用的示例而被示出和描述，本实用新型并不限于这些实施例的任何具体的细节。

当然，一旦仔细考虑代表性实施例的以上描述，本领域技术人员就将容易理解，可对这些具体的实施例做出多种改型、添加、替代、删除以及其他变化，并且这些变化在本实用新型的原理的范围内。因此，前面的详细描述应被清楚地理解为是仅以说明和示例的方式来给出的，本实用新型的精神和范围仅由所附权利要求书及其等同物限定。

Claims (10)

1.一种地漏抛光机，其特征在于，包含：

旋转台机构(200)，其包括可旋转的转盘(210)；

治具机构(100)，其配置于所述转盘(210)，其用以放置待抛光的地漏座(500)；

第一抛光机构(300)，其包括第一支架组件(320)、第一抛光组件(350)和第一调节组件(330)，所述第一抛光组件(350)配置于所述第一支架组件(320)上，所述第一抛光组件(350)包括砂带(351)；所述第一调节组件(330)能够驱动所述第一支架组件(320)并带动所述砂带(351)上下活动，以调节所述砂带(351)和地漏座(500)之间的压紧程度；

第二抛光机构(400)，其包括第二支架组件(420)、第二抛光组件(450)和第二调节组件(430)，所述第二抛光组件(450)配置于所述第二支架组件(420)上，所述第二抛光组件(450)包括抛光轮(451)；所述第二调节组件(430)能够驱动所述第二支架组件(420)并带动所述抛光轮(451)上下活动，以调节所述抛光轮(451)和地漏座(500)之间的压紧程度；

所述转盘(210)能够带动地漏座(500)分别旋转至所述砂带(351)和所述抛光轮(451)的下方，以便所述砂带(351)和所述抛光轮(451)分别对地漏座(500)进行抛光。

2.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，所述旋转台机构(200)还包括转座(220)和转动电机(230)，所述转座(220)配置于所述转盘(210)的下表面，所述转动电机(230)能够驱动所述转座(220)并带动所述转盘(210)旋转。

3.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，地漏抛光机包括有多个所述治具机构(100)，这些治具机构(100)以呈环形的方式配置于所述转盘(210)。

4.如权利要求3所述的地漏抛光机，其特征在于，所述旋转台机构(200)还包括转带(240)和转带电机(250)，所述转带(240)分别传动连接于各个所述治具机构(100)，所述转带电机(250)能够驱动所述转带(240)旋转。

5.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，地漏抛光机包括有8个所述治具机构(100)、3个所述第一抛光机构(300)，以及3个所述第二抛光机构(400)；所述转盘(210)能够带动地漏座(500)依次经过3个所述第一抛光机构(300)和3个所述第二抛光机构(400)。

6.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，所述第一抛光机构(300)还包括有第一机座组件(310)和第一驱动组件(340)，所述第一抛光组件(350)还包括有第一抛光架(352)；所述第一机座组件(310)支撑于放置面，所述第一支架组件(320)支撑于所述第一机座组件(310)，所述第一抛光架(352)配置于所述第一支架组件(320)，所述砂带(351)支撑环设于所述第一抛光架(352)。

7.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，所述第二抛光机构(400)还包括有第二机座组件(410)和第二驱动组件(440)，所述第二抛光组件(450)还包括有第二抛光架(452)；所述第二机座组件(410)支撑于放置面，所述第二支架组件(420)支撑于所述第二机座组件(410)，所述第二抛光架(452)配置于所述第二支架组件(420)，所述抛光轮(451)支撑设置于所述第二抛光架(452)。

8.如权利要求1或7所述的地漏抛光机，其特征在于，所述抛光轮(451)为麻轮。

9.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，所述第一调节组件(330)和所述第二调节组件(430)均为伺服电机式的升降单元。

10.如权利要求1所述的地漏抛光机，其特征在于，所述治具机构(100)能够锁紧和松开地漏座(500)。

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