CN216155952U - 一种等离子表面真空镀膜设备 - Google Patents

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Abstract

本实用新型公开了一种等离子表面真空镀膜设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定安装有支撑腿,所述箱体内部的下方固定安装有支撑板,所述支撑板顶部固定安装有加热架,所述加热架上设置有坩埚,所述箱体一侧的上方固定安装有安装箱,所述安装箱内壁的底部固定安装有第一电机,所述第一电机的驱动端固定安装有液压伸缩杆。该一种等离子表面真空镀膜设备,本实用通过箱体、支撑腿、支撑板、加热架、坩埚、安装箱、第一电机、液压伸缩杆、支撑架、盖板、横箱、固定板、基片和抽风机的配合使用,使得基片的取出及安装过程中,都可在箱体的外部进行操作,箱体内部的高温度,以及设备内外的压强差,都不会对操作人员产生任何的影响。

Description

一种等离子表面真空镀膜设备
技术领域
本实用新型涉及一种真空镀膜设备,具体是一种等离子表面真空镀膜设备。
背景技术
现有的真空镀膜方式有两种:一是蒸发镀膜,蒸发镀膜一般是加热靶材使表面组分以原子团或离子形式被蒸发出来,并且沉降在基片表面,通过成膜过程(散点-岛状结构-迷走结构-层状生长)形成薄膜;二是溅射类镀膜,溅射类镀膜是利用电子或高能激光轰击靶材,并使表面组分以原子团或离子形式被溅射出来,并且最终沉积在基片表面,经历成膜过程,最终形成薄膜。
但是,目前市面上传统的一种等离子表面真空镀膜设备,完成镀膜的工作,需要人工将手伸入设备内部将基片取出,刚刚镀膜完成,设备内部的温度很高,以及设备内外压强差,镀膜材料容易发生喷溅,对于操作人员的一个操作环境存在一定的安全隐患。
实用新型内容
本实用新型的目的在于提供一种等离子表面真空镀膜设备,以解决上述背景技术中提出的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:
一种等离子表面真空镀膜设备,包括箱体,所述箱体底部的两侧均固定安装有支撑腿,所述箱体内部的下方固定安装有支撑板,所述支撑板顶部固定安装有加热架,所述加热架上设置有坩埚,所述箱体一侧的上方固定安装有安装箱,所述安装箱内壁的底部固定安装有第一电机,所述第一电机的驱动端固定安装有液压伸缩杆,所述液压伸缩杆的驱动端固定安装有支撑架,所述支撑架底部的凸起处固定安装有盖板,所述盖板的底部的下方设置有横箱,所述横箱底部的两侧均设置有固定板,两个所述固定板之间设置有基片,所述箱体的另一侧固定安装有抽风机,所述盖板与箱体的连接处设置有密封垫。
作为本实用新型进一步的方案:所述横箱的底部开设有限位槽,所述横箱内部的两侧均固定安装有固定块,两个所述固定块之间转动安装有紧固丝杆,所述紧固丝杆外壁上的一侧设置有左旋螺纹,所述紧固丝杆外壁上的另一侧设置有右旋螺纹,所述紧固丝杆外壁上的两侧均套设有限位块,所述紧固丝杆的一端固定安装有转板。
作为本实用新型再进一步的方案:所述支撑架顶部的一侧固定安装有第二电机。
作为本实用新型再进一步的方案:所述转板一侧的上方开设有滑孔,所述转板通过滑孔滑动安装有定位杆,所述滑孔的内壁上开设有定位槽,所述定位杆外壁上固定套接有环形卡板,所述定位杆的外壁上位于环形卡板的一侧套接有弹簧,所述定位杆的一端固定安装有拉环,所述横箱的一侧开设有若干个卡槽。
作为本实用新型再进一步的方案:所述横箱顶部的两侧均固定安装有滑块,所述盖板的底部开设有滑道。
作为本实用新型再进一步的方案:所述限位块的一侧开设有与紧固丝杆相适配的螺纹孔,且限位块通过其一侧开设的螺纹孔与紧固丝杆螺纹连接。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:
1、本实用通过箱体、支撑腿、支撑板、加热架、坩埚、安装箱、第一电机、液压伸缩杆、支撑架、盖板、横箱、固定板、基片和抽风机的配合使用,使得基片的取出及安装过程中,都可在箱体的外部进行操作,箱体内部的高温度,以及设备内外的压强差,都不会对操作人员产生任何的影响,保证操作人员处于一个绝对安全的操作环境。
2、本实用通过紧固丝杆、限位槽、限位块、弹簧、固定块、转板、拉环、定位杆、定位槽、环形卡板、卡槽和滑孔的配合使用,通过紧固丝杆上左旋螺纹与右旋螺纹的螺纹传动,以及限位块与限位槽的滑动关系,两个限位块同时进行相对移动或相反移动,固定板跟随限位块进行移动,从而实现了两个固定板之间距离的改变,便于固定不同大小的基片,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性,同时通过定位杆与卡槽的卡接,当固定板完成对相对应规格的基片固定后,定位杆可在弹簧弹性作用下通过环形卡板卡入相对应卡槽的内部,对转板进行限位,转板限位过后紧固丝杆无法产生转动,从而在螺纹传动的作用限制下,限位块与固定板的位置保持不变,确保了对不同大小基片固定后的牢固性。
3、本实用通过第二电机、滑道和滑块的配合使用,使基片具备一个转动效果,以达到对基片表面呈均匀镀膜,镀膜效果好,可以大大提高镀膜生产质量。
附图说明
图1为一种等离子表面真空镀膜设备的结构示意图;
图2为一种等离子表面真空镀膜设备的图1中A处放大结构示意图;
图3为一种等离子表面真空镀膜设备的图2中B处放大结构示意图。
图中:箱体1、支撑腿2、支撑板3、加热架4、坩埚5、安装箱6、第一电机7、液压伸缩杆8、支撑架9、盖板10、第二电机11、横箱12、固定板13、基片14、抽风机15、滑道16、滑块17、紧固丝杆18、限位槽19、限位块20、弹簧21、固定块22、转板23、拉环24、定位杆25、定位槽26、环形卡板27、卡槽28、滑孔29。
具体实施方式
下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例,本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
请参阅图1~3,本实用新型实施例中,一种等离子表面真空镀膜设备,包括箱体1,箱体1底部的两侧均固定安装有支撑腿2,箱体1内部的下方固定安装有支撑板3,支撑板3顶部固定安装有加热架4,加热架4上设置有坩埚5,箱体1一侧的上方固定安装有安装箱6,安装箱6内壁的底部固定安装有第一电机7,且第一电机7的驱动端贯穿安装箱6内壁的顶部并延伸至安装箱6顶部的上方,第一电机7的驱动端固定安装有液压伸缩杆8,液压伸缩杆8的驱动端固定安装有支撑架9,支撑架9底部的凸起处固定安装有盖板10,盖板10的底部的下方设置有横箱12,横箱12底部的两侧均设置有固定板13,两个固定板13之间设置有基片14,箱体1的另一侧固定安装有抽风机15,且抽风机15输入端贯穿箱体1的另一侧并与箱体1的内部相连通,盖板10与箱体1的连接处设置有密封垫,使得基片14的取出及安装过程中,都可在箱体1的外部进行操作,箱体1内部的高温度,以及设备内外的压强差,都不会对操作人员产生任何的影响,保证操作人员处于一个绝对安全的操作环境。
参照图1和图2,本申请中,横箱12的底部开设有限位槽19,横箱12内部的两侧均固定安装有固定块22,两个固定块22之间转动安装有紧固丝杆18,紧固丝杆18外壁上的一侧设置有左旋螺纹,紧固丝杆18外壁上的另一侧设置有右旋螺纹,紧固丝杆18外壁上的两侧均套设有限位块20,且限位块20贯穿横箱12内壁的底部并与限位槽19滑动连接,限位块20与相对应的固定板13固定连接,紧固丝杆18的一端依次贯穿一个固定块22的一侧和横箱12内壁的一侧并延伸至横箱12的一侧,紧固丝杆18的一端固定安装有转板23,通过紧固丝杆18上左旋螺纹与右旋螺纹的螺纹传动,以及限位块20与限位槽19的滑动关系,两个限位块20同时进行相对移动或相反移动,固定板13跟随限位块20进行移动,从而实现了两个固定板13之间距离的改变,便于固定不同大小的基片14,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性。
参照图1,本申请中,支撑架9顶部的一侧固定安装有第二电机11,且第二电机11的驱动端依次贯穿支撑架9的顶部和盖板10的顶部并与横箱12顶部的中部固定连接,使基片14具备一个转动效果,以达到对基片14表面呈均匀镀膜,镀膜效果好,可以大大提高镀膜生产质量。
参照图2和图3,本申请中,转板23一侧的上方开设有滑孔29,转板23通过滑孔29滑动安装有定位杆25,滑孔29的内壁上开设有定位槽26,定位杆25外壁上固定套接有环形卡板27,且环形卡板27与定位槽26滑动连接,定位杆25的外壁上位于环形卡板27的一侧套接有弹簧21,定位杆25的一端固定安装有拉环24,横箱12的一侧开设有若干个卡槽28,且卡槽28与定位杆25卡接,确保了对不同大小基片14固定后的牢固性。
参照图2,本申请中,横箱12顶部的两侧均固定安装有滑块17,盖板10的底部开设有滑道16,且滑道16与滑块17滑动连接,滑块17的形状为T形,保证横箱12在转动过程中的稳定性。
参照图2,本申请中,限位块20的一侧开设有与紧固丝杆18相适配的螺纹孔,且限位块20通过其一侧开设的螺纹孔与紧固丝杆18螺纹连接。
本实用新型的工作原理是:
参照图1,使用时,该文中出现的电器元件均与外界的主控器及220V市电电连接,并且主控器可为计算机等起到控制的常规已知设备,当需要进行镀膜的时候,先控制抽风机15,抽风机15启动后,将箱体1内部的空气抽走,使箱体1的内部处于真空状态,然后及控制加热架4对坩埚5进行加热,进行镀膜,镀膜完成后,控制液压伸缩杆8开始工作,液压伸缩杆8的驱动端带动支撑架9进行竖向的移动,支撑架9带动盖板10进行移动,盖板10通过滑道16与滑块17的配合,带动横箱12进行移动,横箱12通过紧固丝杆18与限位块20的配合,带动固定板13进行移动,固定板13的移动可带动被固定的基片14进行移动,使基片14上移至箱体1顶部上方,与此同时控制第一电机7开始工作,第一电机7为正反电机,且第一电机7的型号为Y250M-2,第一电机7的驱动端带动液压伸缩杆8进行转动,液压伸缩杆8的转动会带动此时位于箱体1顶部上方的基片14进行转动,将基片14转动至箱体1的右侧,然后通过液压伸缩杆8的驱动,将基片14下降一定的高度,便可将基片14取下,使得基片14的取出及安装过程中,都可在箱体1的外部进行操作,箱体1内部的高温度,以及设备内外的压强差,都不会对操作人员产生任何的影响,保证操作人员处于一个绝对安全的操作环境。
参照图1~3,使用时,当固定板13移动至箱体1的外部后,首先拉动拉环24,拉环24的移动带动定位杆25在滑孔29上进行滑动,滑孔29的移动带动环形卡板27在定位槽26上进行滑动,环形卡板27的移动会对弹簧21进行挤压,同时定位杆25的移动还会脱离相对应卡槽28的内部,使转板23失去限位效果,此时便可转动转板23,转板23的转动带动紧固丝杆18进行转动,通过紧固丝杆18上左旋螺纹与右旋螺纹的螺纹传动,以及限位块20与限位槽19的滑动关系,两个限位块20同时进行相对移动或相反移动,固定板13跟随限位块20进行移动,从而实现了两个固定板13之间距离的改变,便于固定不同大小的基片14,扩大了适用范围,适用性更强,提高了实用性,同时通过定位杆25与卡槽28的卡接,当固定板13完成对相对应规格的基片14固定后,定位杆25可在弹簧21弹性作用下通过环形卡板27卡入相对应卡槽28的内部,对转板23进行限位,转板23限位过后紧固丝杆18无法产生转动,从而在螺纹传动的作用限制下,限位块20与固定板13的位置保持不变,确保了对不同大小基片14固定后的牢固性。
参照图1和图2,使用时,在镀膜的过程中,可控制第二电机11工作,第二电机11的驱动端带动横箱12进行转动,横箱12的带动固定板13进行转动,从而带动被固定板13固定后的基片14进行缓慢转动,使基片14具备一个转动效果,以达到对基片14表面呈均匀镀膜,镀膜效果好,可以大大提高镀膜生产质量。
尽管参照前述实施例对本实用新型进行了详细的说明,对于本领域的技术人员来说,其依然可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改,或者对其中部分技术特征进行等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种等离子表面真空镀膜设备,包括箱体(1),其特征在于:所述箱体(1)底部的两侧均固定安装有支撑腿(2),所述箱体(1)内部的下方固定安装有支撑板(3),所述支撑板(3)顶部固定安装有加热架(4),所述加热架(4)上设置有坩埚(5),所述箱体(1)一侧的上方固定安装有安装箱(6),所述安装箱(6)内壁的底部固定安装有第一电机(7),所述第一电机(7)的驱动端固定安装有液压伸缩杆(8),所述液压伸缩杆(8)的驱动端固定安装有支撑架(9),所述支撑架(9)底部的凸起处固定安装有盖板(10),所述盖板(10)的底部的下方设置有横箱(12),所述横箱(12)底部的两侧均设置有固定板(13),两个所述固定板(13)之间设置有基片(14),所述箱体(1)的另一侧固定安装有抽风机(15),所述盖板(10)与箱体(1)的连接处设置有密封垫。
2.根据权利要求1所述的一种等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述横箱(12)的底部开设有限位槽(19),所述横箱(12)内部的两侧均固定安装有固定块(22),两个所述固定块(22)之间转动安装有紧固丝杆(18),所述紧固丝杆(18)外壁上的一侧设置有左旋螺纹,所述紧固丝杆(18)外壁上的另一侧设置有右旋螺纹,所述紧固丝杆(18)外壁上的两侧均套设有限位块(20),所述紧固丝杆(18)的一端固定安装有转板(23)。
3.根据权利要求1所述的一种等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述支撑架(9)顶部的一侧固定安装有第二电机(11)。
4.根据权利要求2所述的一种等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述转板(23)一侧的上方开设有滑孔(29),所述转板(23)通过滑孔(29)滑动安装有定位杆(25),所述滑孔(29)的内壁上开设有定位槽(26),所述定位杆(25)外壁上固定套接有环形卡板(27),所述定位杆(25)的外壁上位于环形卡板(27)的一侧套接有弹簧(21),所述定位杆(25)的一端固定安装有拉环(24),所述横箱(12)的一侧开设有若干个卡槽(28)。
5.根据权利要求3所述的一种等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述横箱(12)顶部的两侧均固定安装有滑块(17),所述盖板(10)的底部开设有滑道(16)。
6.根据权利要求2所述的一种等离子表面真空镀膜设备,其特征在于:所述限位块(20)的一侧开设有与紧固丝杆(18)相适配的螺纹孔,且限位块(20)通过其一侧开设的螺纹孔与紧固丝杆(18)螺纹连接。
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