CN216150523U - 清洗装置及涂胶显影机 - Google Patents

Abstract

本实用新型提供了一种清洗装置及涂胶显影机，清洗装置包括：清洗结构，包括清洗槽和围绕清洗槽设置的流体通道，清洗槽设置有多个流体出口，清洗槽通过流体出口与流体通道连通；至少两个流体输送部，至少两个流体输送部绕流体通道的周向间隔设置，流体输送部与流体通道连通，以向流体通道内通入流体；其中，至少两个流体输送部中的两个流体输送部设置在清洗槽的相对两侧。本实用新型的清洗装置解决了现有技术中的清洗装置的清洗效果较差的问题。

Description

清洗装置及涂胶显影机

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，具体而言，涉及一种清洗装置及涂胶显影机。

背景技术

涂胶显影是半导体工艺制程中必不可少的一环，也是微影部门产生缺陷的主要来源。涂胶显影机是实施光刻胶涂布和显影去胶的主体，对于使用LD型显影液喷嘴的机台，由于使用软接触的方式进行显影涂布，LD喷嘴会浸泡在晶圆表面已进行化学反应的显影液里，反应生成物会污染LD喷嘴。因此，LD喷嘴在完成每片晶圆的显影液涂布后，都需要回到初始位置的清洗盒里进行去离子水喷洗，清洁喷嘴底部的污染物，以免污染下一片晶圆，带来晶圆表面缺陷问题。

在现有技术中，去离子水通过清洗盒一端的两侧孔洞进入槽内，然后从槽体内数以百计的密集小孔喷射出来，进而对进入槽内的LD喷嘴进行清洗，以去除LD喷嘴外侧因显影过程沾上的反应污染物。

但是，这种单端进液结构容易出现液压不足的问题，即清洗盒去离子水进液端的液压足够，而清洗盒的另一端由于距离远，使得喷出的去离子水压低、液量少，不能很好的冲洗LD喷嘴，进而使得LD喷嘴不能完全清洗干净，污染后面进来的晶圆，出现小颗粒、特殊液痕或者不可见缺陷等形成的线条型缺陷图形。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种清洗装置及涂胶显影机，以解决现有技术中的清洗装置的清洗效果较差的问题。

为了实现上述目的，根据本实用新型的一个方面，提供了一种清洗装置，包括：清洗结构，包括清洗槽和围绕清洗槽设置的流体通道，清洗槽设置有多个流体出口，清洗槽通过流体出口与流体通道连通；至少两个流体输送部，至少两个流体输送部绕流体通道的周向间隔设置，流体输送部与流体通道连通，以向流体通道内通入流体；其中，至少两个流体输送部中的两个流体输送部设置在清洗槽的相对两侧。

进一步地，至少两个流体输送部中的两个流体输送部沿第一预设方向设置在清洗槽的相对两侧；其中，清洗槽沿第一预设方向具有相对设置的第一端和第二端，清洗槽的第一端与清洗槽的第二端之间的距离为清洗槽的最大宽度；第一预设方向与清洗槽的深度方向相垂直。

进一步地，至少两个流体输送部中的两个流体输送部沿第一预设方向设置在清洗槽的相对两侧，两个流体输送部包括第一流体输送部和第二流体输送部；流体通道包括第一通道和第二通道，第一通道和第二通道设置在清洗槽的相对两侧，第一通道和第二通道均沿第一预设方向延伸；流体通道还包括第三通道和第四通道，第三通道的第一端与第一通道的第一端连通，第三通道的第二端与第二通道的第一端连通；第四通道的第一端与第一通道的第二端连通，第四通道的第二端与第二通道的第二端连通；其中，第一流体输送部与第三通道连通，第二流体输送部与第四通道连通。

进一步地，第一流体输送部包括一个第一流体进口，第三通道沿其延伸方向具有第一中线，第一中线与第三通道的第一端之间的间距和第一中线与第三通道的第二端之间的间距相等；其中，第一流体进口的中心线与第一中线相重合；第二流体输送部包括一个第二流体进口，第四通道沿其延伸方向具有第二中线，第二中线与第四通道的第一端之间的间距和第二中线与第四通道的第二端之间的间距相等；其中，第二流体进口的中心线与第二中线相重合。

进一步地，第一流体输送部包括两个第一流体进口，两个第一流体进口均与第三通道连通，一个第一流体进口与第一通道的第一端相对设置，另一个第一流体进口与第二通道的第一端相对设置；第二流体输送部包括两个第二流体进口，两个第二流体进口均与第四通道连通，一个第二流体进口与第一通道的第二端相对设置，另一个第二流体进口与第二通道的第二端相对设置。

进一步地，清洗结构包括外壳，外壳包括第一壳体和与第一壳体连接的第二壳体，第一壳体形成清洗槽，流体出口设置于第一壳体；第二壳体环绕第一壳体设置且二者共同围成流体通道；流体输送部设置于第二壳体。

进一步地，第二壳体沿第一预设方向具有相对设置的第一板段和第二板段，第一流体输送部设置于第一板段，第二流体输送部设置于第二板段。

进一步地，流体输送部包括至少一个流体进口，流体进口与流体通道相连通。

进一步地，清洗装置还包括连接管路和水泵，连接管路与流体进口连通；水泵设置于连接管路。

根据本实用新型的另一方面，提供了一种涂胶显影机，包括清洗装置，其中，清洗装置为上述的清洗装置。

本实用新型的清洗装置的流体输送部用于向流体通道内通入流体，流体通道内的流体通过流体出口流入清洗槽，以对清洗槽内的待清洗件进行清洗。该清洗装置的两个流体输送部设置在清洗槽的相对两侧，流体通过两端的流体输送部同时进入清洗槽内，以保证提供足够的流量和压力，使得清洗槽内流体流量充足，能有力冲洗干净待清洗件，提高了清洗装置的清洗能力；具体地，流体为去离子水，待清洗件为喷嘴，该清洗装置能有力冲洗干净喷嘴侧壁，避免对以后进入的晶圆由于喷嘴上的污染物造成线条型缺陷的问题，进而提高良率，减少生产成本。

附图说明

构成本申请的一部分的说明书附图用来提供对本实用新型的进一步理解，本实用新型的示意性实施例及其说明用于解释本实用新型，并不构成对本实用新型的不当限定。在附图中：

图1示出了根据本实用新型的清洗装置的实施例的结构示意图；以及

图2示出了根据本实用新型的清洗装置的实施例的局部放大图。

其中，上述附图包括以下附图标记：

10、清洗结构；11、清洗槽；12、流体出口；13、外壳；131、第一壳体；132、第二壳体；133、第一板段；134、第二板段；20、流体输送部；21、流体进口；211、第一流体进口；212、第二流体进口。

具体实施方式

需要说明的是，在不冲突的情况下，本申请中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。下面将参考附图并结合实施例来详细说明本实用新型。

应该指出，以下详细说明都是例示性的，旨在对本申请提供进一步的说明。除非另有指明，本文使用的所有技术和科学术语具有与本申请所属技术领域的普通技术人员通常理解的相同含义。

需要注意的是，这里所使用的术语仅是为了描述具体实施方式，而非意图限制根据本申请的示例性实施方式。如在这里所使用的，除非上下文另外明确指出，否则单数形式也意图包括复数形式，此外，还应当理解的是，当在本说明书中使用术语“包含”和/或“包括”时，其指明存在特征、步骤、操作、器件、组件和/或它们的组合。

本实用新型提供了一种清洗装置，请参考图1和图2，包括：清洗结构10，包括清洗槽11和围绕清洗槽11设置的流体通道，清洗槽11设置有多个流体出口12，清洗槽11通过流体出口12与流体通道连通；至少两个流体输送部20，至少两个流体输送部20绕流体通道的周向间隔设置，流体输送部20与流体通道连通，以向流体通道内通入流体；其中，至少两个流体输送部20中的两个流体输送部20设置在清洗槽11的相对两侧。

本实用新型的清洗装置的流体输送部20用于向流体通道内通入流体，流体通道内的流体通过流体出口12流入清洗槽11，以对清洗槽11内的待清洗件进行清洗。该清洗装置的两个流体输送部20设置在清洗槽11的相对两侧，流体通过两端的流体输送部20同时进入清洗槽11内，以保证提供足够的流量和压力，使得清洗槽11内流体流量充足，能有力冲洗干净待清洗件，提高了清洗装置的清洗能力；具体地，流体为去离子水，待清洗件为喷嘴，该清洗装置能有力冲洗干净喷嘴侧壁，避免对以后进入的晶圆由于喷嘴上的污染物造成线条型缺陷的问题，进而提高良率，减少生产成本。

具体地，利用去离子水对喷嘴进行清洗时，去离子水通过清洗槽11两端的流体输送部20同时进入槽体内，以保证提供足够的水量和液压，保持清洗槽11内出液液压均匀有力。

需要说明的是，流体可以为液体也可以为气体。

具体地，LD喷嘴为显影喷嘴中的一种，显影喷嘴应用于显影工艺。

在本实施例中，至少两个流体输送部20中的两个流体输送部20沿第一预设方向设置在清洗槽11的相对两侧；其中，清洗槽11沿第一预设方向具有相对设置的第一端和第二端，清洗槽11的第一端与清洗槽11的第二端之间的距离为清洗槽11的最大宽度；第一预设方向与清洗槽11的深度方向相垂直。这样的设置可以提供更充足的液量和更宽的液压、液量的调整范围，也为流体出口12的孔径提供更宽的尺寸选择。

在本实施例中，流体通道环绕清洗槽11设置；至少两个流体输送部20中的两个流体输送部20沿第一预设方向设置在清洗槽11的相对两侧，两个流体输送部20包括第一流体输送部和第二流体输送部；流体通道包括第一通道和第二通道，第一通道和第二通道设置在清洗槽11的相对两侧，第一通道和第二通道均沿第一预设方向延伸；流体通道还包括第三通道和第四通道，第三通道的第一端与第一通道的第一端连通，第三通道的第二端与第二通道的第一端连通；第四通道的第一端与第一通道的第二端连通，第四通道的第二端与第二通道的第二端连通；其中，第一流体输送部与第三通道连通，第二流体输送部与第四通道连通。

具体地，第一通道和第二通道均与流体出口12相连通。

在第一个实施例中，图中未示出，第一流体输送部包括一个第一流体进口211，第三通道沿其延伸方向具有第一中线，第一中线与第三通道的第一端之间的间距和第一中线与第三通道的第二端之间的间距相等；其中，第一流体进口211的中心线与第一中线相重合；第二流体输送部包括一个第二流体进口212，第四通道沿其延伸方向具有第二中线，第二中线与第四通道的第一端之间的间距和第二中线与第四通道的第二端之间的间距相等；其中，第二流体进口212的中心线与第二中线相重合。具体地，去离子水进入第一流体输送部和第二流体输送部内后，通过第三通道和第四通道连通到第一通道和第二通道，以通过流体出口12向槽体两侧供液。

在第二个实施例中，如图2所示，第一流体输送部包括两个第一流体进口211，两个第一流体进口211均与第三通道连通，一个第一流体进口211与第一通道的第一端相对设置，另一个第一流体进口211与第二通道的第一端相对设置；第二流体输送部包括两个第二流体进口212，两个第二流体进口212均与第四通道连通，一个第二流体进口212与第一通道的第二端相对设置，另一个第二流体进口212与第二通道的第二端相对设置。具体地，去离子水进入第一流体输送部后，通过一个第一流体进口211向第一通道供液，另一个第一流体进口211向第二通道供液；去离子水进入第二流体输送部后，通过一个第二流体进口212向第一通道供液，另一个第二流体进口212向第二通道供液，以通过流体出口12向槽体两侧供液。

在本实施例中，如图1所示，清洗结构10包括外壳13，外壳13包括第一壳体131和与第一壳体131连接的第二壳体132，第一壳体131形成清洗槽11，流体出口12设置于第一壳体131；第二壳体132环绕第一壳体131设置且二者共同围成流体通道；流体输送部20设置于第二壳体132。

在本实施例中，如图1和图2所示，第二壳体132沿第一预设方向具有相对设置的第一板段133和第二板段134，第一流体输送部设置于第一板段133，第二流体输送部设置于第二板段134。

具体地，第一壳体131包括第三板段和第四板段，第三板段和第二壳体132之间形成第一通道；第四板段和第二壳体132之间形成第二通道；其中，第三板段和第四板段上均设置有流体出口12。

在本实施例中，流体输送部20包括至少一个流体进口21，流体进口21与流体通道相连通。其中，流体进口21包括第一流体进口211和第二流体进口212。

在本实施例中，清洗装置还包括连接管路和水泵，连接管路与流体进口21连通；水泵设置于连接管路。这样的设置可以进一步提供更充足的液量和更宽的液压、液量的调整范围。

本实用新型还提供了一种涂胶显影机，包括清洗装置，其中，清洗装置为上述实施例中的清洗装置。

本申请的有益效果：采用清洗槽11两端进液，使得清洗槽11内去离子水水量充足，能有力冲洗干净喷嘴侧壁，避免对以后进入的晶圆由于喷嘴上的污染物造成线条型缺陷问题，进而提高良率，减少宕机带来的生产成本。两端进液，使得清洗槽11冲洗喷嘴的工艺窗口更大，清洗槽11的流体出口12的孔径大小要求变宽。

从以上的描述中，可以看出，本实用新型上述的实施例实现了如下技术效果：

本实用新型的清洗装置的流体输送部20用于向流体通道内通入流体，流体通道内的流体通过流体出口12流入清洗槽11，以对清洗槽11内的待清洗件进行清洗。该清洗装置的两个流体输送部20设置在清洗槽11的相对两侧，流体通过两端的流体输送部20同时进入清洗槽11内，以保证提供足够的流量和压力，使得清洗槽11内流体流量充足，能有力冲洗干净待清洗件，提高了清洗装置的清洗能力；具体地，流体为去离子水，待清洗件为喷嘴，该清洗装置能有力冲洗干净LD喷嘴侧壁，避免对以后进入的晶圆由于喷嘴上的污染物造成线条型缺陷的问题，进而提高良率，减少生产成本。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书及上述附图中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施方式例如能够以除了在这里图示或描述的那些以外的顺序实施。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含，例如，包含了一系列步骤或单元的过程、方法、系统、产品或设备不必限于清楚地列出的那些步骤或单元，而是可包括没有清楚地列出的或对于这些过程、方法、产品或设备固有的其它步骤或单元。

为了便于描述，在这里可以使用空间相对术语，如“在……之上”、“在……上方”、“在……上表面”、“上面的”等，用来描述如在图中所示的一个器件或特征与其他器件或特征的空间位置关系。应当理解的是，空间相对术语旨在包含除了器件在图中所描述的方位之外的在使用或操作中的不同方位。例如，如果附图中的器件被倒置，则描述为“在其他器件或构造上方”或“在其他器件或构造之上”的器件之后将被定位为“在其他器件或构造下方”或“在其他器件或构造之下”。因而，示例性术语“在……上方”可以包括“在……上方”和“在……下方”两种方位。该器件也可以其他不同方式定位(旋转90度或处于其他方位)，并且对这里所使用的空间相对描述作出相应解释。

以上所述仅为本实用新型的优选实施例而已，并不用于限制本实用新型，对于本领域的技术人员来说，本实用新型可以有各种更改和变化。凡在本实用新型的精神和原则之内，所作的任何修改、等同替换、改进等，均应包含在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种清洗装置，其特征在于，包括：

清洗结构(10)，包括清洗槽(11)和围绕所述清洗槽(11)设置的流体通道，所述清洗槽(11)设置有多个流体出口(12)，所述清洗槽(11)通过所述流体出口(12)与所述流体通道连通；

至少两个流体输送部(20)，至少两个所述流体输送部(20)绕所述流体通道的周向间隔设置，所述流体输送部(20)与所述流体通道连通，以向所述流体通道内通入流体；

其中，至少两个所述流体输送部(20)中的两个所述流体输送部(20)设置在所述清洗槽(11)的相对两侧。

2.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，至少两个所述流体输送部(20)中的两个所述流体输送部(20)沿第一预设方向设置在所述清洗槽(11)的相对两侧；

其中，所述清洗槽(11)沿第一预设方向具有相对设置的第一端和第二端，所述清洗槽(11)的第一端与所述清洗槽(11)的第二端之间的距离为所述清洗槽(11)的最大宽度；所述第一预设方向与所述清洗槽(11)的深度方向相垂直。

3.根据权利要求1所述的清洗装置，其特征在于，至少两个所述流体输送部(20)中的两个所述流体输送部(20)沿第一预设方向设置在所述清洗槽(11)的相对两侧，两个所述流体输送部(20)包括第一流体输送部和第二流体输送部；

所述流体通道包括第一通道和第二通道，所述第一通道和所述第二通道设置在所述清洗槽(11)的相对两侧，所述第一通道和所述第二通道均沿所述第一预设方向延伸；所述流体通道还包括第三通道和第四通道，所述第三通道的第一端与所述第一通道的第一端连通，所述第三通道的第二端与所述第二通道的第一端连通；所述第四通道的第一端与所述第一通道的第二端连通，所述第四通道的第二端与所述第二通道的第二端连通；

其中，所述第一流体输送部与所述第三通道连通，所述第二流体输送部与所述第四通道连通。

4.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述第一流体输送部包括一个第一流体进口(211)，所述第三通道沿其延伸方向具有第一中线，所述第一中线与所述第三通道的第一端之间的间距和所述第一中线与所述第三通道的第二端之间的间距相等；其中，所述第一流体进口(211)的中心线与所述第一中线相重合；

所述第二流体输送部包括一个第二流体进口(212)，所述第四通道沿其延伸方向具有第二中线，所述第二中线与所述第四通道的第一端之间的间距和所述第二中线与所述第四通道的第二端之间的间距相等；其中，所述第二流体进口(212)的中心线与所述第二中线相重合。

5.根据权利要求3所述的清洗装置，其特征在于，所述第一流体输送部包括两个第一流体进口(211)，两个所述第一流体进口(211)均与所述第三通道连通，一个所述第一流体进口(211)与所述第一通道的第一端相对设置，另一个所述第一流体进口(211)与第二通道的第一端相对设置；

所述第二流体输送部包括两个第二流体进口(212)，两个所述第二流体进口(212)均与所述第四通道连通，一个所述第二流体进口(212)与所述第一通道的第二端相对设置，另一个所述第二流体进口(212)与第二通道的第二端相对设置。

6.根据权利要求3至5中任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗结构(10)包括外壳(13)，所述外壳(13)包括第一壳体(131)和与所述第一壳体(131)连接的第二壳体(132)，所述第一壳体(131)形成所述清洗槽(11)，所述流体出口(12)设置于所述第一壳体(131)；所述第二壳体(132)环绕所述第一壳体(131)设置且二者共同围成所述流体通道；所述流体输送部(20)设置于所述第二壳体(132)。

7.根据权利要求6所述的清洗装置，其特征在于，所述第二壳体(132)沿所述第一预设方向具有相对设置的第一板段(133)和第二板段(134)，所述第一流体输送部设置于所述第一板段(133)，所述第二流体输送部设置于所述第二板段(134)。

8.根据权利要求1至3中任一项所述的清洗装置，其特征在于，所述流体输送部(20)包括至少一个流体进口(21)，所述流体进口(21)与所述流体通道相连通。

9.根据权利要求8所述的清洗装置，其特征在于，所述清洗装置还包括连接管路和水泵，所述连接管路与所述流体进口(21)连通；所述水泵设置于所述连接管路。

10.一种涂胶显影机，包括清洗装置，其特征在于，所述清洗装置为权利要求1至9中任一项所述的清洗装置。

Images