CN216054589U - 一种晶圆清洗用浸泡装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种晶圆清洗用浸泡装置，包括浸泡箱、升降式密封盖、竖向支撑台、升降驱动机构和摆动驱动机构，升降式密封盖设置在浸泡箱上方，浸泡箱中间设有隔板将其分隔成两个浸泡槽，隔板与浸泡箱的底面设有流通间隔，竖向支撑台设置在浸泡箱的后部；升降驱动机构包括伺服液压缸和滑动座，竖向支撑台的前部表面设置有两条直线导轨，摆动驱动机构包括两个电动推杆驱动组和两个固定座，两个固定座相对设置在滑动座上，两个电动推杆驱动组分别设置在两个固定座上，本实用新型能向多个提篮内放置晶圆片进行浸泡，同时在浸泡进行浸泡时，摆动驱动机构能驱动提篮进行摆动，被搅动的化学品不停冲击晶圆表面，加速了晶圆表面杂质的剥离速度。

Description

一种晶圆清洗用浸泡装置

技术领域

本实用新型涉及晶圆清洗设备技术领域，尤其涉及一种晶圆清洗用浸泡装置。

背景技术

半导体产品的加工过程主要包括晶圆制造(前道)和封装(后道)测试，随着先进封装技术的渗透，出现介于晶圆制造和封装之间的加工环节，称为中道。在这三道加工环节中最复杂的是晶圆制造和封装。

晶圆生产线可以分成7个独立的生产区域：扩散、光刻、刻蚀、离子注入、薄膜生长、抛光、金属化。在这几个生产区都放置有若干的晶圆清洗设备，以满足不同工艺过程中的清洗要求。在某些工艺制程中因特殊的工艺要求,需将晶圆浸泡在化学品里面一段时间，然后取出进行下一步的工艺。目前，晶圆在浸泡槽内的浸泡时间大约为30分钟，如果可以缩短晶圆的浸泡时间，将会大幅提高晶圆的清洗效率。

实用新型内容

实用新型目的：为了解决背景技术中存在的不足，所以本实用新型公开了一种晶圆清洗用浸泡装置。

技术方案：一种晶圆清洗用浸泡装置，包括浸泡箱、升降式密封盖、竖向支撑台、升降驱动机构和摆动驱动机构，所述升降式密封盖设置在浸泡箱上方，所述浸泡箱中间设有隔板将其分隔成两个浸泡槽，所述隔板与浸泡箱的底面设有流通间隔，所述竖向支撑台设置在浸泡箱的后部；

所述升降驱动机构包括伺服液压缸和滑动座，所述竖向支撑台的前部表面设置有两条直线导轨，所述滑动座滑接在两条直线导轨上，所述竖向支撑台的底部设置有安装板，所述伺服液压缸固设在安装板的顶部，且所述伺服液压缸的伸缩轴穿过安装板与滑动座固接；

所述摆动驱动机构包括两个电动推杆驱动组和两个固定座，两个所述固定座相对设置在滑动座上，两个所述电动推杆驱动组分别设置在两个固定座上，两个所述电动驱动组均连接有用于装载晶圆的提篮。

进一步的是，所述浸泡箱的侧边顶部设置有注液口、底部设置有排液口。

进一步的是，所述排液口处安装有排液控制阀。

进一步的是，所述升降式密封盖包括密封盖本体、两个L形支架和两个电动推杆A，所述两个L形支架相对设置在浸泡箱的两侧，每个所述电动推杆A均设置在L形支架的顶部，且每个所述电动推杆A的伸缩端均穿过L形支架与密封板本体固接。

进一步的是，每个所述电动推杆驱动组均包括两个电动推杆B，且每个所述电动推杆B的输出端均通过铰接轴与提篮连接。

进一步的是，所述密封盖本体的顶部设置有四个用于电动推杆B穿过的让位槽。

本实用新型实现以下有益效果：

本实用新型能向多个提篮内放置晶圆片进行浸泡，同时在浸泡进行浸泡时，摆动驱动机构能驱动提篮进行摆动，被搅动的化学品不停冲击晶圆表面，加速了晶圆表面杂质的剥离速度。

附图说明

此处的附图被并入说明书中并构成本说明书的一部分，示出了符合本公开的实施例，并与说明书一起用于解释本公开的原理。

图1为本实用新型公开的整体结构示意图。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。

实施例

参考图1，一种晶圆清洗用浸泡装置，包括浸泡箱10、升降式密封盖、竖向支撑台、升降驱动机构和摆动驱动机构，升降式密封盖设置在浸泡箱上方，浸泡箱中间设有隔板12将其分隔成两个浸泡槽11，隔板与浸泡箱的底面设有流通间隔13，竖向支撑台设置在浸泡箱的后部；

升降驱动机构包括伺服液压缸30和滑动座34，竖向支撑台32的前部表面设置有两条直线导轨31，滑动座滑接在两条直线导轨上，竖向支撑台的底部设置有安装板，伺服液压缸固设在安装板33的顶部，且伺服液压缸的伸缩轴穿过安装板与滑动座固接；

摆动驱动机构包括两个电动推杆驱动组和两个固定座35，两个固定座相对设置在滑动座上，两个电动推杆驱动组分别设置在两个固定座上，两个电动驱动组均连接有用于装载晶圆的提篮。

在本实施例中，浸泡箱的侧边顶部设置有注液口14、底部设置有排液口15，以用于化学液的进料与出料。

在本实施例中，排液口处安装有排液控制阀16，在排液控制阀打开的状态下，处在浸泡箱内的液体将会被排出。

在本实施例中，升降式密封盖包括密封盖本体20、两个L形支架23和两个电动推杆A21，两个L形支架相对设置在浸泡箱的两侧，每个电动推杆A均设置在L形支架的顶部，且每个电动推杆A的伸缩端均穿过L形支架与密封板本体固接，在晶圆片上料结束后，在两个电动推杆A的驱动下，密封盖本体实现对浸泡箱进行密封，这样在提篮摆动的过程中不易有大量的化学液溅出。

在本实施例中，每个电动推杆驱动组均包括两个电动推杆B40，且每个电动推杆B的输出端均通过铰接轴41与提篮42连接，通过在电动推杆B的输出端设置铰接轴与提篮连接，这样有利于提高提篮的摆动灵活度，进而使化学液能快速的冲击晶圆片表面，缩短了晶圆片的浸泡时间。

在本实施例中，密封盖本体的顶部设置有四个用于电动推杆B穿过的让位槽22，在伺服液压缸驱动滑动座下降时，两个电动推杆驱动组件所包括的四个电动推杆B再四个让位槽中升降。

本实用新型的工作原理为：开始前，升降式密封盖处于升起状态，且升降驱动机构未摆动驱动机构下降，这时，操作人员将待浸泡的晶圆放置在两个提篮中，放置结束后，两个电动推杆A带动密封盖本体下降将浸泡箱密封，伺服液压缸驱动滑动座开始下降，与此同时设置在两个固定座上的两个电动推杆驱动组件也开始下降，到位后，每个电动推杆驱动所包括的两个电动推杆B交替驱动提篮升降，这样就提篮就可以使提篮进行摆动，从而高效的实现了对晶圆片进行浸泡。

上述实施例只为说明本实用新型的技术构思及特点，其目的是让熟悉该技术领域的技术人员能够了解本实用新型的内容并据以实施，并不能以此来限制本实用新型的保护范围。凡根据本实用新型精神实质所作出的等同变换或修饰，都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

Claims (6)

1.一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，包括浸泡箱、升降式密封盖、竖向支撑台、升降驱动机构和摆动驱动机构，所述升降式密封盖设置在浸泡箱上方，所述浸泡箱中间设有隔板将其分隔成两个浸泡槽，所述隔板与浸泡箱的底面设有流通间隔，所述竖向支撑台设置在浸泡箱的后部；

所述升降驱动机构包括伺服液压缸和滑动座，所述竖向支撑台的前部表面设置有两条直线导轨，所述滑动座滑接在两条直线导轨上，所述竖向支撑台的底部设置有安装板，所述伺服液压缸固设在安装板的顶部，且所述伺服液压缸的伸缩轴穿过安装板与滑动座固接；

所述摆动驱动机构包括两个电动推杆驱动组和两个固定座，两个所述固定座相对设置在滑动座上，两个所述电动推杆驱动组分别设置在两个固定座上，两个所述电动驱动组均连接有用于装载晶圆的提篮。

2.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，所述浸泡箱的侧边顶部设置有注液口、底部设置有排液口。

3.根据权利要求2所述的一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，所述排液口处安装有排液控制阀。

4.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，所述升降式密封盖包括密封盖本体、两个L形支架和两个电动推杆A，所述两个L形支架相对设置在浸泡箱的两侧，每个所述电动推杆A均设置在L形支架的顶部，且每个所述电动推杆A的伸缩端均穿过L形支架与密封板本体固接。

5.根据权利要求1所述的一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，每个所述电动推杆驱动组均包括两个电动推杆B，且每个所述电动推杆B的输出端均通过铰接轴与提篮连接。

6.根据权利要求4或5所述的一种晶圆清洗用浸泡装置，其特征在于，所述密封盖本体的顶部设置有四个用于电动推杆B穿过的让位槽。

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