CN215976035U - 一种pecvd沉积腔室 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及PECVD技术领域，尤其为一种PECVD沉积腔室，包括壳体和转轴，所述壳体的内部活动连接有支撑柱，且支撑柱的内部固定连接有轴承，所述转轴位于轴承的内部，且转轴的下方固定连接有电机，所述电机的下方固定连接有支撑座，所述转轴的上方固定连接有固定盘，且固定盘的上方活动连接有安装盘，所述安装盘的上方固定连接有固定柱，且固定柱的右侧固定连接有载具，所述载具的上方垂直安设有反应室，且反应室的内部开设有凹槽，所述凹槽的内部活动连接有定位块，且定位块的内部开设有螺纹槽，该装置能够依次对多个待加工工件采用PECVD腔室沉积，从而提高了加工反应的效率，同时该装置结构简单，使得维修方便，从而提高装置使用的寿命。

Description

一种PECVD沉积腔室

技术领域

本实用新型涉及PECVD技术领域，具体为一种PECVD沉积腔室。

背景技术

PECVD是指等离子体增强化学的气相沉积法，这种方法有很多优点，比如成膜质量好等，PECVD是借助微波或射频等使含有薄膜成分原子的气体电离，在局部形成等离子体，而等离子体化学活性很强，很容易发生反应，在基片上沉积出所期望的薄膜，为了使化学反应能在较低的温度下进行，利用了等离子体的活性来促进反应，因而这种CVD称为等离子体增强化学气相沉积。

现有的PECVD技术，每一种薄膜采用一个PECVD腔室沉积，使得每次只能单独沉积，不与其他种薄膜PECVD沉积腔室混用，从而降低了加工的效率。

因此需要一种PECVD沉积腔室对上述问题做出改善。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种PECVD沉积腔室，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：

一种PECVD沉积腔室，包括壳体和转轴，所述壳体的内部活动连接有支撑柱，且支撑柱的内部固定连接有轴承，所述转轴位于轴承的内部，且转轴的下方固定连接有电机，所述电机的下方固定连接有支撑座，所述转轴的上方固定连接有固定盘，且固定盘的上方活动连接有安装盘，所述安装盘的上方固定连接有固定柱，且固定柱的右侧固定连接有载具，所述载具的上方垂直安设有反应室，且反应室的内部开设有凹槽，所述凹槽的内部活动连接有定位块，且定位块的内部开设有螺纹槽，所述螺纹槽的内部活动连接有锁止杆，且锁止杆的左侧垂直安设有电极板，所述反应室的上方垂直安设有进气管，且进气管的上方固定连接有连接盘。

作为本实用新型优选的方案，所述壳体的内表面与支撑座的下表面之间紧密贴合，且电机的呈垂直状安置于支撑座的上表面。

作为本实用新型优选的方案，所述轴承的内部尺寸与转轴的外部尺寸相吻合，且转轴的上表面与固定盘的下表面之间紧密贴合。

作为本实用新型优选的方案，所述固定盘的中轴线与安装盘的中轴线相重合，且安装盘的上表面与固定柱的下表面之间紧密贴合。

作为本实用新型优选的方案，所述凹槽的呈对称状安置于反应室的内部，且电极板通过定位块与凹槽构成滑动结构。

作为本实用新型优选的方案，所述定位块的中轴线与螺纹槽的中轴线相重合，且螺纹槽的内部尺寸与锁止杆的外部尺寸相吻合。

作为本实用新型优选的方案，所述进气管呈垂直状安置于连接盘的下表面，且进气管的下表面与反应室的上表面。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

1、本实用新型中，通过设置的壳体、轴承、转轴、电机、支撑座和固定盘之间的配合设置，支撑座通过螺栓固定在壳体的内部，便于使用者对电机进行维护，同时轴承能够减小转轴旋转运动过程中的摩擦系数，从而使得转轴能够带动固定盘旋转。

2、本实用新型中，通过设置的固定盘、安装盘、固定柱、反应室、凹槽、定位块和电极板之间的配合设置，固定盘通过螺栓与安装盘进行固定，使得固定柱在电机的运行下，带载具旋转，同时电极板通过定位块安装在凹槽的内部，使得两电极板能够稳定的形成等离子体。

3、本实用新型中，通过设置的反应室、定位块、螺纹槽、锁止杆、进气管和连接盘之间的配合设置，锁止杆通过螺纹槽的螺纹配合，能够对定位块起到固定的作用，同时进气管通过焊接与连接盘进行固定，使得气体流至反应室的内部。

附图说明

图1为本实用新型的立体图；

图2为本实用新型的主视剖视结构示意图；

图3为本实用新型的图2中A处放大结构示意图；

图4为本实用新型的侧视结构示意图。

图中：1、壳体；2、支撑柱；3、轴承；4、转轴；5、电机；6、支撑座；7、固定盘；8、安装盘；9、固定柱；10、载具；11、反应室；12、凹槽；13、定位块；14、螺纹槽；15、锁止杆；16、电极板；17、进气管；18、连接盘。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例，基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

为了便于理解本实用新型，下面将参照相关对本实用新型进行更全面的描述。给出了本实用新型的若干实施例。但是，本实用新型可以以许多不同的形式来实现，并不限于本文所描述的实施例。相反地，提供这些实施例的目的是使对本实用新型的公开内容更加透彻全面。

需要说明的是，当元件被称为“固设于”另一个元件，它可以直接在另一个元件上或者也可以存在居中的元件。当一个元件被认为是“连接”另一个元件，它可以是直接连接到另一个元件或者可能同时存在居中元件。本文所使用的术语“垂直的”、“水平的”、“左”、“右”以及类似的表述只是为了说明的目的。

除非另有定义，本文所使用的所有的技术和科学术语与属于本实用新型的技术领域的技术人员通常理解的含义相同。本文中在本实用新型的说明书中所使用的术语只是为了描述具体的实施例的目的，不是旨在于限制本实用新型。本文所使用的术语“及/或”包括一个或多个相关的所列项目的任意的和所有的组合。

请参阅图1-4，本实用新型提供一种技术方案：

实施例1，请参照图1、2、3和4，一种PECVD沉积腔室，包括壳体1和转轴4，壳体1的内部活动连接有支撑柱2，且支撑柱2的内部固定连接有轴承3，转轴4位于轴承3的内部，且转轴4的下方固定连接有电机5，电机5的下方固定连接有支撑座6，转轴4的上方固定连接有固定盘7，且固定盘7的上方活动连接有安装盘8，安装盘8的上方固定连接有固定柱9，且固定柱9的右侧固定连接有载具10，载具10的上方垂直安设有反应室11，且反应室11的内部开设有凹槽12，凹槽12的内部活动连接有定位块13，且定位块13的内部开设有螺纹槽14，螺纹槽14的内部活动连接有锁止杆15，且锁止杆15的左侧垂直安设有电极板16，反应室11的上方垂直安设有进气管17，且进气管17的上方固定连接有连接盘18。

实施例2，请参照图1、2、3和4，壳体1的内表面与支撑座6的下表面之间紧密贴合，且电机5的呈垂直状安置于支撑座6的上表面，轴承3的内部尺寸与转轴4的外部尺寸相吻合，且转轴4的上表面与固定盘7的下表面之间紧密贴合，壳体1、轴承3、转轴4、电机5、支撑座6和固定盘7之间的配合设置，支撑座6通过螺栓固定在壳体1的内部，便于使用者对电机5进行维护，同时轴承3能够减小转轴4旋转运动过程中的摩擦系数，从而使得转轴4能够带动固定盘7旋转。

实施例3，请参照图1、2、3和4，固定盘7的中轴线与安装盘8的中轴线相重合，且安装盘8的上表面与固定柱9的下表面之间紧密贴合，凹槽12的呈对称状安置于反应室11的内部，且电极板16通过定位块13与凹槽12构成滑动结构，固定盘7、安装盘8、固定柱9、反应室11、凹槽12、定位块13和电极板16之间的配合设置，固定盘7通过螺栓与安装盘8进行固定，使得固定柱9在电机5的运行下，带载具10旋转，同时电极板16通过定位块13安装在凹槽12的内部，使得两电极板16能够稳定的形成等离子体。

实施例4，请参照图1、2、3和4，定位块13的中轴线与螺纹槽14的中轴线相重合，且螺纹槽14的内部尺寸与锁止杆15的外部尺寸相吻合，进气管17呈垂直状安置于连接盘18的下表面，且进气管17的下表面与反应室11的上表面，反应室11、定位块13、螺纹槽14、锁止杆15、进气管17和连接盘18之间的配合设置，锁止杆15通过螺纹槽14的螺纹配合，能够对定位块13起到固定的作用，同时进气管17通过焊接与连接盘18进行固定，使得气体流至反应室11的内部。

工作原理：使用时，使用者将设备通过连接盘18与进气管17进行固定，将电极板16通过定位块13安装至反应室11内部的凹槽12中，旋转锁止杆15，锁止杆15与螺纹槽14配合，使得电极板16固定在反应室11的内部，其次使用者将待加工工件分别放置到载具10上，电机5(型号：Y80M1-2)通过轴承3带动转轴4旋转，转轴4通过固定盘7和安装盘8带动固定柱9按一定角度旋转，当载具10旋转至反应室11处，气体通过进气管17进入反应室11中，两个电极板16通电，经过射频之后两者之间形成等离子体，由于等离子体化学活性很强，很容易发生反应，从而在待加工工件上沉积出，其次在电机5的作用下，依次对后面的待加工工件进行反应，从而提高工作的效率。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (7)

1.一种PECVD沉积腔室，包括壳体(1)和转轴(4)，其特征在于：所述壳体(1)的内部活动连接有支撑柱(2)，且支撑柱(2)的内部固定连接有轴承(3)，所述转轴(4)位于轴承(3)的内部，且转轴(4)的下方固定连接有电机(5)，所述电机(5)的下方固定连接有支撑座(6)，所述转轴(4)的上方固定连接有固定盘(7)，且固定盘(7)的上方活动连接有安装盘(8)，所述安装盘(8)的上方固定连接有固定柱(9)，且固定柱(9)的右侧固定连接有载具(10)，所述载具(10)的上方垂直安设有反应室(11)，且反应室(11)的内部开设有凹槽(12)，所述凹槽(12)的内部活动连接有定位块(13)，且定位块(13)的内部开设有螺纹槽(14)，所述螺纹槽(14)的内部活动连接有锁止杆(15)，且锁止杆(15)的左侧垂直安设有电极板(16)，所述反应室(11)的上方垂直安设有进气管(17)，且进气管(17)的上方固定连接有连接盘(18)。

2.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述壳体(1)的内表面与支撑座(6)的下表面之间紧密贴合，且电机(5)的呈垂直状安置于支撑座(6)的上表面。

3.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述轴承(3)的内部尺寸与转轴(4)的外部尺寸相吻合，且转轴(4)的上表面与固定盘(7)的下表面之间紧密贴合。

4.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述固定盘(7)的中轴线与安装盘(8)的中轴线相重合，且安装盘(8)的上表面与固定柱(9)的下表面之间紧密贴合。

5.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述凹槽(12)的呈对称状安置于反应室(11)的内部，且电极板(16)通过定位块(13)与凹槽(12)构成滑动结构。

6.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述定位块(13)的中轴线与螺纹槽(14)的中轴线相重合，且螺纹槽(14)的内部尺寸与锁止杆(15)的外部尺寸相吻合。

7.根据权利要求1所述的一种PECVD沉积腔室，其特征在于：所述进气管(17)呈垂直状安置于连接盘(18)的下表面，且进气管(17)的下表面与反应室(11)的上表面。

Images