CN215887212U - 一种真空镀膜机的靶材保护结构 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种真空镀膜机的靶材保护结构，包括：防护罩、转盘、支架和电动旋转平台，所述转盘底部中央通过卡接有电动旋转平台，所述防护罩一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板，所述支架顶部一侧位于密封板上方通过卡接固定连接有气缸，本实用新型通过将靶材放置在转盘上阵列排布的安装槽内部，在进行镀膜前，启动气缸带动密封板以及密封条上升，使得密封条与转盘分离，启动电动旋转平台带动转盘转动固定角度后，使得需要的靶材转动至防护罩外侧溅射镀膜工位，随后控制电动旋转平台停止，控制气缸活塞杆下降，使得密封板与密封条对防护罩开口处进行密封，防止溅射镀膜过程中对防护罩内部的靶材造成污染。

Description

一种真空镀膜机的靶材保护结构

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜机技术领域，具体为一种真空镀膜机的靶材保护结构。

背景技术

真空镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空电阻加热蒸发，电子枪加热蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积，离子束溅射等很多种。主要思路是分成蒸发和溅射两种。需要镀膜的被称为基片，镀的材料被称为靶材。基片与靶材同在真空腔中。

目前常用的真空镀膜设备是磁控溅射真空镀膜机，在测溅射中所使用的靶材一般有三种类型，金属靶材、合金靶材、化合物靶材。一般电子产品需要使用的靶材有很多，在镀膜面上镀上多层的薄膜，每层薄膜有各自的功效。

但是，现有的真空镀膜机在使用过程中存在一些弊端，比如：

目前在真空镀膜机在使用时，是采用离子去轰击相应的靶材，使得相应的靶材沉积在待加工的工件表面，在相应的靶材沉积在待加工的工件表面的时候，其他的不在工作状态的靶材也收到正在工作中的靶材的影响，这样就会使得膜层不纯，从而导致生产出的代加工件的性能无法达标。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空镀膜机的靶材保护结构，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种真空镀膜机的靶材保护结构，包括：防护罩、转盘、支架和电动旋转平台，所述防护罩下半部内壁通过卡接滑动连接有转盘，所述转盘底部中央通过卡接有电动旋转平台，所述防护罩一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板，所述密封板底部通过卡接固定连接有密封条，所述防护罩顶部一侧通过卡接固定连接有支架，所述支架顶部一侧位于密封板上方通过卡接固定连接有气缸，所述气缸底部一端通过卡接与密封板顶部一侧固定连接。

进一步的，所述转盘顶面阵列开设有靶材安装槽，便于靶材的安装固定，阵列排布便于转盘转动固定角度后实现靶材的切换。

进一步的，所述防护罩侧壁与转盘卡接部位开设有滑槽，便于转盘在防护罩上滑动的同时保证密封效果。

进一步的，所述防护罩侧壁与密封板卡接部位开设有滑槽，便于密封板在防护罩上滑动的同时保证密封效果。

进一步的，所述转盘顶部位于密封条下方开设有密封槽，便于转盘与密封条的密封，防止在溅射镀膜过程中对防护罩内部的靶材造成污染。

进一步的，所述气缸的行程大于靶材的厚度，便于气缸带动密封板以及密封条提升后，保证靶材能够自由通过密封条底部与转盘顶面的间隙，防止运动干涉。

与现有技术相比，本实用新型的有益效果是：

本实用新型通过设置的转盘、防护罩以及电动旋转平台，实现了在真空镀膜机的靶材保护结构使用时，通过将靶材放置在转盘上阵列排布的安装槽内部，在进行镀膜前，启动气缸带动密封板以及密封条上升，使得密封条与转盘分离，启动电动旋转平台带动转盘转动固定角度后，使得需要的靶材转动至防护罩外侧溅射镀膜工位，随后控制电动旋转平台停止，控制气缸活塞杆下降，使得密封板与密封条对防护罩开口处进行密封，防止溅射镀膜过程中对防护罩内部的靶材造成污染，同理在需要其他靶材时，移动相应靶材至溅射镀膜工位即可，整个装置结构简单，自动化程度高，便于保护靶材的同时，提升了溅射镀膜的效率。

附图说明

图1为本实用新型整体主视结构剖视示意图；

图2为本实用新型整体左视结构剖视示意图；

图3为本实用新型整体俯视结构剖视示意图。

图中：1-防护罩；2-转盘；3-密封条；4-密封板；5-气缸；6-支架；7-电动旋转平台。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。

请参阅图1-3，本实用新型提供一种技术方案：一种真空镀膜机的靶材保护结构，包括：防护罩1、转盘2、支架6和电动旋转平台，防护罩1下半部内壁通过卡接滑动连接有转盘2，转盘2底部中央通过卡接有电动旋转平台7，防护罩1一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板4，密封板4底部通过卡接固定连接有密封条3，防护罩1顶部一侧通过卡接固定连接有支架6，支架6顶部一侧位于密封板4上方通过卡接固定连接有气缸5，气缸5底部一端通过卡接与密封板4顶部一侧固定连接，转盘2顶面阵列开设有靶材安装槽，便于靶材的安装固定，阵列排布便于转盘2转动固定角度后实现靶材的切换，防护罩1侧壁与转盘2卡接部位开设有滑槽，便于转盘2在防护罩1上滑动的同时保证密封效果，防护罩1侧壁与密封板4卡接部位开设有滑槽，便于密封板4在防护罩1上滑动的同时保证密封效果，转盘2顶部位于密封条3下方开设有密封槽，便于转盘2与密封条3的密封，防止在溅射镀膜过程中对防护罩1内部的靶材造成污染，气缸5的行程大于靶材的厚度，便于气缸5带动密封板4以及密封条3提升后，保证靶材能够自由通过密封条3底部与转盘2顶面的间隙，防止运动干涉。

工作原理：在真空镀膜机的靶材保护结构使用时，通过将靶材放置在转盘2上阵列排布的安装槽内部，在进行镀膜前，启动气缸5带动密封板4以及密封条3上升，使得密封条3与转盘2分离，启动电动旋转平台7带动转盘2转动固定角度后，使得需要的靶材转动至防护罩1外侧溅射镀膜工位，随后控制电动旋转平台7停止，控制气缸5活塞杆下降，使得密封板4与密封条3对防护罩1开口处进行密封，防止溅射镀膜过程中对防护罩1内部的靶材造成污染，同理在需要其他靶材时，移动相应靶材至溅射镀膜工位即可，整个装置结构简单，自动化程度高，便于保护靶材的同时，提升了溅射镀膜的效率。

需要说明的是，在本文中，诸如第一和第二等之类的关系术语仅仅用来将一个实体或者操作与另一个实体或操作区分开来，而不一定要求或者暗示这些实体或操作之间存在任何这种实际的关系或者顺序。而且，术语“包括”、“包含”或者其任何其他变体意在涵盖非排他性的包含，从而使得包括一系列要素的过程、方法、物品或者设备不仅包括那些要素，而且还包括没有明确列出的其他要素，或者是还包括为这种过程、方法、物品或者设备所固有的要素。

尽管已经示出和描述了本实用新型的实施例，对于本领域的普通技术人员而言，可以理解在不脱离本实用新型的原理和精神的情况下可以对这些实施例进行多种变化、修改、替换和变型，本实用新型的范围由所附权利要求及其等同物限定。

Claims (6)

1.一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于，包括：

防护罩(1)；

转盘(2)；

支架(6)；

电动旋转平台，

其中，所述防护罩(1)下半部内壁通过卡接滑动连接有转盘(2)，所述转盘(2)底部中央通过卡接有电动旋转平台(7)，所述防护罩(1)一端两侧内壁通过卡接滑动连接有密封板(4)，所述密封板(4)底部通过卡接固定连接有密封条(3)，所述防护罩(1)顶部一侧通过卡接固定连接有支架(6)，所述支架(6)顶部一侧位于密封板(4)上方通过卡接固定连接有气缸(5)，所述气缸(5)底部一端通过卡接与密封板(4)顶部一侧固定连接。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于：所述转盘(2)顶面阵列开设有靶材安装槽。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于：所述防护罩(1)侧壁与转盘(2)卡接部位开设有滑槽。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于：所述防护罩(1)侧壁与密封板(4)卡接部位开设有滑槽。

5.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于：所述转盘(2)顶部位于密封条(3)下方开设有密封槽。

6.根据权利要求1所述的一种真空镀膜机的靶材保护结构，其特征在于：所述气缸(5)的行程大于靶材的厚度。

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