CN215815813U - 一种便于操作的双工位喷淋清洗机 - Google Patents
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Abstract
本实用新型属于喷淋清洁技术领域，尤其为一种便于操作的双工位喷淋清洗机，包括清洗机本体，所述圆弧工作载台分为两个相同的左工位台及右工位台，所述左工位台及所述右工位台中心位置均设有摆动台组件，所述左工位台及右工位台顶部均环形等距分布有三个喷淋清洁组件，所述喷淋清洁组件包括摆动俯冲喷淋头，斜向喷淋头及风干吹气头；驱动件通过支撑臂带动支撑载台进行弧形摆动，旋转盘带动晶元进行旋转，摆动俯冲喷淋头对晶元表面进行摆动俯冲喷淋，喷淋结束后旋转盘及晶元旋转至斜向喷淋头处，对晶元进行斜向喷淋，当斜向喷淋结束后旋转盘及晶元旋转至风干吹气头处，晶元进行转动进行吹气风干，三部清洁流程提高了冲刷效率，提升了清洁质量。
Description
技术领域
本实用新型属于喷淋清洁技术领域，具体涉及一种便于操作的双工位喷淋清洗机。
背景技术
喷淋清洗机在制造业中出现的形式多样，广泛适用于饰品、钟表、表壳的抛光腊及污垢，电子零件及电子、电脑线路板上的助焊剂、松香，精密器件上的油脂，目前使用的喷淋清洗机大多采用顶部俯冲喷淋方式，喷淋角度较为单一。
实用新型内容
目前使用的喷淋清洗机大多采用传统的俯冲喷淋，喷淋角度较为单一，应对斜面夹角处的脏污清洁效果较差，本实用新型提供了一种便于操作的双工位喷淋清洗机，采用三部清洁流程使清洁效率更高的特点。
本实用新型提供如下技术方案：包括清洗机本体，所述清洗机本体内设有圆弧工作载台，所述圆弧工作载台分为两个完全相同的左工位台及右工位台，所述左工位台及所述右工位台中心位置均设有用于旋转摆动的摆动台组件，所述摆动台组件包括驱动件及支撑载台，所述驱动件与所述支撑载台通过支撑臂固定连接，所述支撑载台顶部转动连接有用于放置晶元的旋转盘，所述左工位台及右工位台顶部均环形等距分布有三个用于喷淋清洁的喷淋清洁组件，所述喷淋清洁组件包括摆动俯冲喷淋头，斜向喷淋头及风干吹气头，所述喷淋清洁组件与所述清洗机本体内壁顶部固定连接。
其中，所述清洗机本体侧壁设有用于对所述圆弧工作载台进行密封的透明塑料门挡。
其中，所述左工位台与所述右工位台之间设有分隔板，所述分隔板与所述清洗机本体内壁顶部固定连接。
其中，所述清洗机本体内部设于用于进行废液收集的排水管，所述排水管位于所述圆弧工作载台底部。
其中，所述左工位台及所述右工位台内均开设有便于所述支撑载台摆动的限位滑道，所述支撑载台底部与所述限位滑道滑动连接。
其中，所述支撑载台上设有四个等距分布用于对晶元进行夹持对位的对位夹持块，所述对位夹持块分布于所述旋转盘侧壁。
其中，所述旋转盘上设有用于对晶元进行吸附固定的紧固吸盘。
其中，所述旋转盘上设有用于对晶元进行支撑便于手臂进行拿取的伸缩支撑胶杆。
本实用新型的有益效果是：驱动件通过支撑臂带动支撑载台进行弧形摆动，进行各道流程的清洁作业，摆动俯冲喷淋头对晶元表面进行摆动俯冲喷淋，喷淋结束后支撑载台及其顶部转动连接的旋转盘及晶元旋转至斜向喷淋头处，对晶元进行斜向喷淋，当斜向喷淋结束后旋转盘及晶元旋转至风干吹气头处，此时支撑载台内部的电机对旋转盘进行转动驱动，使晶元进行转动进行吹气风干，避免晶元上残存的水分腐蚀晶元，采用三部清洁流程使清洁效率更高，摆动俯冲喷淋头对晶元进行俯冲喷淋，对晶元表面杂物进行喷淋冲刷，将粘附较牢的异物进行打散，斜向喷淋头对晶元进行斜向冲刷将杂物从晶元一端冲刷至另一端去除，对打撒的异物进行斜向冲刷去除，风干吹气头将喷淋清洗完毕的晶元进行风干去水，避免水气腐蚀晶元内电路，提高了冲刷效率，提升了清洁质量。
该装置中未涉及部分均与现有技术相同或可采用现有技术加以实现。
附图说明
图1为本实用新型立体结构示意图；
图2为本实用新型圆弧工作载台立体结构示意图；
图3为本实用新型圆弧工作载台俯视结构示意图；
图4为本实用新型摆动台组件运动状态下结构示意图；
图中：1、清洗机本体；2、圆弧工作载台；3、摆动台组件；4、喷淋清洁组件；11、透明塑料门挡；12、分隔板；13、排水管；21、左工位台；22、右工位台；23、限位滑道；31、驱动件；32、支撑载台；33、支撑臂；34、对位夹持块；321、旋转盘；322、紧固吸盘；323、伸缩支撑胶杆；41、摆动俯冲喷淋头；42、斜向喷淋头；43、风干吹气头。
具体实施方式
请参阅图1-图4，本实用新型提供以下技术方案：包括清洗机本体1，清洗机本体1内设有圆弧工作载台2，圆弧工作载台2分为两个完全相同的左工位台21及右工位台22，左工位台21及右工位台22中心位置均设有用于旋转摆动的摆动台组件3，摆动台组件3包括驱动件31及支撑载台32，驱动件31与支撑载台32通过支撑臂33固定连接，支撑载台32顶部转动连接有用于放置晶元的旋转盘321，左工位台21及右工位台22顶部均环形等距分布有三个用于喷淋清洁的喷淋清洁组件4，喷淋清洁组件4包括摆动俯冲喷淋头41，斜向喷淋头42及风干吹气头43，喷淋清洁组件4与清洗机本体1内壁顶部固定连接。
本实施方案中：清洗机本体1用于承载圆弧工作载台2并对其进行密封，清洗机本体1内部设有的圆弧工作载台2分为两个完全相同的左工位台21及右工位台22，圆弧工作载台2为孔隙钢板，便于废水排出，避免废水在圆弧工作载台2上堆积影响清洁效果，在左工位台21及右工位台22中心位置均设有用于旋转摆动的摆动台组件3，摆动台组件3包括驱动件31及支撑载台32，驱动件31与支撑载台32通过支撑臂33固定连接，驱动件31通过支撑臂33带动支撑载台32进行弧形摆动，进行各道流程的清洁作业，支撑载台32顶部转动连接有用于放置晶元的旋转盘321，支撑载台32通过电机驱动其顶部的旋转盘321进行转动带动旋转盘321上放置的晶元进行旋转，使清洁过程中晶元各个位置都会被清洗冲刷到，使清洁面积更广，左工位台21及右工位台22顶部均环形等距分布有三个用于喷淋清洁的喷淋清洁组件4，喷淋清洁组件4包括摆动俯冲喷淋头41，斜向喷淋头42及风干吹气头43，喷淋清洁组件4与清洗机本体1内壁顶部固定连接，当外部手臂从清洗机本体1开放端将晶元放置于位于左工位台21及右工位台22的旋转盘321上时，两侧的旋转盘321均带动晶元进行旋转，此时摆动俯冲喷淋头41对晶元表面进行摆动俯冲喷淋，喷淋结束后左工位台21及右工位台22中心位置设置的驱动件31通过支撑臂33带动支撑载台32及其顶部转动连接的旋转盘321及晶元旋转至斜向喷淋头42处，对晶元进行斜向喷淋，此时支撑载台32内部的电机停止对旋转盘321进行转动驱动，使晶元保持静止状态进行斜向喷淋，避免晶元转动时斜向喷淋将晶元上的脏污聚集与晶元中心位置，当斜向喷淋结束后驱动件31通过支撑臂33带动支撑载台32及其顶部转动连接的旋转盘321及晶元旋转至风干吹气头43处，此时支撑载台32内部的电机对旋转盘321进行转动驱动，使晶元进行转动进行吹气风干，避免晶元上残存的水分腐蚀晶元，当吹干结束后驱动件31通过支撑臂33带动支撑载台32及其顶部转动连接的旋转盘321及晶元旋转至清洗机本体1开放端，外部手臂对晶元进行拿取，摆动俯冲喷淋头41对晶元进行俯冲喷淋，对晶元表面杂物进行喷淋冲刷，将粘附较牢的异物进行打散，斜向喷淋头42对晶元进行斜向冲刷将杂物从晶元一端冲刷至另一端去除，对打撒的异物进行斜向冲刷去除，风干吹气头43将喷淋清洗完毕的晶元进行风干去水，避免水气腐蚀晶元内电路。
清洗机本体1侧壁设有用于对圆弧工作载台2进行密封的透明塑料门挡11；透明塑料门挡11用于对圆弧工作载台2进行密封，避免喷淋时水喷溅至清洗机本体1外部造成污染，且避免清洗机本体1一直保持开放造成圆弧工作载台2污染，透明材质便于人员从外部观察圆弧工作载台2内情况。
左工位台21与右工位台22之间设有分隔板12，分隔板12与清洗机本体1内壁顶部固定连接；分隔板12用于分隔左工位台21与右工位台22，使左工位台21与右工位台22形成两个独立的空间，避免喷淋工作时造成交叉喷溅污染。
清洗机本体1内部设于用于进行废液收集的排水管13，排水管13位于圆弧工作载台2底部；排水管13用于对喷淋清洁时产生的废液进行集中收集，便于废液回收处理。
左工位台21及右工位台22内均开设有便于支撑载台32摆动的限位滑道23，支撑载台32底部与限位滑道23滑动连接；限位滑道23用于对支撑载台32起到限位滑动及支撑的作用，使支撑载台32摆动过程更加平滑。
支撑载台32上设有四个等距分布用于对晶元进行夹持对位的对位夹持块34，对位夹持块34分布于旋转盘321侧壁；对位夹持块34用于当外部手臂将晶元放置于旋转盘321时对晶元进行对位夹持，避免晶元放置位置偏移，在喷淋过程中造成喷淋盲区或破片。
旋转盘321上设有用于对晶元进行吸附固定的紧固吸盘322；紧固吸盘322通过外部气泵用于对晶元进行吸附紧固，避免旋转盘321在旋转过程中造成晶元位移或甩出。
旋转盘321上设有用于对晶元进行支撑便于手臂进行拿取的伸缩支撑胶杆323；伸缩支撑胶杆323当外部手臂进行放置晶元时，伸缩支撑胶杆323对晶元进行支撑便于手臂放置晶元，当清洗完成后伸缩支撑胶杆323将晶元撑起便于手臂拿取。
本实用新型的工作原理及使用流程：当晶元需要进行清洁时，将晶元推动至清洗机本体1旁，此时打开透明塑料门挡11通过外部手臂升至左工位台21及右工位台22内的旋转盘321上，左工位台21与右工位台22之间设有分隔板12，使左工位台21与右工位台22形成两个独立的空间，避免喷淋工作时造成交叉喷溅污染，旋转盘321上的伸缩支撑胶杆323向上撑起，外部手臂将晶元放置于伸缩支撑胶杆323上，此时伸缩支撑胶杆323向下收缩将晶元放置于旋转盘321台面上，支撑载台32上的对位夹持块34对晶元进行对位夹持，夹持完成后旋转盘321上的紧固吸盘322对晶元进行吸附紧固，紧固完成后旋转盘321带动晶元旋转，此时摆动俯冲喷淋头41对晶元表面进行摆动俯冲喷淋，喷淋过程中产生的废液透过圆弧工作载台2进入排水管13内进行集中收集，喷淋结束后驱动件31带动支撑载台32转动至斜向喷淋头42处，此时位于支撑载台32上的旋转盘321停止转动，斜向喷淋头42开始对晶元进行斜向喷淋，喷淋结束后支撑载台32转动至风干吹气头43处，风干吹气头43对晶元进行吹气风干，风干完成后支撑载台32转动至透明塑料门挡11处，此时气泵停止对紧固吸盘322进行吸气紧固，伸缩支撑胶杆323伸出将晶元托起，晶元托起后，外部手臂将晶元取出完成清洗。
Claims (8)
1.一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：包括清洗机本体，所述清洗机本体内设有圆弧工作载台，所述圆弧工作载台分为两个完全相同的左工位台及右工位台，所述左工位台及所述右工位台中心位置均设有用于旋转摆动的摆动台组件，所述摆动台组件包括驱动件及支撑载台，所述驱动件与所述支撑载台通过支撑臂固定连接，所述支撑载台顶部转动连接有用于放置晶元的旋转盘，所述左工位台及右工位台顶部均环形等距分布有三个用于喷淋清洁的喷淋清洁组件，所述喷淋清洁组件包括摆动俯冲喷淋头，斜向喷淋头及风干吹气头，所述喷淋清洁组件与所述清洗机本体内壁顶部固定连接。
2.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述清洗机本体侧壁设有用于对所述圆弧工作载台进行密封的透明塑料门挡。
3.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述左工位台与所述右工位台之间设有分隔板，所述分隔板与所述清洗机本体内壁顶部固定连接。
4.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述清洗机本体内部设于用于进行废液收集的排水管，所述排水管位于所述圆弧工作载台底部。
5.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述左工位台及所述右工位台内均开设有便于所述支撑载台摆动的限位滑道，所述支撑载台底部与所述限位滑道滑动连接。
6.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述支撑载台上设有四个等距分布用于对晶元进行夹持对位的对位夹持块，所述对位夹持块分布于所述旋转盘侧壁。
7.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述旋转盘上设有用于对晶元进行吸附固定的紧固吸盘。
8.根据权利要求1所述的一种便于操作的双工位喷淋清洗机，其特征在于：所述旋转盘上设有用于对晶元进行支撑便于手臂进行拿取的伸缩支撑胶杆。
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2021
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