CN215742321U - 一种用于阴极辊pva抛光的抛光液净化循环处理系统 - Google Patents

Abstract

本实用新型属于电解铜箔生产设备技术领域，具体涉及一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，包括抛光液储存池、PVA抛光机，以及通过管道依次串联的蓄水池、沉淀池、滤袋式过滤器和滤芯精滤器；沉淀池内通过并排设置的多个隔板将沉淀池由左至右分隔为多个腔体；其中每个隔板上均设有溢流口以及多排网板孔，网板孔位于溢流口的下方；所述的抛光液净化循环处理系统还包括抛光液喷淋管；抛光液储存池的出液端通过第一出液管与抛光液喷淋管相连通。本实用新型通过采用滤袋式过滤器、芯柱式过滤器对抛光液进行多级过滤，并对沉淀池结构进行调整实现对电解铜箔生产用抛光液中的杂质充分分离。

Description

一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统

技术领域

本实用新型属于电解铜箔生产设备技术领域，具体涉及一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统。

背景技术

随着电子行业的飞速发展，不但电解铜箔的需求量不断地在增加，质量要求也是越来越高，电解铜箔的生产工艺及设备也在不断进步，对阴极辊的表面质量也提出了更高的要求。在电解铜箔生产过程中，阴极辊筒是非常重要的一个生产工具，其形状、表面粗糙度、平整度都会对铜箔质量产生重要影响，即阴极辊筒的表面状态直接决定了铜箔的表面质量。阴极辊筒在运行过程中，其表面需要一直保持良好的质量状态。

目前，现有技术中对阴极辊筒的处理方式主要分为二大类，即在线研磨和离线研磨。离线研磨需要用PVA砂轮进行研磨。PVA砂轮是采用聚乙烯醇、缩醛树脂作为本体，其上覆盖的磨料材质由氧化铝、碳化硅组成。在对阴极辊筒进行研磨抛光的过程中磨料颗粒会脱落并随着抛光液在循环系统中进行循环，当含有脱落磨料颗粒的抛光液循环后再次进入阴极辊筒抛光过程中时，会影响阴极辊筒辊面的抛光质量。

针对上述技术问题，现有技术采取的做法是将含有脱落磨料颗粒的抛光液经过沉淀池沉淀后继续循环使用，但是这种沉淀方式不充分，沉淀效果不佳，抛光液中的杂质不能完全沉淀，还会在阴极辊筒研磨抛光过程中继续循环。

基于现有技术中存在的技术问题，本发明拟设计一种操作简单、易于工业化应用的电解铜箔生产时用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理装置，以期解决现有技术中存在的技术成本高、抛光液处理效果不佳的问题。

实用新型内容

本实用新型针对现有技术中电解铜箔生产时用于阴极辊PVA抛光的抛光液沉淀方式不充分，沉淀效果不佳，抛光液中的杂质不能完全沉淀的问题，提出一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，通过采用滤袋式过滤器、芯柱式过滤器对抛光液进行多级过滤，并对沉淀池结构进行调整实现对电解铜箔生产用抛光液中的杂质充分分离。

为了实现上述目的，本实用新型设计了一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，包括抛光液储存池、PVA抛光机，以及通过管道依次串联的蓄水池、沉淀池、滤袋式过滤器和滤芯精滤器；沉淀池用以沉淀待处理的抛光液；

沉淀池内通过并排设置的多个隔板将沉淀池由左至右分隔为多个腔体；其中每个隔板上均设有溢流口以及多排网板孔，网板孔位于溢流口的下方；

所述的抛光液净化循环处理系统还包括抛光液喷淋管；抛光液储存池的出液端通过第一出液管与抛光液喷淋管相连通；

蓄水池通过收集管与沉淀池上的进液孔相连通；

沉淀池上的出液孔通过第二出液管与滤袋式过滤器的进液端相连通。

进一步的，PVA抛光机顶部架设有用于电解铜箔生产的阴极辊筒。

进一步的，沉淀池内设有两个隔板，即第一隔板和第二隔板，第一隔板和第二隔板将沉淀池由左至右分隔为第一腔体、第二腔体和第三腔体。

进一步的，第一隔板上网板孔的孔径大于第二隔板上网板孔的孔径，第二隔板上溢流口的高度低于第一隔板上溢流口的高度；

进一步的，沉淀池第一腔体的侧壁设有进液孔，沉淀池第二腔体的侧壁设有出液孔，出液孔的高度低于第二隔板上溢流口的高度；

进一步的，滤芯精滤器的出液端通过回流管与抛光液储存池相连通。

进一步的，第一出液管上设有第一出水泵和第一出水阀。

进一步的，第二出液管上设有第二出水泵和第二出水阀。

本实用新型的有益效果：

本实用新型设计一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，通过沉淀池实现抛光液的多级过滤，将沉淀池内经过沉淀后的抛光液泵入滤袋式过滤器中，过滤细小的磨料，然后再进入滤芯精滤器，经过滤芯精滤器内0.5μm的PP棉滤芯过滤，即实现对抛光液的完全过滤。

通过本实用新型的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，可以实现阴极辊筒在抛光过程中不断的将脱落的磨料颗粒及杂质从抛光液中过滤，保证溶液洁净度，避免系统中的磨料颗粒对阴极辊辊面造成划伤。

本实用新型具有结构简单，工艺方便，易于工业化应用的特点。

附图说明

图1是实施例1中所述用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统的结构示意图；

图2是沉淀池的透视结构示意图。

具体实施方式

下面结合实施例和附图对本发明进行进一步说明，但并不是对本发明的限制。

在本发明的描述中，需要说明的是，对于方位词，如有术语“高度”、“左”、“右”、“水平”、“竖直”等指示方位和位置关系为基于附图所示的方位或位置关系，仅是为了便于叙述本发明和简化描述，而不是指示或暗示所指的装置或元件必须具有特定的方位、以特定方位构造和操作，不能理解为限制本发明的具体保护范围。

需要说明的是，本申请的说明书和权利要求书中的术语“第一”、“第二”等是用于区别类似的对象，而不必用于描述特定的顺序或先后次序。应该理解这样使用的数据在适当情况下可以互换，以便这里描述的本申请的实施例。此外，术语“包括”和“具有”以及他们的任何变形，意图在于覆盖不排他的包含。

实施例1

如图1所示，一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，包括抛光液储存池1、PVA抛光机2，以及通过管道依次串联的沉淀池4、滤袋式过滤器5和滤芯精滤器6（其中含有PP棉）；

PVA抛光机2顶部设有支架，支架上架设有用于电解铜箔生产的阴极辊筒，PVA抛光机2上还设有用于带动阴极辊筒转动的电机，本实施例中PVA抛光机2采用现有设备即可，且其结构不是本实用新型的发明点所在，故不再赘述。

所述用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统还包括抛光液喷淋管7和蓄水池3，抛光液喷淋管7位于PVA抛光机2上阴极辊筒的上方，抛光液喷淋管7的侧壁设有喷淋孔，蓄水池3位于PVA抛光机2的下方；

抛光液储存池1的出液端通过第一出液管11与抛光液喷淋管7相连通。

如图2所示，沉淀池4内通过竖直并排设置的多个隔板（本实施例中为两个隔板，即第一隔板43和第二隔板44）将沉淀池4由左至右分隔为第一腔体、第二腔体和第三腔体；其中每个隔板上均设有溢流口45以及多排网板孔46，网板孔46位于溢流口45的下方；

第一隔板43上网板孔46的孔径大于第二隔板44上网板孔46的孔径，第二隔板44上溢流口45的高度低于第一隔板43上溢流口45的高度；

沉淀池4第一腔体的侧壁设有进液孔41，沉淀池4第三腔体的侧壁设有出液孔42，出液孔42的高度低于第二隔板上44溢流口45的高度；

蓄水池3通过收集管31与沉淀池4上的进液孔41相连通；

沉淀池4上的出液孔42通过第二出液管与滤袋式过滤器5的进液端相连通；

进一步的，滤芯精滤器6的出液端通过回流管61与抛光液储存池1相连通。

所述第一出液管11上设有第一出水泵12和第一出水阀13，第二出液管上设有第二出水泵51和第二出水阀52。

其中，滤袋式过滤器5和滤芯精滤器6均采用现有设备，且其结构不是本实用新型的发明点所在，故不再赘述。

运行过程：

1、打开第一出水泵12和第一出水阀13，抛光液储存池1中的抛光液经过第一出水泵12抽到抛光液喷淋管7处，同时启动PVA抛光机2，PVA抛光机2上的阴极辊筒转动，并对阴极辊筒进行PVA砂轮研磨，研磨过程中，磨料颗粒会脱落，通过抛光液喷淋管7对阴极辊筒进行喷淋，将脱落的磨料颗粒及杂质（磨料颗粒及杂质为氧化铝、碳化硅、砂轮粘结胶料以及从阴极辊筒上脱落的钛金属粉末）冲洗到蓄水池3中；

2、蓄水池3中含有磨料颗粒及杂质的抛光液随即流入沉淀池4中，并落入第一腔体，抛光液中比第一隔板43上网板孔46孔径大的颗粒会被拦截在第一隔板43左侧，抛光液经第一隔板43过滤后通过第一隔板43上溢流口45进入第二腔体，孔径较小的颗粒被第一隔板43过滤至第二腔体，以此类推，孔径最小的颗粒被第二隔板44过滤至第三腔体，并经过出液孔42排出。

3、打开第二出水泵51和第二出水阀52，将沉淀池4内经过沉淀后的抛光液泵入滤袋式过滤器5中，过滤细小的磨料，然后再进入滤芯精滤器6，经过滤芯精滤器6内0.5μm的PP棉滤芯过滤，即实现对抛光液的完全过滤，过滤后的抛光液通过回流管61回到抛光液储存池1。

经过沉淀池4的多级过滤可以实现60%的过滤效率，进一步经过滤袋式过滤器5和滤芯精滤器6中的PP棉过滤后过滤效率达到98%。

通过本实用新型的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，可以实现阴极辊筒在抛光过程中不断的将脱落的磨料颗粒及杂质从抛光液中过滤，保证溶液洁净度，避免系统中的磨料颗粒对阴极辊辊面造成划伤。

以上所述仅是本实用新型的较佳实施方式，故凡依本实用新型专利申请范围所述的构造、特征及原理所做的等效变化或修饰，均包括于本实用新型专利申请保护范围内。

Claims (7)

1.一种用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，包括抛光液储存池、PVA抛光机，以及通过管道依次串联的蓄水池、沉淀池、滤袋式过滤器和滤芯精滤器；

沉淀池内通过并排设置的多个隔板将沉淀池由左至右分隔为多个腔体；其中每个隔板上均设有溢流口以及多排网板孔，网板孔位于溢流口的下方；

所述的抛光液净化循环处理系统还包括抛光液喷淋管；抛光液储存池的出液端通过第一出液管与抛光液喷淋管相连通；

蓄水池通过收集管与沉淀池上的进液孔相连通；

沉淀池上的出液孔通过第二出液管与滤袋式过滤器的进液端相连通。

2.根据权利要求1所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，沉淀池内设有两个隔板，即第一隔板和第二隔板，第一隔板和第二隔板将沉淀池由左至右分隔为第一腔体、第二腔体和第三腔体。

3.根据权利要求2所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，第一隔板上网板孔的孔径大于第二隔板上网板孔的孔径，第二隔板上溢流口的高度低于第一隔板上溢流口的高度。

4.根据权利要求2所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，沉淀池第一腔体的侧壁设有进液孔，沉淀池第二腔体的侧壁设有出液孔，出液孔的高度低于第二隔板上溢流口的高度。

5.根据权利要求1所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，滤芯精滤器的出液端通过回流管与抛光液储存池相连通。

6.根据权利要求1所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，第一出液管上设有第一出水泵和第一出水阀。

7.根据权利要求1所述的用于阴极辊PVA抛光的抛光液净化循环处理系统，其特征在于，第二出液管上设有第二出水泵和第二出水阀。

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