CN215691967U - 一种过滤氧化装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型涉及氧化池技术领域，尤其是涉及一种过滤氧化装置。包括氧化池本体，所述过滤氧化装置还包括可移动的设置于所述氧化池本体内的过滤结构，所述过滤结构包括集中框、设置于所述集中框上方的进液管及设置于所述集中框下壁上的过滤网，所述集中框长度方向的两端面与所述氧化池本体的内表面滑动连接且所述集中框长度方向的两端面相通。本实用新型通过设置进液管及集中框，可以将液体先集中在集中框内，然后通过集中框下壁上的过滤网过滤后排入到氧化池本体内，以便对倒入到氧化池本体内的液体进行过滤，清除其中的杂质，不仅环保，而且可以防止杂质对氧化反应的影响，保证反应顺利且高效的进行。

Description

一种过滤氧化装置

技术领域

本实用新型涉及氧化池技术领域，尤其是涉及一种过滤氧化装置。

背景技术

随着工业的发展，氧化池也得到了广泛的使用。现有的氧化池在使用之前需要将氧化反应的液体倒入到氧化池内，以便使其发生氧化还原反应，然而，由于液体中含有杂质，直接将其倒入到氧化池内会影响反应的进行，并且无法将液体中的杂质清除掉，不够环保。

因此，有必要提供一种新的技术方案以克服上述缺陷。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种可有效解决上述技术问题的过滤氧化装置。

为达到本实用新型之目的，采用如下技术方案：

一种过滤氧化装置，包括氧化池本体，所述过滤氧化装置还包括可移动的设置于所述氧化池本体内的过滤结构，所述过滤结构包括集中框、设置于所述集中框上方的进液管及设置于所述集中框下壁上的过滤网，所述集中框长度方向的两端面与所述氧化池本体的内表面滑动连接且所述集中框长度方向的两端面相通。

优选地，所述集中框上设有位于其上表面的第一通孔及位于其下表面的第三通孔，所述第三通孔位于所述第一通孔的一侧，所述进液管的下端对准所述第一通孔且与所述集中框的上表面固定连接，所述过滤网收容于所述第三通孔内且与其内表面固定连接。

优选地，所述过滤结构还包括设置于所述集中框上方的握持环，所述握持环的两端与所述集中框的上表面固定连接。

优选地，所述过滤氧化装置还包括支撑漂浮结构，所述支撑漂浮结构包括设置于所述集中框下方的支撑板、设置于所述支撑板下方的漂浮块。

优选地，所述支撑板的上端与所述集中框的下表面固定连接，所述支撑板的下端与所述漂浮块的上端固定连接。

优选地，所述集中框宽度方向的尺寸小于所述氧化池本体内腔宽度方向的尺寸，所述支撑板及漂浮块宽度方向的尺寸与所述氧化池本体内腔宽度方向的尺寸相同。

优选地，所述过滤氧化装置还包括设置于所述集中框下方的缓冲排出结构。

优选地，所述缓冲排出结构包括设置于所述集中框下方的密封框、可移动的设置于所述密封框内的移动块，所述集中框的下表面设有第二通孔，所述密封框的上端对准所述第二通孔且与所述集中框的下表面固定连接，所述移动块上设有通道，所述通道的上端与所述移动块的上表面连通，所述通道的下端与所述移动块的侧面连通。

优选地，所述缓冲排出结构还包括设置于所述密封框下端的过滤框，所述过滤框的上端与所述密封框的下端固定连接，所述移动块穿过所述过滤框的内部且与其内表面滑动连接。

优选地，所述缓冲排出结构还包括设置于所述移动块侧面的限定块及设置于所述限定块上的弹性件，所述密封框的内表面设有凹槽，所述限定块的一端与所述移动块固定连接，所述限定块收容于所述凹槽内且与其内表面滑动连接，所述弹性件的一端与所述限定块固定连接，所述弹性件的另一端与所述凹槽的内表面固定连接。

与现有技术相比，本实用新型具有如下有益效果：本实用新型过滤氧化装置通过设置进液管及集中框，可以将液体先集中在集中框内，然后通过集中框下壁上的过滤网过滤后排入到氧化池本体内，以便对倒入到氧化池本体内的液体进行过滤，清除其中的杂质，不仅环保，而且可以防止杂质对氧化反应的影响，保证反应顺利且高效的进行；同时将第三通孔设置于第一通孔的一侧，进而液体经过第一通孔流入到集中框后，会沿着长度方向向第三通孔的一侧流动，然后经过第三通孔内的过滤网的过滤流入到氧化池本体内，从而可以对过滤网起到刷洗的作用，防止杂质堵塞过滤网；同时在集中框的下方设置支撑漂浮结构，从而使得漂浮块可以始终漂浮在液面上，以便使得集中框、过滤网始终处于液面的上方，从而可以减小对排入到氧化池本体内的液体的阻力，保证注液高效的进行，且液体经过过滤网的过滤后向下滴落在氧化池本体内的液体中，有利于促进新旧液体的混合，促进反应高效的进行；并且缓冲排出结构的设置可以在集中框内的水压较大时，移动块向下移动，使得集中框内的液体经过通道及过滤框的过滤后排出，而当集中框内的水压过大时，移动块可以继续向下移动，使得通道的下端处于过滤框的下方，以便使得集中框内的娥液体可以快速的仅通过通道排出，提高其安全性，防止水压过大对过滤结构造成的损坏，并且在水压正常时，移动块在弹性件的作用下使得通道处于密封框内，进而集中框内的液体可以全部经过过滤框的过滤注入到氧化池本体内。

附图说明

图1为本实用新型过滤氧化装置的俯视图；

图2为图1所示本实用新型过滤氧化装置的沿A-A方向的剖面图；

图3为图2所示本实用新型过滤氧化装置的B部位的局部放大图。

具体实施方式

下面将结合附图对本实用新型过滤氧化装置做出清楚完整的说明。

实施例1：

如图1至图3所示，所述本实用新型过滤氧化装置包括氧化池本体1、设置于所述氧化池本体1内的过滤结构2、设置于所述过滤结构2下方的支撑漂浮结构3、缓冲排出结构4。

如图1至图3所示，所述氧化池本体1为市面上常见的氧化池，其上端设有开口，方便倒入液体，并且氧化池本体1的形状可以根据需要设置，在本实施例中，所述氧化池本体1为长方体状，所述氧化池为现有技术，故在此不再赘述。

进一步的，如图1至图3所示，所述过滤结构2包括集中框21、设置于所述集中框21上方的进液管22、设置于所述集中框21下壁上的若干过滤网23。所述集中框21收容于所述氧化池本体11内且与其内表现滑动连接，使得所述集中框21可以在所述氧化池本体1内上下移动，进一步的，所述集中框21的左右表面(如图2所示)相通，从而集中框21收容于氧化池本体1内时，氧化池本体1的内壁可以挡住所述集中框21的左右开口，而在集中框21向上移动且移出氧化池本体1内时，集中框21内过滤掉的杂质可以从其左右两端的开口排出，防止杂质沉积在集中框21的内部影响对液体的净化过滤。进一步的，所述集中框21上设有位于其上表面的第一通孔211、位于其下表面的第二通孔212及位于所述第二通孔212周围的若干第三通孔213，所述第一通孔211设置于所述集中框21上表面的一侧，所述第一通孔211贯穿所述集中框21的内外表面，优选的，所述第一通孔211呈圆形，所述第二通孔212设置于所述集中框21下表面上，优选的，所述第二通孔212设置于所述集中框21下表面的中心位置，进一步的，所述第二通孔212贯穿所述集中框21的内外表面，所述第三通孔213设有若干个且处于所述第二通孔212的周围，所述第三通孔213贯穿所述集中框21的内外表面，进一步的，所述第三通孔213均位于所述第一通孔211的一侧。所述进液管22的下端对准所述第一通孔211且与所述集中框21的上表面固定连接，使得所述进液管22的内部与所述集中框21的内部连通，所述进液管22的另一端可以与氧化池本体1内需要倒入的液体连接，使其经过进液管22进入到集中框21内，然后经过第三通孔213进入到氧化池本体1内。所述过滤网23设有若干个，所述过滤网23的数量与所述第三通孔213的数量相同且一一对应，所述过滤网23收容于所述第三通孔213内且与其内表面固定连接，以便堵住所述第三通孔213，使得集中框21内的液体可以经过过滤网23的过滤进入到氧化池本体1的内部，从而可以过滤液体中的杂质。

进一步的，所述集中框21的长度方向的尺寸与所述氧化池本体1内腔的长度方向的尺寸相同，所述集中框21宽度方向的尺寸小于所述氧化池本体1内腔的宽度方向的尺寸，上述长度方向为图1中的左右方向，宽度方向为图1中的上下方向。

进一步的，所述过滤结构2还包括设置于所述集中框21上方的握持环24，所述握持环24呈弯曲状，所述握持环24的两端与所述集中框21的上表面固定连接，方便使用者握住向上提拉集中框21，以便将过滤结构2向上取出。

通过上述过滤结构2的设置可以通过进液管22将液体输送至集中框21内，然后经过过滤网23的过滤后排到氧化池本体1内，以便过滤掉液体中的杂质，减少杂质对氧化反应的影响；并且通过将集中框21长度方的两端连通，使得集中框21在处于氧化池本体1内时，其左右两端的开口可以被氧化池本体1内壁挡住，防止液体从集中框21的两端流出，使得液体可以全部的经过过滤网23的过滤后流动到氧化池本体1内，而将集中框21向上取出时，集中框21内的杂质可以从集中框21的两端开口排出，防止杂质沉积在集中框21内部，保证其净化过滤可以高效的进行。

如图1及图2所示，所述支撑漂浮结构3设有两个且分别位于所述氧化池本体1内腔长度方向的两侧，所述支撑漂浮结构3包括支撑板31、设置于所述支撑板31下方的漂浮块32。所述支撑板31的上端与所述集中框21的下表面固定连接，所述支撑板31的侧面与所述氧化池本体1的内表面滑动连接，使得所述支撑板31与所述集中框21可以一同上下移动。所述漂浮块32的上端与所述支撑板31的下表面固定连接，所述漂浮块32采用密度小于氧化池本体1内液体的材料制成，使得所述漂浮块32可以漂浮在所述氧化池本体1内的液体，比如，氧化池本体1内的液体为硫酸铜时，所述漂浮块32的密度小于硫酸铜，优选的，所述漂浮块32的纵截面呈直角梯形，所述漂浮块32的侧面与所述氧化池本体1内表面滑动连接，使其可以在所述氧化池本体1内稳定的上下移动。

通过支撑漂浮结构3的设置可以使得漂浮块32漂浮在氧化池本体1内部的液体上，进而通过支撑板31的设置，使得集中框21处于液面的上方，进而使得液体经过过滤网23的过滤后流动且滴落在氧化池本体1内的液体中，一方面可以促进液体的流动，加快液体的混合，另一方面可以减少液体流动的阻力，使得液体快速的流动到氧化池本体1内，使得注液效率更高，因为当第三通孔213处于氧化池本体1内部的液体中时会对经过第三通孔213流入到氧化池本体1内的液体产生阻力的作用，影响注液的效率；并且可以使得握持环24始终处于液面的上方，方便使用者握住向上将过滤结构2取出。

如图2及图3所示，所述缓冲排出结构4包括密封框41、设置于所述密封框41下方的过滤框42、设置于所述密封框41内的移动块43、设置于所述移动块43一侧的限定块44、位于所述限定块44下方的弹性件45。所述密封框41的上下表面相通，进一步的，所述密封框41的上端对准所述第二通孔212且与所述集中框21的下表面固定连接，使得所述密封框41的内部通过第二通孔212与所述集中框21的内部连通，进一步的，所述密封框41内圆周面上设有沿轴向(如图3中的上下方向)延伸的凹槽411，所述凹槽411呈长条状。所述过滤框42的上端与所述密封框41的下表面固定连接，所述过滤框42的上下表面相通，所述过滤框42的侧壁上设有滤孔，以便对液体进行过滤处理。所述移动块43的形状与所述密封框41及过滤框42内腔的形状相适配，进一步的，所述移动块43的上端穿过所述过滤框42的内部且延伸至所述密封框41内，所述移动块43与所述密封框41及过滤框42的内表面滑动连接，使得所述移动块43可以稳定的上下移动，进一步的，所述移动块43上设有通道431，所述通道431的上端与所述移动块43的上表面连通，所述通道431的下端与所述移动块43的侧面连通，使得所述通道431的纵截面呈“L”型，以便移动块43上方的液体经过通道431从移动块43的侧面流出。所述限定块44的一端与所述移动块43固定连接，优选的，所述限定块44的一端与所述移动块43的侧面固定连接，所述限定块44收容于所述凹槽411内且与其内表面滑动连接，使得所述限定块44可以在所述凹槽411内上下移动，所述凹槽411的设置可以对限定块44的上下移动起到限定作用，进而对所述移动块43上下移动的范围起到限定作用。所述弹性件45收容于所述凹槽411内，所述弹性件45的一端与所述限定块44固定连接，所述弹性件45的另一端与所述凹槽411的内表面固定连接，从而对所述限定块44起到支撑作用，进而对所述移动块43起到支撑作用。

所述缓冲排出结构4的设置可以在流入到集中框21内的水压较大时，为了防止对过滤网23造成损坏，且延长本实用新型的使用寿命，此时集中框21内过大的水压可以向下推动移动块43，使得移动块43向下移动，直至通道431的下端对准过滤框42，此时集中框21内多余的水可以进入到通道431内，然后从其下端开口流出，且经过过滤框42的过滤后流入到氧化池本体1内，此时亦可以对水起到过滤的作用；当集中框21内的水压过大时，此时移动块43可以继续向下移动，所述通道431的下端可以移动到过滤框42的下方，此时可以实现液体快速的排出，防止对过滤结构2造成损坏，延长其使用寿命，经济安全。

如图1至图3所示，所述本实用新型过滤氧化装置在注液时，首先液体经过进液管22进入到集中框21内，然后经过过滤网23的过滤后进入到氧化池本体1内，以便将液体注入到氧化池本体1内，且可以对注入的液体起到过滤的作用。在注液的过程中，由于支撑漂浮结构3的设置使得漂浮块32可以始终漂浮在液面上，使得集中框21及过滤网23始终处于液面的上方，进而方便集中框21内的液体经过过滤网23的过滤后快速的排入到氧化池本体1内，减少从过滤网23过滤后的液体流动的阻力，保证注液快速有效的运行，并且经过过滤网23过滤后的液体从高度滴落到液面上，有利于将新注液的液体与原液体充分的接触混合，有利于氧化反应的充分进行；同时缓冲排出结构的设置，使得集中框21内的水压增大时，移动块43可以向下移动，使得通道431的下端对准过滤框42，进而增加集中框21内液体排出的途径，即从第二通孔212、通道431流出且经过过滤框42的过滤后排入到氧化池本体1内，以便起到缓压的作用，并且当集中框21内的水压进一步增大时，所述移动块43可以继续向下移动，所述通道431的下端继续向下移动到过滤框42的下方，此时可以不经过过滤框42的过滤后直接排入到氧化池本体1内，从而可以防止集中框21内的水压过大对其造成损坏，安全性高，延长本实用新型的使用寿命。待液体注入完毕后，此时可以握住握持环24向上将过滤结构2、支撑漂浮结构3、缓冲排出结构4向上取出，以便使得氧化池本体1内的氧化反应可以方便的操作进行。至此，本实用新型过滤氧化装置使用过程描述完毕。

Claims (10)

1.一种过滤氧化装置，包括氧化池本体，其特征在于：所述过滤氧化装置还包括可移动的设置于所述氧化池本体内的过滤结构，所述过滤结构包括集中框、设置于所述集中框上方的进液管及设置于所述集中框下壁上的过滤网，所述集中框长度方向的两端面与所述氧化池本体的内表面滑动连接且所述集中框长度方向的两端面相通。

2.如权利要求1所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述集中框上设有位于其上表面的第一通孔及位于其下表面的第三通孔，所述第三通孔位于所述第一通孔的一侧，所述进液管的下端对准所述第一通孔且与所述集中框的上表面固定连接，所述过滤网收容于所述第三通孔内且与其内表面固定连接。

3.如权利要求2所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述过滤结构还包括设置于所述集中框上方的握持环，所述握持环的两端与所述集中框的上表面固定连接。

4.如权利要求1所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述过滤氧化装置还包括支撑漂浮结构，所述支撑漂浮结构包括设置于所述集中框下方的支撑板、设置于所述支撑板下方的漂浮块。

5.如权利要求4所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述支撑板的上端与所述集中框的下表面固定连接，所述支撑板的下端与所述漂浮块的上端固定连接。

6.如权利要求5所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述集中框宽度方向的尺寸小于所述氧化池本体内腔宽度方向的尺寸，所述支撑板及漂浮块宽度方向的尺寸与所述氧化池本体内腔宽度方向的尺寸相同。

7.如权利要求1所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述过滤氧化装置还包括设置于所述集中框下方的缓冲排出结构。

8.如权利要求7所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述缓冲排出结构包括设置于所述集中框下方的密封框、可移动的设置于所述密封框内的移动块，所述集中框的下表面设有第二通孔，所述密封框的上端对准所述第二通孔且与所述集中框的下表面固定连接，所述移动块上设有通道，所述通道的上端与所述移动块的上表面连通，所述通道的下端与所述移动块的侧面连通。

9.如权利要求8所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述缓冲排出结构还包括设置于所述密封框下端的过滤框，所述过滤框的上端与所述密封框的下端固定连接，所述移动块穿过所述过滤框的内部且与其内表面滑动连接。

10.如权利要求9所述的过滤氧化装置，其特征在于：所述缓冲排出结构还包括设置于所述移动块侧面的限定块及设置于所述限定块上的弹性件，所述密封框的内表面设有凹槽，所述限定块的一端与所述移动块固定连接，所述限定块收容于所述凹槽内且与其内表面滑动连接，所述弹性件的一端与所述限定块固定连接，所述弹性件的另一端与所述凹槽的内表面固定连接。

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