CN215656162U - 一种掩膜版涂胶装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转；本实用新型的掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。

Description

一种掩膜版涂胶装置

技术领域

本实用新型属于掩膜版生产设备领域，更具体的说涉及一种掩膜版涂胶装置。

背景技术

光刻掩膜版(Photomask)也称光罩或MASK，是一种用于微电子制造过程中的图形转移工具或模版。通过曝光、显影以及蚀刻等工序，在玻璃铬版上制作需要的微观图形，主要应用于微电子平版印刷。制作掩膜版所使用的原材料为铬版，其是一种硬面掩膜版材料，即掩膜版基版。它是在平整的、高光洁度的玻璃基版上通过直流磁控溅射沉积上铬-氧化铬薄膜而形成铬膜基版，再在其上涂敷一层光致抗蚀剂(又称光刻胶)制成铬版原料。

涂胶机是用来将光刻胶均匀地涂布在玻璃基板的一种工艺设备，涂布平台在涂布时用来放置玻璃基板，如果涂布平台的某个支撑点发生高度的变化，则涂布平台会发生倾斜，水平度变差，会引起涂布时涂布间隙不一致，导致涂布均一性变差。现有的涂胶机构造中，无法监控涂布平台的支撑点的高度变化，也难以对平台的水平度进行调整。目前结构中存在以下两点不足：A.无法实时监控涂布平台的水平度，即使涂布平台发生倾斜，也无法及时发现。B.涂布平台调整时无量化标准，只能凭感觉手动调整，调整难度大，而且调整后水平度难以保证。然而，在现有机构上只有框架夹具，基板的稳定性很难保证。

为此，涂布平台底座增加Vacuum吸附(真空)，平台旋转过程，更有利保障基板的稳定性，提高涂布膜厚的均一性，其次，涂胶平台上面增加CUP COVER(橡胶垫杯盖),改善气流，气流直接膜厚的稳定性

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种掩膜版涂胶装置，通过真空吸附的方法实现对掩膜版进行固定，然后利用旋转的方式实现涂胶，保障待涂胶掩膜版的稳定性，提高涂布膜厚的均一性；在待涂胶掩膜版上设置涂胶盖板，缩小待涂胶掩膜版上部空间大小，改善气流，避免出现大面积、大速度的空气流动问题，实现确保膜厚的稳定性。

本实用新型技术方案一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转。

优选地，所述升降板的上表面上设置有若干支撑垫，待涂胶掩膜版置于升降板上并由所述支撑垫支撑。

优选地，所述支撑垫由硅胶制成，支撑垫包括设置在升降板中心位置的大支撑块、均布设置在升降板整个上表面上的若干支撑点柱和绕设在升降板外边沿位置的密封支撑圈。

优选地，所述升降板上还连接有真空装置，所述真空装置包括设置在升降板上的若干抽真空孔、穿过涂胶平台且与所述抽真空孔连通的抽真空管和连接在所述抽真空管末端的真空机。

优选地，所述升降板尺寸不大于待涂胶掩膜版尺寸。

优选地，所述涂胶平台的上表面上设置有第一容置槽，所述升降板置于所述第一容置槽内，所述升降装置包括第一升降气缸，所述第一升降气缸竖直安装于所述涂胶平台底部且第一升降气缸的气缸推杆穿过所述涂胶平台与所述升降板固接。

优选地，所述涂胶平台的上表面上设置有第二容置槽，所述第二容置槽套设在所述第一容置槽外部并与所述第一容置槽中心线重合，所述第二容置槽尺寸与待涂胶掩膜版尺寸相适应。

优选地，所述涂胶平台的外边沿设置有阻隔圈，所述阻隔圈上均布固定有若干支撑卡脚，在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述支撑卡脚上，被支撑卡脚固定；

所述支撑卡脚呈L型，呈L型的支撑卡脚的台阶面为支撑面，实现对涂胶盖板支撑，呈L型的支撑卡脚的竖直面为限位面，实现对涂胶盖板在水平方向上进行限位；

所述台阶面高度略高于待涂胶掩膜版上表面位置，被台阶面支撑起的涂胶盖板与待涂胶掩膜版上表面不接触。

优选地，所述涂胶盖板上朝向待涂胶掩膜版的侧面涂覆有氧化铝膜。

优选地，所述涂胶盖板上远离待涂胶掩膜版的侧面上连接有第二升降气缸，所述第二升降气缸的气缸推杆竖直向下并与涂胶盖板连接，第二升降气缸的气缸推杆的端部通过轴承与涂胶盖板连接。

本实用新型技术方案的一种掩膜版涂胶装置的有益效果是：

1、通过旋转装置实现旋转平台和待涂胶掩膜版旋转，通过旋转实现掩膜版的均匀涂胶。

2、设置涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和掩膜版同步旋转，在涂胶盖板与涂胶面之间具有很小的距离，这样就避免掩膜版旋转时，在涂胶表面出现大面积或大速度的气流，影响涂胶的均匀性。

附图说明

图1为本实用新型技术方案的一种掩膜版涂胶装置结构示意图，也即掩膜版涂胶前上版示意图，

图2为涂胶开始示意图，

图3为涂胶中状态示意图，

图4为涂胶平台俯视图，

图5为升降板结构示意图。

具体实施方式

为便于本领域技术人员理解本实用新型技术方案，现结合说明书附图对本实用新型技术方案做进一步的说明。

如图1所示，本实用新型技术方案一种掩膜版涂胶装置，包括连接有旋转装置12的涂胶平台1，所述涂胶平台1上设置有用于放置待涂胶掩膜版100且连接有升降装置23的升降板2。所述升降板2上方设置有可升降的涂胶盖板3。在涂胶时，所述涂胶盖板3下降至所述涂胶平台1上并覆盖在待涂胶掩膜版100上方，随所述涂胶平台1和待涂胶掩膜版100同步旋转。

上述技术方案中，升降板2能够升降，如图1所示，在放或取掩膜版过程中，升降板2均是上升状态，便于对掩膜版进行放、取操作。如通过机械手夹取或托起掩膜版边沿，实现掩膜版在升降板2上的放或取。

上述技术方案中，在涂胶时，所述涂胶盖板3下降至所述涂胶平台1上并覆盖在待涂胶掩膜版100上方，随所述涂胶平台1和待涂胶掩膜版100同步旋转。利用涂胶盖板3降低待涂胶掩膜版100上方空间，减小待涂胶掩膜版100上方空气量，在待涂胶掩膜版100旋转涂胶中，在待涂胶掩膜版100上方不会出现大面积或大流速的气流，有效的避免了旋转中气流对均匀涂胶的影响，确保了涂胶掩膜版100涂胶膜厚的均匀性，也避免了掩膜版被涂覆的光刻胶层内产生气泡等问题。

上述技术方案中，涂胶盖板3盖在待涂胶掩膜版100上方，与待涂胶掩膜版100的涂胶面之间应具有一定的距离，一方降低待涂胶掩膜版100上方的空间和空气量，另一方面避免对涂胶盖板3待涂胶掩膜版100上表面上的光刻胶造成影响，影响光刻胶正常流动。一般地，涂胶盖板3的下表面与待涂胶掩膜版100的上表面之间距离应在5mm—10mm。

如图1、图4和图5所示，所述升降板2的上表面上设置有若干支撑垫24，待涂胶掩膜版100置于升降板2上并由所述支撑垫24支撑。支撑垫24的高度为1.2mm，即支撑垫24将待涂胶掩膜版100支撑起距离升降板2的上表面1.2mm的距离，有效的避免了待涂胶掩膜版100与升降板2接触，避免待涂胶掩膜版100产生静电，避免待涂胶掩膜版100破损。

如图1、图4和图5所示，所述支撑垫24由硅胶制成。支撑垫24包括设置在升降板2中心位置的大支撑块241、均布设置在升降板2整个上表面上的若干支撑点柱242和绕设在升降板2外边沿位置的密封支撑圈243。大支撑块241和支撑点柱242实现对放置在其上的待涂胶掩膜版100进行支撑。密封支撑圈243实现在待涂胶掩膜版100底面上形成一个真空区域，实现待涂胶掩膜版100的固定，使得待涂胶掩膜版100被吸附在升降板2上，与升降板固定，便于待涂胶掩膜版100与涂胶平台1固定和同步旋转。

如图1、图4和图5所示，所述升降板2上还连接有真空装置22。所述真空装置22包括设置在升降板2上的若干抽真空孔221、穿过涂胶平台1且与所述抽真空孔221连通的抽真空管222和连接在所述抽真空管222末端的真空机223。真空装置22实现在待涂胶掩膜版100下表面形成真空，将待涂胶掩膜版100吸附在升降板2上。

本技术方案中，所述升降板2尺寸不大于待涂胶掩膜版100尺寸。一方面便于掩膜版的放、取操作，另一方面确保密封支撑圈243围起的范围内能够形成真空。

如图1所示，所述涂胶平台1的上表面上设置有第一容置槽13，所述升降板2置于所述第一容置槽13内。所述升降装置23包括第一升降气缸，所述第一升降气缸竖直安装于所述涂胶平台底部且第一升降气缸的气缸推杆穿过所述涂胶平台1与所述升降板2固接。所述涂胶平台1的上表面上设置有第二容置槽14，所述第二容置槽14套设在所述第一容置槽13外部并与所述第一容置槽13中心线重合，所述第二容置槽14尺寸与待涂胶掩膜版100尺寸相适应。第二容置槽14和第一容置槽13的设置，均是为了便于待涂胶掩膜版100的放置，使得待涂胶掩膜版100与升降板2固定后置于涂胶品台内部，随涂胶平台旋转，旋转中因第二容置槽14的进一步限定，不会发生偏移、倾斜等问题。

如图1和图4所示，所述涂胶平台1的外边沿设置有阻隔圈15，所述阻隔圈15上均布固定有若干支撑卡脚11。在涂胶时，所述涂胶盖板3下降至所述支撑卡脚11上，被支撑卡脚11固定。所述支撑卡脚11呈L型，呈L型的支撑卡脚11的台阶面111为支撑面，实现对涂胶盖板3支撑。呈L型的支撑卡脚11的竖直面为限位面112，实现对涂胶盖板3在水平方向上进行限位。

本技术方案中，所述台阶面111高度略高于待涂胶掩膜版100上表面位置，被台阶面111支撑起的涂胶盖板3与待涂胶掩膜版100上表面不接触。有效的避免了待涂胶掩膜版100与升降板2接触，避免待涂胶掩膜版100产生静电，避免待涂胶掩膜版100破损。

本技术方案中，所述涂胶盖板3上朝向待涂胶掩膜版的侧面涂覆有氧化铝膜。

本技术方案中，所述涂胶盖板3上远离待涂胶掩膜版100的侧面上连接有第二升降气缸31，所述第二升降气缸的气缸推杆竖直向下并与涂胶盖板连接，第二升降气缸的气缸推杆的端部通过轴承32与涂胶盖板连接。轴承32的设置，便于涂胶盖板3与涂胶平台同步旋转。

如图1至图3所示，本实用新型技术方案一种掩膜版涂胶装置，在进行涂胶操作的过程为：

第一步，如图1所示，升降板2上升，通过人工或机械手臂或其他专业器具将待涂胶掩膜版100按照规定放置在升降板2上。

第二步，如图2所示，首先升降板2带动待涂胶掩膜版100下降至涂胶平台上。此时，升降板2和待涂胶掩膜版100分别置于第一容置槽13和第二容置槽14内。然后开启真空装置22，真空装置22将待涂胶掩膜版100吸附固定在升降板2。再后，驱动旋转装置12，旋转装置12首先带动涂胶平台1、升降板2和待涂胶掩膜版100同步低速旋转。

第三步，如图2所示，在待涂胶掩膜版100低速旋转状态下，涂胶机的喷胶头200进入待涂胶掩膜版100上部中心位置，向低速旋转的待涂胶掩膜版100的上表面喷途指定两的光刻胶300。这样便于光刻胶300初步流动和均匀，避免光刻胶堆积过高的问题。然后涂胶机的喷胶头200撤出，待涂胶掩膜版100停止旋转。

第四步，如图3所示，在被喷胶后的待涂胶掩膜版100和涂胶平台1完全停止旋转后，涂胶盖板3下降，涂胶盖板3落在涂胶平台1上的支撑卡脚11上，被固定。然后旋转装置12启动，驱动涂胶平台1、升降板2、涂胶盖板3和待涂胶掩膜版100同步高速旋转，实现均匀涂胶。

第五步，如图3所示，在待涂胶掩膜版100表面形成一层均匀的光刻胶层400后，即完成了均匀涂胶。然后，旋转装置12停止旋转，驱动涂胶平台1、升降板2和待涂胶掩膜版100减速直至停止旋转。再后，涂胶盖板3上升，上升至距离涂胶完成的掩膜版上部50mm左右位置，停止。再后，旋转装置12再次启动，驱动涂胶平台1、升降板2和待涂胶掩膜版100同步高速旋转，实现在掩膜版表面形成的光刻胶层400干燥，此时涂胶盖板3已经离开涂胶平台1，涂胶盖板3不再旋转，至光刻胶层400完全干燥后，旋转装置12停止。在光刻胶层400完全干燥后，旋转装置12停止工作，涂胶平台1静置，涂胶盖板3继续上升远离涂胶平台，升降板带动掩膜版上升，便于掩膜版由升降板取走。这样就完成一次涂胶。

本实用新型技术方案在上面结合附图对实用新型进行了示例性描述，显然本实用新型具体实现并不受上述方式的限制，只要采用了本实用新型的方法构思和技术方案进行的各种非实质性改进，或未经改进将实用新型的构思和技术方案直接应用于其它场合的，均在本实用新型的保护范围之内。

Claims (10)

1.一种掩膜版涂胶装置，其特征在于，包括连接有旋转装置的涂胶平台，所述涂胶平台上设置有用于放置待涂胶掩膜版且连接有升降装置的升降板，所述升降板上方设置有可升降的涂胶盖板；在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述涂胶平台上并覆盖在待涂胶掩膜版上方，随所述涂胶平台和待涂胶掩膜版同步旋转。

2.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板的上表面上设置有若干支撑垫，待涂胶掩膜版置于升降板上并由所述支撑垫支撑。

3.根据权利要求2所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述支撑垫由硅胶制成，支撑垫包括设置在升降板中心位置的大支撑块、均布设置在升降板整个上表面上的若干支撑点柱和绕设在升降板外边沿位置的密封支撑圈。

4.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板上还连接有真空装置，所述真空装置包括设置在升降板上的若干抽真空孔、穿过涂胶平台且与所述抽真空孔连通的抽真空管和连接在所述抽真空管末端的真空机。

5.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述升降板尺寸不大于待涂胶掩膜版尺寸。

6.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶平台的上表面上设置有第一容置槽，所述升降板置于所述第一容置槽内，所述升降装置包括第一升降气缸，所述第一升降气缸竖直安装于所述涂胶平台底部且第一升降气缸的气缸推杆穿过所述涂胶平台与所述升降板固接。

7.根据权利要求6所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶平台的上表面上设置有第二容置槽，所述第二容置槽套设在所述第一容置槽外部并与所述第一容置槽中心线重合，所述第二容置槽尺寸与待涂胶掩膜版尺寸相适应。

8.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶平台的外边沿设置有阻隔圈，所述阻隔圈上均布固定有若干支撑卡脚，在涂胶时，所述涂胶盖板下降至所述支撑卡脚上，被支撑卡脚固定；

所述支撑卡脚呈L型，呈L型的支撑卡脚的台阶面为支撑面，实现对涂胶盖板支撑，呈L型的支撑卡脚的竖直面为限位面，实现对涂胶盖板在水平方向上进行限位；

所述台阶面高度略高于待涂胶掩膜版上表面位置，被台阶面支撑起的涂胶盖板与待涂胶掩膜版上表面不接触。

9.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶盖板上朝向待涂胶掩膜版的侧面涂覆有氧化铝膜。

10.根据权利要求1所述的掩膜版涂胶装置，其特征在于，所述涂胶盖板上远离待涂胶掩膜版的侧面上连接有第二升降气缸，所述第二升降气缸的气缸推杆竖直向下并与涂胶盖板连接，第二升降气缸的气缸推杆的端部通过轴承与涂胶盖板连接。

Images