CN215542971U - 一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构 - Google Patents
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Abstract
一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,本实用新型涉及硅晶元加工设备技术领域,支架上固定设置有操作箱,操作箱右端口的上下两侧边上均通过弹簧合页铰设有挡板,挡板活动边的前后两端对称固定设置有轴座,前后两侧的轴座之间设置有夹紧辊,操作箱的上内侧壁上通过轴承旋设有螺纹杆,螺纹杆上套设螺纹旋接有固定座,固定座的右侧壁上通过轴承旋设有安装座,安装座上固定设置有气嘴,气嘴通过管道穿出操作箱的左端口后与外部供气设备连接设置;其设置可调节吹气角度的气嘴,进而方便在对晶元加工完成进行卸料时,将晶元表面残留的碎屑吹飞,且在清洁装置的进口端设置具有适应性的密封装置,防止碎屑落到原料表面上影响加工。
Description
技术领域
本实用新型涉及硅晶元加工设备技术领域,具体涉及一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构。
背景技术
多晶硅光电元件作为市场上光电转换技术使用最广的元器件,被用于太阳能板等设备中;现有技术中在将硅晶元制造完成后,为对独立的晶元个体进行电路集成,会通过激光刻蚀工艺在晶元表面上划线开槽,便于进行电路嵌套,现有的激光刻蚀设备在加工过程中会产生部分碎屑残留,需要在加工卸料之前进行清理,针对上述问题,需要对现有技术中的晶元激光刻蚀设备进行改造。
实用新型内容
本实用新型的目的在于针对现有技术的缺陷和不足,提供了一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,其设置可调节吹气角度的气嘴,进而方便在对晶元加工完成进行卸料时,将晶元表面残留的碎屑吹飞,且在清洁装置的进口端设置具有适应性的密封装置,防止碎屑落到原料表面上影响加工。
为达到上述目的,本实用新型采用了下列技术方案:
它包含工作台、卸料辊,其中工作台的上表面上固定设置有支架,支架上设置有上下对称的两个卸料辊,且卸料辊与外部驱动装置传动设置;它还包含操作箱、挡板、夹紧辊、固定座、安装座、气嘴,其中支架上固定设置有操作箱,且操作箱的左右两端贯通开口设置,卸料辊设置在操作箱的左端口内,操作箱右端口的上下两侧边上均通过弹簧合页铰设有挡板,且挡板设置在操作箱内,挡板活动边的前后两端对称固定设置有轴座,前后两侧的轴座之间设置有夹紧辊,且夹紧辊的端头通过轴承旋设在轴座上,夹紧辊的侧壁活动抵设在挡板的内侧壁上,上下两侧的挡板上的夹紧辊相互抵设;操作箱的上内侧壁上通过轴承旋设有螺纹杆,且螺纹杆的前端穿设在操作箱的前侧板上,螺纹杆上套设螺纹旋接有固定座,且固定座的上侧壁活动抵设在操作箱的上内侧壁上,操作箱的前侧壁上固定设置有气动推杆,气动推杆的输出端上固定设置有齿条,螺纹杆的前端固定设置有齿轮,齿条与齿轮啮合设置;固定座的右侧壁上通过轴承旋设有安装座,安装座上固定设置有气嘴,气嘴通过管道穿出操作箱的左端口后与外部供气设备连接设置,安装座上固定设置有插套,插套内活动穿设有卡块,固定座上左侧壁上以安装座的轴心为圆心开设有弧形槽,卡块的右端头活动插设在弧形槽内。
优选地,上侧挡板的活动端内侧壁上固定设置有收集槽,且收集槽的端口侧边活动抵设在夹紧辊上,收集槽的后端开口设置,操作箱的后侧壁上以挡板的轴心为圆心开设有弧形孔,收集槽的后端通过弧形孔穿出设置在操作箱的后方。
优选地,所述的操作箱的上内侧壁上位于固定座的左方通过弹簧合页铰设有连接杆,连接杆的左端固定设置有刷条,连接杆的前侧壁上开设有滑槽,且滑槽的右端向上倾斜设置,滑槽内滑动设置有滑块,操作箱的上内侧壁上固定设置有螺纹套,螺纹套内穿设螺纹旋接有顶杆,顶杆的右端通过轴承旋设在滑块上。
优选地,所述的操作箱的上侧板右端穿设固定有衡压管,且衡压管设置在挡板的上方,衡压管的上端口上套设固定有滤袋。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:本实用新型所述的一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,其设置可调节吹气角度的气嘴,进而方便在对晶元加工完成进行卸料时,将晶元表面残留的碎屑吹飞,且在清洁装置的进口端设置具有适应性的密封装置,防止碎屑落到原料表面上影响加工。
附图说明:
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是图1中的A-A剖视图。
图3是本实用新型的内部结构示意图。
图4是本实用新型中挡板、轴座、夹紧辊、收集槽的连接结构示意图。
附图标记说明:
工作台1、支架2、卸料辊3、操作箱4、挡板5、轴座6、夹紧辊7、螺纹杆8、固定座9、齿轮10、气动推杆11、齿条12、安装座13、气嘴14、插套15、卡块16、弧形槽17、收集槽18、弧形孔19、连接杆20、刷条21、滑槽22、滑块23、螺纹套24、顶杆25、衡压管26、滤袋27。
具体实施方式:
下面将结合附图,对本实用新型中的技术方案进行清楚、完整地描述,以描述中的优选实施例只作为举例,本领域技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例,都属于本实用新型保护的范围。
如图1-图4所示,本具体实施方式采用如下技术方案:
它包含工作台1、卸料辊3,其中工作台1的上表面上铆设有支架2,支架2上设置有上下对称的两个卸料辊3,且卸料辊3与外部驱动装置传动设置;它还包含操作箱4、挡板5、夹紧辊7、固定座9、安装座13、气嘴14,其中支架2上铆设有操作箱4,且操作箱4的左右两端贯通开口设置,卸料辊3设置在操作箱4的左端口内,操作箱4右端口的上下两侧边上均通过弹簧合页铰设有挡板5,且挡板5设置在操作箱4内,挡板5活动边的前后两端对称铆设有轴座6,前后两侧的轴座6之间设置有夹紧辊7,且夹紧辊7的端头通过轴承旋设在轴座6上,夹紧辊7的侧壁活动抵设在挡板5的内侧壁上,上下两侧的挡板5上的夹紧辊7相互抵设;操作箱4的上内侧壁上通过轴承旋设有螺纹杆8,且螺纹杆8的前端穿设在操作箱4的前侧板上,螺纹杆8上套设螺纹旋接有固定座9,且固定座9的上侧壁活动抵设在操作箱4的上内侧壁上,操作箱4的前侧壁上铆设有气动推杆11,气动推杆11的输出端上铆设有齿条12,螺纹杆8的前端铆设有齿轮10,齿条12与齿轮10啮合设置;固定座9的右侧壁上通过轴承旋设有安装座13,安装座13上铆设有气嘴14,气嘴14通过管道穿出操作箱4的左端口后与外部供气设备连接设置,安装座13上铆设有插套15,插套15内活动穿设有卡块16,固定座9上左侧壁上以安装座13的轴心为圆心开设有弧形槽17,卡块16的右端头活动插设在弧形槽17内;
上侧挡板5的活动端内侧壁上铆设有收集槽18,且收集槽18的端口侧边活动抵设在夹紧辊7上,收集槽18的后端开口设置,操作箱4的后侧壁上以挡板5的轴心为圆心开设有弧形孔19,收集槽18的后端通过弧形孔19穿出设置在操作箱4的后方,进而在进行碎屑吹飞操作时,落在上侧的挡板5上的碎屑落入收集槽18,并从收集槽18的后端吹出操作箱4外部;操作箱4的上内侧壁上位于固定座9的左方通过弹簧合页铰设有连接杆20,连接杆20的左端铆设有刷条21,连接杆20的前侧壁上开设有滑槽22,且滑槽22的右端向上倾斜设置,滑槽22内滑动设置有滑块23,操作箱4的上内侧壁上铆设有螺纹套24,螺纹套24内穿设螺纹旋接有顶杆25,顶杆25的右端通过轴承旋设在滑块23上,通过旋转顶杆25调节滑块23的左右位置,进而调节连接杆20上下旋转,进而调节刷条21的上下位置,使得在对工件进行清理时,刷条21抵在工件的上表面上,随着工件行进,对工件表面进行刷扫清理;操作箱4的上侧板右端穿设固定有衡压管26,且衡压管26设置在挡板5的上方,衡压管26的上端口上套设固定有滤袋27,衡压管26保持操作箱4内的气压平衡。
本具体实施方式的工作原理是:将工件放在工作台1上进行激光刻蚀加工,加工过程中产生的碎屑残留在工件表面上,此时将工件推动进入操作箱4,通过卸料辊3夹住工件并将工件向左抽出卸料;在工件移动过程中,上下两侧的夹紧辊7分别夹在工件的上下两表面上,进而通过挡板5对设备盒的右端口形成密封,随着工件行进,夹紧辊7旋转,启动气动推杆11带动齿条12左右来回运动,进而齿条12带动齿轮10正反往复旋转,进而螺纹杆8往复旋转,螺纹杆8带动固定座9前后滑动,进而安装座13及安装座13上的气嘴14前后往复运动,通过外部供气设备向气嘴14供气,进而气嘴14将残留在工件表面的残渣吹下;在气嘴14吹气的过程中,随着工件的移动,工件表面的残渣落入操作箱4内等待清理,部分残渣落在上侧的挡板5的上表面上,此时这部分废渣滑落进入收集槽18,并随着设备箱4内的空气流动,从收集槽18的后端口排出;工件在吹气清流后,随着工件向左移动,刷条21抵在工件表面上,将粘附的残渣刷下,根据工件的厚度,调整刷条21抵在工件表面上,此时旋转顶杆25,进而推动滑块23在滑槽22内滑动,当滑块23向右滑动时,滑块23推动连接杆20逆时针旋转,进而推动刷条21向下移动,通过弹簧合页推动,进而滑槽22的上侧壁抵住滑块23,进而在通过刷条21抵住工件表面时,刷条21可被动推动向上移动。
采用上述结构后,本具体实施方式的有益效果如下:
1、操作箱4的右端上下对称设置挡板5,且在挡板5的活动端设置夹紧辊7,进而方便在产品卸料时,将挡板5架在夹紧辊7之间送入操作箱4,进而在操作箱4内对工件进行清理时,挡住碎屑飞出操作箱4;
2、操作箱4内设置可前后滑动的固定座9,固定座9上旋设安装座13,且安装座13的倾斜角度可控,将气嘴14固定在安装座13上,进而可调节吹气角度,方便根据不同的开槽角度,对气嘴14进行调节,保证对碎屑的吹飞彻底。
对于本领域的技术人员来说,其可以对前述各实施例所记载的技术方案进行修改、部分技术特征的等同替换,凡在本实用新型的精神和原则之内,所作的任何修改、等同替换、改进等,均应包含在本实用新型的保护范围之内。
Claims (4)
1.一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,它包含工作台(1)、卸料辊(3),其中工作台(1)的上表面上固定设置有支架(2),支架(2)上设置有上下对称的两个卸料辊(3),且卸料辊(3)与外部驱动装置传动设置;其特征在于:它还包含操作箱(4)、挡板(5)、夹紧辊(7)、固定座(9)、安装座(13)、气嘴(14),其中支架(2)上固定设置有操作箱(4),且操作箱(4)的左右两端贯通开口设置,卸料辊(3)设置在操作箱(4)的左端口内,操作箱(4)右端口的上下两侧边上均通过弹簧合页铰设有挡板(5),且挡板(5)设置在操作箱(4)内,挡板(5)活动边的前后两端对称固定设置有轴座(6),前后两侧的轴座(6)之间设置有夹紧辊(7),且夹紧辊(7)的端头通过轴承旋设在轴座(6)上,夹紧辊(7)的侧壁活动抵设在挡板(5)的内侧壁上,上下两侧的挡板(5)上的夹紧辊(7)相互抵设;操作箱(4)的上内侧壁上通过轴承旋设有螺纹杆(8),且螺纹杆(8)的前端穿设在操作箱(4)的前侧板上,螺纹杆(8)上套设螺纹旋接有固定座(9),且固定座(9)的上侧壁活动抵设在操作箱(4)的上内侧壁上,操作箱(4)的前侧壁上固定设置有气动推杆(11),气动推杆(11)的输出端上固定设置有齿条(12),螺纹杆(8)的前端固定设置有齿轮(10),齿条(12)与齿轮(10)啮合设置;固定座(9)的右侧壁上通过轴承旋设有安装座(13),安装座(13)上固定设置有气嘴(14),气嘴(14)通过管道穿出操作箱(4)的左端口后与外部供气设备连接设置,安装座(13)上固定设置有插套(15),插套(15)内活动穿设有卡块(16),固定座(9)上左侧壁上以安装座(13)的轴心为圆心开设有弧形槽(17),卡块(16)的右端头活动插设在弧形槽(17)内。
2.根据权利要求1所述的一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,其特征在于:上侧挡板(5)的活动端内侧壁上固定设置有收集槽(18),且收集槽(18)的端口侧边活动抵设在夹紧辊(7)上,收集槽(18)的后端开口设置,操作箱(4)的后侧壁上以挡板(5)的轴心为圆心开设有弧形孔(19),收集槽(18)的后端通过弧形孔(19)穿出设置在操作箱(4)的后方。
3.根据权利要求1所述的一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,其特征在于:所述的操作箱(4)的上内侧壁上位于固定座(9)的左方通过弹簧合页铰设有连接杆(20),连接杆(20)的左端固定设置有刷条(21),连接杆(20)的前侧壁上开设有滑槽(22),且滑槽(22)的右端向上倾斜设置,滑槽(22)内滑动设置有滑块(23),操作箱(4)的上内侧壁上固定设置有螺纹套(24),螺纹套(24)内穿设螺纹旋接有顶杆(25),顶杆(25)的右端通过轴承旋设在滑块(23)上。
4.根据权利要求1所述的一种晶元激光刻蚀设备中的工件表面清洁机构,其特征在于:所述的操作箱(4)的上侧板右端穿设固定有衡压管(26),且衡压管(26)设置在挡板(5)的上方,衡压管(26)的上端口上套设固定有滤袋(27)。
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