CN215509960U - 一种数控转台 - Google Patents

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代文宾
赵秀忠
张光泽
刘旭锋
刘灿
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Abstract

本实用新型属于数控机床领域,特别涉及一种数控转台,旨在提供一种可实现内部排水的转台结构,有效解决转台加工中由于温度变化而产生的内部水滴冷凝问题,充分保护内部电子元器件不受侵害,保证转台精度,提高转台寿命。包括基座、转台工作台和驱动装置,驱动装置设置于基座内部;转台工作台联接于驱动装置上,并设置于基座上端,可在驱动装置作用下绕中心轴线旋转;基座底端设置有下密封盖,下密封盖上均匀设置有多个导水口,每一个导水口的下方均固定安装一个迷宫排水装置。

Description

一种数控转台
技术领域
本实用新型属于数控机床领域,特别涉及一种数控转台。
背景技术
五轴数控机床可以完成复杂的精密加工,被广泛的应用于航空航天、精密器械、高精医疗设备等领域,其中数控转台又是五轴数控机床的重要组成部分。在机床加工过程中,为实现加工冷却,需要使用切削夜持续喷淋,在工件温度较高的情况下,会使切削夜产生雾化,很容易进入转台内部,并且随着冷却装置的作用以及工作过程中温度的变化,易在转台内部出现水滴凝结现象,从而对转台内部电子元器件造成影响,轻则会引起转台内部元器件生锈,影响转台精度,严重的还会引起电路短路导致电子元器件失效。
发明内容
本实用新型的目的在于克服现有技术的不足,提供一种可实现内部排水的转台结构,有效解决转台加工中由于温度变化而产生的内部水滴冷凝问题,充分保护内部电子元器件不受侵害,保证转台精度,提高转台寿命。
为了解决上述技术问题,本实用新型是通过以下技术方案实现的:一种数控转台,包括基座、转台工作台和驱动装置,驱动装置设置于基座内部;转台工作台联接于驱动装置上,并设置于基座上端,可在驱动装置作用下绕中心轴线旋转;基座底端设置有下密封盖,下密封盖上均匀设置有多个导水口,每一个导水口的下方均固定安装一个迷宫排水装置。
上述一种数控转台,所述迷宫排水装置包括迷宫槽,迷宫槽的最外缘设置有多个排水口。
上述一种数控转台,所述迷宫槽包括多个内外分布的环形槽,环形槽之间通过交错分布的槽间通道连通。
上述一种数控转台,所述排水口与槽间通道交错分布。
与现有技术相比,本实用新型的有益效果在于:本实用新型通过在转台底部设置迷宫排水装置,可将转台内部的水分排出,有效避免转台加工中由于温度变化而产生的内部水滴冷凝问题;并且迷宫槽结构还能够有效保证杂质不进入转台内部,从而大大提高转台的可靠性。
附图说明
图1是本实用新型的结构示意图。
图2是本实用新型排水结构示意图。
具体实施方式
下面结合附图与具体实施方式对本实用新型作进一步详细描述。
如图1所示,本实用新型的一种数控转台,包括基座1、转台工作台2、驱动装置3和下密封盖4。驱动装置3设置于基座1内部,转台工作台2与驱动装置3联接,并设置于基座1的上端,可在驱动装置3带动下绕中心轴线旋转。下密封盖4安装于基座1的下端,可将基座1内部密封;下密封盖4上设置有导水口41,导水口41的下方固定安装有迷宫排水装置5。转台转动过程中,转台内部的水分在自身重力以及旋转张力作用下落入下密封盖4上,并经导水口41进入迷宫排水装置5。
如图2所示,迷宫排水装置5包括迷宫槽51和排水口52,迷宫槽51由环形槽内外排布而成,环形槽之间通过交错分布的槽间通道53连通。排水口52沿迷宫槽51的最外缘均匀分布,并且与槽间通道53相互交错。当转台内部的水分落入迷宫排水装置5时,沿迷宫通道从排水口52排出,同时由于各槽间通道53之间以及与排水口52之间均交错分布,能够有效限制外部水分及杂质进入转台内部。
尽管上文对本实用新型进行了详细说明,但是本实用新型不限于此,本领域技术人员可以根据本实用新型的原理进行各种修改。因此,凡按照本实用新型原理所作的修改,都应当理解为落入本实用新型的保护范围。

Claims (4)

1.一种数控转台,包括基座、转台工作台和驱动装置,驱动装置设置于基座内部;转台工作台联接于驱动装置上,并设置于基座上端,可在驱动装置作用下绕中心轴线旋转;基座底端设置有下密封盖,其特征在于,下密封盖上均匀设置有多个导水口,每一个导水口的下方均固定安装一个迷宫排水装置。
2.根据权利要求1所述的一种数控转台,其特征在于,所述迷宫排水装置包括迷宫槽,迷宫槽的最外缘设置有多个排水口。
3.根据权利要求2所述的一种数控转台,其特征在于,所述迷宫槽包括多个内外分布的环形槽,环形槽之间通过交错分布的槽间通道连通。
4.根据权利要求3所述的一种数控转台,其特征在于,所述排水口与槽间通道交错分布。
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