CN215494540U - 一种用于均匀涂覆光刻胶的装置 - Google Patents

Abstract

本申请涉及一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，涉及涂胶技术领域；其包括底座、转动连接于底座上的转盘，以及用于驱动转盘周向转动的驱动电机；所述驱动电机驱动端固定连接于转盘中心处的下表面，所述转盘上设置有定位组件，所述定位组件包括若干个限位板，所述限位板之间放置有基片，且所述基片侧壁与限位板侧壁相贴合；所述底座上方还设置有用于向基片上表面滴胶的滴胶组件；本申请具有实现对基片插设位置的快速定位，使得光刻胶均匀分布于基片上的效果。

Description

一种用于均匀涂覆光刻胶的装置

技术领域

本申请涉及涂胶技术领域，尤其是涉及一种用于均匀涂覆光刻胶的装置。

背景技术

电子封装所用的基片是一种底座电子元件，用于为电子元器件及其相互联线提供机械承载支撑，如晶圆、陶瓷基片等；在芯片的封装过程中，需要在基片表面镀金属膜来形成导电电路，目前导电电路主要采用传统的蚀刻方法形成，即先在基片中部点滴光刻胶，然后通过旋转的方式使光刻胶在离心力作用下向四周扩散，从而使得光刻胶均匀涂覆在基片外表面，再通过曝光显影的方式，将设计好的图案投影到光刻胶上，最后利用光刻胶的感光抗腐蚀等特性形成导电电路。

相关授权公告号为CN211756584U的中国专利，公开了一种半自动匀胶机，包括匀胶机本体、安装在匀胶机本体中心位置的桶体以及设置在匀胶机本体一侧的控制面板，桶体的顶部凹设有匀胶槽，匀胶槽内底部的位置安装有托盘，匀胶机主体内安装有用于驱动托盘转动的电机，控制面板电连接于电机以用于控制电机的启闭；在使用时，将待涂胶的基片放置于匀胶槽内的托盘上，然后通过控制面板启动电机以带动托盘周向转动，再将光刻胶滴在基片上表面，此时光刻胶在离心力作用下向四周扩散，当光刻胶均匀分布于基片上表面时，关闭电机，完成涂胶操作。

针对上述中的相关技术，发明人认为为了保证基片上的光刻胶能够均匀地向四周扩散，一般会将电机驱动端连接于托盘中心位置，并将基片的中心位置与托盘中心位置重合，但是基片的放置位置一般为操作人员以手动目测的方式来实现，因此易存在对基片位置定位不准确的情况，继而影响光刻胶的涂布均匀性，故有待改善。

实用新型内容

为了改善相关技术中存在的基片上的光刻胶涂布不均的技术问题，本申请提供一种用于均匀涂覆光刻胶的装置。

本申请提供的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，采用如下的技术方案：

一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，包括底座、转动连接于底座上的转盘，以及用于驱动转盘周向转动的驱动电机；所述驱动电机驱动端固定连接于转盘中心处的下表面，所述转盘上设置有定位组件，所述定位组件包括若干个限位板，所述限位板之间放置有基片，且所述基片侧壁与限位板侧壁相贴合；所述底座上方还设置有用于向基片上表面滴胶的滴胶组件。

通过采用上述技术方案，通过限位板限制基片的放置位置，当基片插入限位板之间，且基片侧壁与限位板侧壁相贴合时，基片中心恰好与中心标记点重合，以实现对基片的快速定位，优化基片上的光刻胶的涂覆均匀性，然后再通过滴胶组件将胶水点滴在基片中心位置，再启动驱动电机驱动转盘周向转动，使得胶水沿周向散开并均匀分布于基片上表面。

可选的，所述定位组件还包括垂直设置于每一限位板侧壁的伸缩杆，以及用于固定每一伸缩杆伸缩位置的固定件，所述伸缩杆远离限位板处的一端固定连接于转盘上表面，所述转盘中心位置设置有中心标记点，所述转盘靠近上表面设置有用于标记每一限位板与中心标记点最短距离的刻度线。

通过采用上述技术方案，实现了所有限位板之间供基片插设空间大小的可调节，以适用于不同尺寸的基片的涂胶操作，伸缩杆的设置能够在不阻碍限位板移动的情况下限定限位板的移动路径，以使得限位板始终沿伸缩杆长度方向伸缩，刻度线的设置能够便于操作人员根据基片的尺寸来精准确定每一限位板的移动距离，保证当基片插设于限位板之间时，基片中心位置与中心标记点相重合。

可选的，所述伸缩杆包括外管和插设于外管内的内杆，所述外管远离内杆处的一端连接于限位板侧壁，所述内杆远离外管处的一端连接于转盘上表面；所述固定件包括磁铁块和与磁铁块磁性吸固的吸附铁片，所述磁铁块固定连接于内杆靠近外管处的端壁，所述吸附铁片嵌固于外管内壁。

通过采用上述技术方案，通过磁铁块和吸附铁片固定伸缩杆的整体长度，提高伸缩杆长度调节的便捷性。

可选的，所述定位组件还包括嵌置于转盘内的吸风机，所述转盘内部开设有供吸风机插设的空腔，所述转盘侧壁贯穿插设有与吸风机出风口相连通的出风管，所述转盘靠近中心标记点处的上表面贯穿开设有若干个负压孔，所述负压孔与空腔相连通。

通过采用上述技术方案，通过启动吸风机使得空腔内形成负压，此时基片将在吸力作用下紧密贴合于转盘上表面，进一步防止其相对转盘出现偏移的情况。

可选的，位于基片外围的所述负压孔内可拆卸连接有密封塞。

通过采用上述技术方案，密封塞的设置能够将位于基片外围的负压孔密封，从而使得吸风机的吸力作用范围相对集中，优化吸风机吸力对基片的定位效果，当基片尺寸大至覆盖外围负压孔时，可将外围负压孔内的密封塞取出。

可选的，所述驱动电机电连接有用于控制其启闭和转速的PLC控制器。

通过采用上述技术方案，操作人员可根据所需涂覆的光刻胶厚度来通过PLC控制器调节驱动电机的转速，以提高适用性。

可选的，所述滴胶组件包括点胶滴管、储胶罐、连通管和空压机，所述储胶罐与点胶滴管通过连通管相连通，所述空压机通过管道连通于储胶罐，所述点胶滴管下端有出胶口，所述出胶口位于中心标记点的正上方；

所述连通管上设置有用于检测出胶口流出的光刻胶量的流量计，所述点胶滴管上设置有用于控制点胶滴管通断的阀门，所述流量计电连接于PLC控制器，以用于将检测的流量数据传送至PLC控制器，所述PLC控制器电连接于阀门和空压机，以用于控制阀门和空压机的启闭。

通过采用上述技术方案，首先通过PLC控制器打开阀门和空压机，通过空压机向储胶罐内增压，从而使得光刻胶在压力作用下被挤出储胶罐并经连通管移动至点胶滴管内并排出，再通过流量计检测从点胶滴管排出的光刻胶量，实现对出胶口所排出的光刻胶流量的定量控制，一方面减小了光刻胶的浪费，另一方面也能够进一步控制基片表面所涂覆的光刻胶的厚度。

可选的，所述储胶罐内部转动连接有搅拌杆，所述搅拌杆外侧壁均匀设置有搅拌叶片，所述储胶罐顶部设置有用于驱动搅拌杆周向转动的搅拌电机。

通过采用上述技术方案，定期启动搅拌电机以驱动搅拌杆转动，从而通过搅拌叶片搅拌储胶罐内的光刻胶，提高光刻胶的流动性，以便光刻胶顺畅进入点胶滴管内。

综上所述，本申请包括以下至少一种有益技术效果：

1.通过限位板限制基片的放置位置，当基片插入限位板之间，且基片侧壁与限位板侧壁相贴合时，基片中心恰好与中心标记点重合，以实现对基片的快速定位，优化基片上的光刻胶的涂覆均匀性；

2.通过空压机向储胶罐内增压，从而使得光刻胶在压力作用下被挤出储胶罐并经连通管移动至点胶滴管内，实现对出胶口所排出的光刻胶流量的定量控制，一方面减小了光刻胶的浪费，另一方面也能够进一步控制基片表面所涂覆的光刻胶的厚度。

附图说明

图1是实施例中一种用于均匀涂覆光刻胶的装置的结构示意图。

图2是实施例中用于体现一种用于均匀涂覆光刻胶的装置的剖视图。

图3是实施例中用于体现PLC控制器与驱动电机、流量计、阀门之间位置关系。

图4是图2中用于体现A部分结构的放大图。

附图标记说明：1、底座；11、安装槽；12、转盘；121、空腔；122、负压孔；1221、密封塞；123、刻度线；13、驱动电机；14、定位组件；141、限位板；142、伸缩杆；1421、外管；1422、内杆；143、固定件；1431、磁铁块；1432、吸附铁片；144、吸风机；1441、出风管；15、中心标记点；16、固定架；2、滴胶组件；21、储胶罐；211、搅拌杆；2111、搅拌叶片；212、搅拌电机；22、空压机；23、连通管；231、流量计；24、点胶滴管；241、出胶口；242、阀门；3、PLC控制器；4、基片。

具体实施方式

以下结合附图1-4对本申请作进一步详细说明。

本申请实施例公开一种用于均匀涂覆光刻胶的装置。参照图1和图2，用于均匀涂覆光刻胶的装置包括底座1，底座1上表面沿其高度方向开设有安装槽11，安装槽11内插设有横截面为圆形的转盘12，底座1内部嵌置有驱动电机13，驱动电机13驱动端贯穿底座1并固定焊接于转盘12圆心处的下表面。

参照图2和图3，驱动电机13电连接有PLC控制器3，以通过PLC控制器3控制驱动电机13转速，驱动电机13可以为带有伺服驱动器的伺服电机，通过PLC控制器3发送一定频率的脉冲给伺服驱动器，设置一定的电子齿轮比，此时伺服电机将会按一定的速度运转，即通过改变脉冲频率来改变驱动电机13的转速。

参照图2，转盘12上表面且位于其圆心处设置有中心标记点15，可通过在转盘12圆心处涂覆红色颜料以形成中心标记点15；转盘12靠近中心标记点15处的上表面放置有基片4，转盘12上还设置有用于固定基片4放置位置的定位组件14。

参照图2和图4，定位组件14包括吸风机144，转盘12内部开设有供吸风机144插设的空腔121，吸风机144吸风口连通有出风管1441，出风管1441贯穿转盘12并位于转盘12外部；转盘12靠近中心标记点15处的上表面贯穿开设有若干个负压孔122，负压孔122与空腔121相连通，远离基片4处的负压孔122内部均插设有橡胶材质的密封塞1221，通过启动吸风机144以使得空腔121内形成负压，从而使得基片4受负压孔122处的吸力作用而贴合于转盘12上表面,实现定位，另外，可根据基片4的尺寸大小决定负压孔122的使用数量，对于未被基片4覆盖的负压孔122，可在其内部插设密封塞1221，以使得吸风机144吸力范围集中在与被基片4覆盖的负压孔122的位置。

参照图2和图4，定位组件14还包括若干个限位板141、设置于每一限位板141侧壁的伸缩杆142，以及用于固定每一伸缩杆142伸缩位置的固定件143；转盘12靠近每一限位板141处的上表面均刻有刻度线123，刻度线123位于中心标记点15与限位板141之间，可刻度线123沿伸缩杆142长度方向设置，以用于精准确定伸缩杆142伸缩长度。

参照图2和图4，伸缩杆142包括外管1421和插设于外管1421内的内杆1422，外管1421其中一端垂直焊接于限位板141侧壁，内杆1422远离外管1421处的一端焊接于转盘12上表面；固定件143包括磁铁块1431以及磁性吸固于磁铁块1431的吸附铁片1432，磁铁块1431焊接于内杆1422靠近外管1421处的端壁，磁铁块1431插设于外管1421内，吸附铁片1432嵌固于外管1421内壁；根据基片4尺寸调节每一限位板141与中心标记点15之间的最短距离，使得基片4被稳固插设于所有限位板141之间。

参照图2和图4，还包括用于向基片4中心处的上表面点滴光刻胶的滴胶组件2，滴胶组件2包括用于装盛光刻胶的储胶罐21、通过管道连通于储胶罐21的空压机22、连通于储胶罐21的连通管23、连通于连通管23的点胶滴管24。

参照图2和图3，PLC控制器3电连接于空压机22，以控制空压机22的启闭；储胶罐21用于装盛光刻胶，储胶罐21内转动连接有搅拌杆211，搅拌杆211外侧壁焊接有搅拌叶片2111，储胶罐21上端设置有搅拌电机212，搅拌电机212驱动端贯穿储胶罐21并固定焊接于搅拌杆211端部，以定期通过搅拌杆211搅拌储胶罐21内的光刻胶，保持光刻胶的流动性。

参照图2和图4，连通管23远离储胶罐21处的一端与点胶滴管24相连通，点胶滴管24竖直设置，且底座1上表面焊接有用于固定点胶滴管24的固定架16，点胶滴管24下端开设有出胶口241，出胶口241位于中心标记点15的正上方。

参照图3和图4，连通管23上还安装有用于测量出胶口241处流出的光刻胶流量的流量计231，流量计231可以为光刻胶涂胶机微小流量计，流量计231电连接于PLC控制器3，以将所检测的流量数据输送至PLC控制器3，点胶滴管24还设置有用于控制点胶滴管24通断的阀门242，阀门242可以为电动阀门，阀门242电连接于PLC控制器3，阀门242初始状态时，点滴胶管24处于截断状态。

本申请实施例一种用于均匀涂覆光刻胶的装置的实施原理为：首先根据基片4的尺寸调节限位板141与中心标记点15之间的最短距离，以使得基片4插入限位板141之间时，限位板141侧壁与基片4侧壁相贴合，以实现对限位板141的限位，然后启动吸风机144，以使得空腔121内部形成负压，从而使基片4稳固贴合于转盘12上表面。

接着打开阀门242，启动空压机22以向储胶罐21内通入空气，从而将储胶罐21内的部分胶水挤入连通管23，并从连通管23挤入点胶滴管24内，此时胶水从点胶滴管24的出胶口241滴落在基片4中心位置处，在此过程中通过流量计231检测光刻胶排出出胶口241的流量，并将该流量数据发送至PLC控制器3，当流量检测值等于预存储于PLC控制器3内的流量值时，通过PLC控制器3控制阀门242截断点胶滴管24，并关闭空压机22，最后启动电驱动电机13并控制驱动电机13的转速，以使得转盘12带动基片4以中心标记点15为中心做周向运动，此时光刻胶将在离心力作用下向四周均匀扩散。

以上均为本申请的较佳实施例，并非依此限制本申请的保护范围，故：凡依本申请的结构、形状、原理所做的等效变化，均应涵盖于本申请的保护范围之内。

Claims (8)

1.一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：包括底座(1)、转动连接于底座(1)上的转盘(12)，以及用于驱动转盘(12)周向转动的驱动电机(13)；所述驱动电机(13)驱动端固定连接于转盘(12)中心处的下表面，所述转盘(12)上设置有定位组件(14)，所述定位组件(14)包括若干个限位板(141)，所述限位板(141)之间放置有基片(4)，且所述基片(4)侧壁与限位板(141)侧壁相贴合；所述底座(1)上方还设置有用于向基片(4)上表面滴胶的滴胶组件(2)。

2.根据权利要求1所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述定位组件(14)还包括垂直设置于每一限位板(141)侧壁的伸缩杆(142)，以及用于固定每一伸缩杆(142)伸缩位置的固定件(143)，所述伸缩杆(142)远离限位板(141)处的一端固定连接于转盘(12)上表面，所述转盘(12)中心位置设置有中心标记点(15)，所述转盘(12)靠近上表面设置有用于标记每一限位板(141)与中心标记点(15)最短距离的刻度线(123)。

3.根据权利要求1所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述伸缩杆(142)包括外管(1421)和插设于外管(1421)内的内杆(1422)，所述外管(1421)远离内杆(1422)处的一端连接于限位板(141)侧壁，所述内杆(1422)远离外管(1421)处的一端连接于转盘(12)上表面；所述固定件(143)包括磁铁块(1431)和与磁铁块(1431)磁性吸固的吸附铁片(1432)，所述磁铁块(1431)固定连接于内杆(1422)靠近外管(1421)处的端壁，所述吸附铁片(1432)嵌固于外管(1421)内壁。

4.根据权利要求3所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述定位组件(14)还包括嵌置于转盘(12)内的吸风机(144)，所述转盘(12)内部开设有供吸风机(144)插设的空腔(121)，所述转盘(12)侧壁贯穿插设有与吸风机(144)出风口相连通的出风管(1441)，所述转盘(12)靠近中心标记点(15)处的上表面贯穿开设有若干个负压孔(122)，所述负压孔(122)与空腔(121)相连通。

5.根据权利要求4所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：位于基片(4)外围的所述负压孔(122)内可拆卸连接有密封塞(1221)。

6.根据权利要求1所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述驱动电机(13)电连接有用于控制其启闭和转速的PLC控制器(3)。

7.根据权利要求6所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述滴胶组件(2)包括点胶滴管(24)、储胶罐(21)、连通管(23)和空压机(22)，所述储胶罐(21)与点胶滴管(24)通过连通管(23)相连通，所述空压机(22)通过管道连通于储胶罐(21)，所述点胶滴管(24)下端有出胶口(241)，所述出胶口(241)位于中心标记点(15)的正上方；

所述连通管(23)上设置有用于检测出胶口(241)流出的光刻胶量的流量计(231)，所述点胶滴管(24)上设置有用于控制点胶滴管(24)通断的阀门(242)，所述流量计(231)电连接于PLC控制器(3)，以用于将检测的流量数据传送至PLC控制器(3)，所述PLC控制器(3)电连接于阀门(242)和空压机(22)，以用于控制阀门(242)和空压机(22)的启闭。

8.根据权利要求7所述的一种用于均匀涂覆光刻胶的装置，其特征在于：所述储胶罐(21)内部转动连接有搅拌杆(211)，所述搅拌杆(211)外侧壁均匀设置有搅拌叶片(2111)，所述储胶罐(21)顶部设置有用于驱动搅拌杆(211)周向转动的搅拌电机(212)。

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