CN215464818U - 一种纳米新材料生产用研磨装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种纳米新材料生产用研磨装置，涉及研磨装置技术领域。本实用新型包括固定架和研磨桶，固定架上设置支撑柱和滑轮，研磨桶内设置磨板组，磨板组包括第一磨板、第二磨板和第三磨板，研磨桶上方设置桶盖，桶盖上设置研磨轴、投料口和驱动电机，研磨轴上设置清洗孔、接水管和研磨头组。本实用新型通过在研磨桶内设置有磨板组，便于对材料进行分级研磨，避免对研磨的材料研磨不充分，导致原料不均匀；通过在研磨轴上设置清洗孔和接水口，便于对使用后的研磨装置进行充分的旋转喷射清洗，避免人工清洗产生人工成本；通过在支撑柱上设置滑轮，便于根据使用者的需求调节研磨装置的高度且可以灵活移动研磨装置。

Description

一种纳米新材料生产用研磨装置

技术领域

本实用新型属于研磨装置技术领域，特别是涉及一种纳米新材料生产用研磨装置。

背景技术

纳米材料是指在三维空间中至少有一维处于纳米尺寸或由它们作为基本单元构成的材料，纳米材料在生产时需要对原料进行研磨，纳米材料加工过程中需要将材料尽可能的研磨细致，现有的研磨装置无法确保研磨出的材料是否符合使用，且会出现大小不一的颗粒出现，使原材料不均匀，且无法持续研磨导出，研磨效率比较低；研磨装置长时间使用其内的材料残留无法彻底被清理，且浪费人力，进一步导致研磨的效率下降，因此提出一种纳米新材料生产用研磨装置。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种纳米新材料生产用研磨装置，解决现有的研磨装置无法确保研磨出的材料符合使用，且会出现大小不一的颗粒出现，使原材料不均匀，同时也无法持续研磨导出，研磨效率比较低；研磨装置长时间使用其内的材料残留也无法彻底被清理的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型是通过以下技术方案实现的：

本实用新型为一种纳米新材料生产用研磨装置，包括固定架和研磨桶，所述固定架周侧面设置有若干固定板，所述固定架为漏斗形结构，所述固定板下表面设置有支撑柱，所述支撑柱为伸缩柱结构，便于根据使用者的需要调节研磨装置的高度；所述固定架内设置有研磨桶；

所述研磨桶内周侧面磨板组，所述磨板组包括第一磨板、第二磨板和第三磨板，所述研磨桶上表面设置有桶盖，所述桶盖上设置有研磨轴，所述研磨轴为管状结构，所述研磨轴上端设置有接水口，便于清洗研磨装置时接入水管；所述研磨轴周侧面设置有研磨头组，所述研磨头组包括第一研磨头、第二研磨头和第三研磨头，所述研磨轴上端周侧面设置有转轴，所述转轴周侧面设置有凸起，所述转轴一侧设置有驱动电机，所述驱动电机一表面设置有驱动轮，所述桶盖上表面设置有投料口，所述研磨桶底部为漏斗形结构，所述研磨桶底部设置有排出口。

进一步地，所述支撑柱一表面设置有滑轮座，所述滑轮座为“U”形板体结构，所述滑轮座内设置有滑轮，便于灵活移动研磨装置。

进一步地，所述第一磨板、第二磨板和第三磨板上均设置有第一过滤孔、第二过滤孔和第三过滤孔，所述第一过滤孔的直径大于第二过滤孔，第二过滤孔的直径大于第三过滤孔，便于将材料精细分级研磨，增加其研磨效率和研磨质量。

进一步地，所述研磨轴周侧面设置有清洗孔，所述清洗孔内设置有单向膜。

进一步地，所述第一研磨头的位置与第一磨板相适应，所述第二研磨头的位置与第二磨板相适应，所述第三研磨头的位置与第三磨板相适应，便于将材料颗粒在其内进行充分研磨。

进一步地，所述驱动轮的形状和大小均与转轴相适应，所述驱动轮与转轴之间啮合。

进一步地，所述第一研磨头、第二研磨头和第三研磨头为相同结构，所述研磨头组下表面设置有若干凸点。

本实用新型具有以下有益效果：

本实用新型通过在研磨桶内设置有磨板组，便于对材料进行分级研磨，避免对研磨的材料研磨不充分，导致原料不均匀；通过在研磨轴上设置清洗孔和接水口，便于对使用后的研磨装置进行充分的旋转喷射清洗，避免人工清洗产生人工成本；通过在支撑柱上设置滑轮，便于根据使用者的需求调节研磨装置的高度且可以灵活移动研磨装置。

当然，实施本实用新型的任一产品并不一定需要同时达到以上所述的所有优点。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例的技术方案，下面将对实施例描述所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为一种纳米新材料生产用研磨装置的整体结构示意图；

图2为一种纳米新材料生产用研磨装置的俯视图；

图3为图2中A-A的剖面图；

图4为图3中C-C的剖面图；

图5为一种纳米新材料生产用研磨装置的主视图。

附图中，各标号所代表的部件列表如下：

1-固定架，2-研磨桶，101-固定板，1011-支撑柱，1012-滑轮座，1013-滑轮，201-第一磨板，2011-第一过滤孔，202-第二磨板，2021-第二过滤孔，203-第三磨板，2031-第三过滤孔，204-桶盖，2041-研磨轴，2042-清洗孔，2044-第一研磨头，2045-第二研磨头，2046-第三研磨头，2047-凸点，2048-转轴，2049-凸起，2050-驱动电机，2051-驱动轮，2052-投料口，2053-接水口，206-排出口。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有作出创造性劳动前提下所获得的所有其它实施例，都属于本实用新型保护的范围。

在本实用新型的描述中，需要理解的是，术语“上”、“中”、“外”、“内”等指示方位或位置关系，仅是为了便于描述本实用新型和简化描述，而不是指示或暗示所指的组件或元件必须具有特定的方位，以特定的方位构造和操作，因此不能理解为对本实用新型的限制。

请参阅图1-2所示，本实用新型为一种纳米新材料生产用研磨装置，包括固定架1和研磨桶2，固定架1周侧面设置有若干固定板101，固定架1为漏斗形结构，研磨桶2底部为漏斗形结构，便于固定架1与研磨桶2紧密固定贴合；固定板101下表面设置有支撑柱1011，支撑柱1011为伸缩柱结构，便于根据使用者的需要调节研磨装置的高度；支撑柱1011一表面设置有滑轮座1012，滑轮座1012为“U”形板体结构，滑轮座1012内设置有滑轮1013，便于灵活移动研磨装置；研磨轴2041上端周侧面设置有转轴2048，转轴2048周侧面设置有凸起2049，转轴2048一侧设置有驱动电机2050，驱动电机2050一表面设置有驱动轮2051，驱动轮2051的形状和大小均与转轴2048相适应，驱动轮2051与转轴2048之间啮合，便于给研磨轴2041提供动力；桶盖204上表面设置有投料口2052，研磨桶2底部设置有排出口206。

如图2-3所示，研磨桶2上表面设置有桶盖204，桶盖204上设置有研磨轴2041，研磨轴2041为管状结构，研磨轴2041上端设置有接水口2053，便于清洗研磨装置时接入水管；研磨轴2041周侧面设置有清洗孔2042，清洗孔2042内设置有单向膜，便于将阻隔研磨颗粒进入研磨轴2041内，同时又能保证清洗液喷射出；研磨轴2041周侧面设置有研磨头组，研磨头组包括第一研磨头2044、第二研磨头2045和第三研磨头2046，第一研磨头2044、第二研磨头2045和第三研磨头2046为相同结构，研磨头组下表面设置有若干凸点2047，固定架1内设置有研磨桶2，研磨桶2内周侧面磨板组，所述磨板组包括第一磨板201、第二磨板202和第三磨板203，第一磨板201、第二磨板202和第三磨板203上均设置有第一过滤孔2011、第二过滤孔2021和第三过滤孔2031，第一过滤孔2011的直径大于第二过滤孔2021，第二过滤孔2021的直径大于第三过滤孔2031，便于将材料精细分级研磨，增加其研磨效率和研磨质量；

如图3，第一磨板201、第二磨板202和第三磨板203下表面均设置有振动电机，避免颗粒堵塞过滤孔；第一研磨头2044的位置与第一磨板201相适应，第二研磨头2045的位置与第二磨板202相适应，第三研磨头2046的位置与第三磨板203相适应，便于将材料颗粒在其内进行充分研磨。

请参阅图1-5所示，本实用新型为一种纳米新材料生产用研磨装置的使用方法：当需要对材料进行研磨时，将研磨装置通过滑轮1013推至合适的位置，然后根据使用者的需求通过调节支撑柱1011的高度，使其达到最舒适的工作高度，启动驱动电机2050带动研磨轴2041转动，再将需要研磨的材料从投料口2052投入研磨桶2中进行研磨，研磨后的材质颗粒小一点的颗粒通过第一过滤孔2011掉落到第二磨板202上，通过第二研磨头2045进行研磨，使更小的颗粒通过第二过滤孔2021进入第三磨板203上，通过第三研磨头2046进行研磨，将合格的颗粒通过第三过滤孔2031掉落从排出口206导出备用，完成研磨。

需要进一步说明的是，驱动电机2050为M590-502型微型减速电机。

在本说明书的描述中，参考术语“一个实施例”、“示例”、“具体示例”等的描述意指结合该实施例或示例描述的具体特征、结构、材料或者特点包含于本实用新型的至少一个实施例或示例中。在本说明书中，对上述术语的示意性表述不一定指的是相同的实施例或示例。而且，描述的具体特征、结构、材料或者特点可以在任何的一个或多个实施例或示例中以合适的方式结合。

以上公开的本实用新型优选实施例只是用于帮助阐述本实用新型。优选实施例并没有详尽叙述所有的细节，也不限制该实用新型仅为所述的具体实施方式。显然，根据本说明书的内容，可作很多的修改和变化。本说明书选取并具体描述这些实施例，是为了更好地解释本实用新型的原理和实际应用，从而使所属技术领域技术人员能很好地理解和利用本实用新型。本实用新型仅受权利要求书及其全部范围和等效物的限制。

Claims (7)

1.一种纳米新材料生产用研磨装置，包括固定架（1）和研磨桶（2），其特征在于：所述固定架（1）周侧面设置有若干固定板（101），所述固定架（1）为漏斗形结构，所述固定板（101）下表面设置有支撑柱（1011），所述支撑柱（1011）为伸缩柱结构，所述固定架（1）内设置有研磨桶（2）；

所述研磨桶（2）内周侧面磨板组，所述磨板组包括第一磨板（201）、第二磨板（202）和第三磨板（203），所述研磨桶（2）上表面设置有桶盖（204），所述桶盖（204）上设置有研磨轴（2041），所述研磨轴（2041）为管状结构，所述研磨轴（2041）上端设置有接水口（2053），所述研磨轴（2041）周侧面设置有研磨头组，所述研磨头组包括第一研磨头（2044）、第二研磨头（2045）和第三研磨头（2046），所述研磨轴（2041）上端周侧面设置有转轴（2048），所述转轴（2048）周侧面设置有凸起（2049），所述转轴（2048）一侧设置有驱动电机（2050），所述驱动电机（2050）一表面设置有驱动轮（2051），所述桶盖（204）上表面设置有投料口（2052），所述研磨桶（2）底部为漏斗形结构，所述研磨桶（2）底部设置有排出口（206）。

2.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述支撑柱（1011）一表面设置有滑轮座（1012），所述滑轮座（1012）为“U”形板体结构，所述滑轮座（1012）内设置有滑轮（1013）。

3.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述第一磨板（201）、第二磨板（202）和第三磨板（203）上均设置有第一过滤孔（2011）、第二过滤孔（2021）和第三过滤孔（2031），所述第一过滤孔（2011）的直径大于第二过滤孔（2021），第二过滤孔（2021）的直径大于第三过滤孔（2031）。

4.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述研磨轴（2041）周侧面设置有清洗孔（2042），所述清洗孔（2042）内设置有单向膜。

5.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述第一研磨头（2044）的位置与第一磨板（201）相适应，所述第二研磨头（2045）的位置与第二磨板（202）相适应，所述第三研磨头（2046）的位置与第三磨板（203）相适应。

6.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述驱动轮（2051）的形状和大小均与转轴（2048）相适应，所述驱动轮（2051）与转轴（2048）之间啮合。

7.根据权利要求1所述的一种纳米新材料生产用研磨装置，其特征在于，所述第一研磨头（2044）、第二研磨头（2045）和第三研磨头（2046）为相同结构，所述研磨头组下表面设置有若干凸点（2047）。

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