CN215429645U - 蚀刻液收集装置 - Google Patents

Abstract

本实用新型公开了一种蚀刻液收集装置，包括：基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口，腔体包括若干个废液收集腔，装置还包括废液回收环，废液回收环和腔体环绕于所述基片旋转机构布置，分液回收环在靠近基片旋转机构的一侧设有若干个分液口，各分液口沿垂直于基片旋转机构的方向依次布置、并分别在废液回收环内延伸并形成与废液收集腔数量相匹配的分液通道，废液收集腔容纳对应的所述分液通道，升降机构驱动废液回收环在废液收集腔内沿垂直于基片旋转机构的方向作升降运动。本设计将基片旋转机构，腔体与升降废液回收环分离，既解决了升降分层排放废液的问题又解决了由于升降造成的管线成本寿命问题。

Description

蚀刻液收集装置

技术领域

本实用新型属于废液资源化处理领域，尤其涉及一种蚀刻液收集装置。

背景技术

在单片清洗、腐蚀、电镀工艺过程中，旋转的基片由于离心力，表面的清洗介质会被甩出成为废液，这些废液会包含有若干种化学品和废水，必须要进行筛分后才能进行排放。

传统的分液设计通常是使得基片旋转机构在一边甩废液的同时一边升降运动，或者是使得工艺腔体作升降运动，使得形成在腔体上的多个分液口分别与基片旋转机构上的基片保持位置匹配，但是腔体和基片旋转机构这两个装置都有很多管线与外部供应部分连接，比如伺服驱动的电缆，进水，进酸，排水，排酸，排气管路，通过设置升降机构使其中的任何一个装置作升降运动，由于管路和线路都必须是绕性的，因此都存在结构布置复杂，结构设置成本高，使用耐久和寿命短等缺点。

实用新型内容

本实用新型要解决的技术问题是为了克服现有技术中使基片分液收集的结构设置方案，存在成本高且使用寿命短的缺陷，提供一种多层蚀刻液收集装置。

本实用新型是通过下述技术方案来解决上述技术问题：

一种蚀刻液收集装置，包括：基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口，所述腔体包括若干个废液收集腔，所述装置还包括废液回收环，所述分液回收环和所述腔体环绕于所述基片旋转机构布置，所述分液回收环靠近所述基片旋转机构的一侧设有若干个所述分液口，各所述分液口沿垂直于所述基片旋转机构的方向依次不知、并分别在所述废液回收环内延伸并形成与所述废液收集腔数量相匹配的分液通道，所述废液收集腔容纳对应的所述分液通道，所述升降机构驱动所述废液回收环在所述废液收集腔内沿垂直于所述基片旋转机构的方向作升降运动。

本技术方案中，相较于现有技术而言，基片旋转机构和腔体都不需要作升降运动，基片旋转机构和腔体是固定不动的，是在基片旋转机构和工艺腔体中间增加了一个多层的废液回收环，额外增加了废液回收环使得升降机构能够驱动其在所述腔体内作升降运动，避免了现有技术中管路排布、内部元件设置复杂，影响装置使用寿命并且成本高的问题；利用升降机构的驱动，使得若干个分液通道将废液引入腔体中与其对应废液收集腔中，能够实现精准的废液收集。

较佳地，所述分液通道和所述废液收集腔呈同心布置。

本技术方案中，分液通道和废液收集腔呈同心布置是为了防止分液通道与废液收集腔在装置运行的过程中壁面与壁面之间产生碰撞，损坏装置。

较佳地，所述分液通道包括第一分液通道、第二分液通道、第三分液通道；所述废液收集腔包括第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔，所述第一分液通道与所述第一废液收集腔连通，所述第二分液通道与所述第二废液收集腔连通，所述第三分液通道与所述第三废液收集腔连通。

本技术方案中，分液通道和废液收集腔的数量均为三种，可以收集三种不同类型的废液，可以预先定义第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔收集的废液类型，比如，第一废液收集腔收集酸性化学品，第二废液收集腔收集碱性化学品、第三废液收集腔收集废水。通过升降机构的驱动带动废液回收环作升降运动，并将相应的废液类型的分液口对准基片旋转机构的平面，使得不同类型的废液可以对应不同高度的分液口，并通过该废液回收环引导甩出的废液进入到工艺腔体内的不同收集区域内，以实现分类收集的功能。

较佳地，所述分液通道和所述废液收集腔均呈阶梯式布置。

本技术方案中，分液通道和废液收集腔呈阶梯式布置也就是说每个分液通道和废液收集腔之间存在高度差，是为了使得不同的清洗介质能够通过升降机构对废液回收环的驱动能够精准的进入到与其对应的废液收集腔，避免混入其他腔体中。

较佳地，所述废液回收环的轴线与所述基片旋转结构和所述腔体的轴线相重合。

本技术方案中，废液回收环和基片旋转机构和腔体之间共轴，防止废液回收环与腔体和基片旋转机构在装置运行的过程中壁面与壁面之间产生碰撞，损坏装置。

较佳地，所述蚀刻液装置还包括排风装置，所述排风装置设置在所述腔体的一侧，所述排风装置的入风口与所述腔体连通。

本技术方案中，在基片清洗的时需要使用各种清洗介质，旋转的基片由于离心力，表面的清洗介质会被甩出成为废液，废液会包含有若干种化学品和废水，这些废液在废液收集腔内会具有浓重的气味，排风装置是为了使这些气味快速散发。

较佳地，所述排风装置设置在所述腔体一侧的底部。

本技术方案中，由于大量的废液在收集在废液收集腔的底部，整个装置的底部区域相较于上部区域比较脏，且废液长时间停留在废液收集腔中可能形成硫酸结晶等杂质，排风装置从底部抽风也是为了使得这些杂质从装置排出。

较佳地，所述升降机构设置在所述腔体的一侧，所述升降机构与所述分液通道驱动连接。

较佳地，所述分液口倾斜于所述基片旋转机构，所述分液口的一端能够贴合于所述基片旋转机构的平面。

本技术方案中，分液口相对于基片旋转机构是倾斜的，能够使得废液在甩出时能够顺延倾斜的分液口精准地流进相对应的分液通道防止废液溅出装置，分液口的顶端与基片旋转机构接触使得废液在分离使不会流进其他分液通道。

较佳地，所述蚀刻液收集装置还包括喷液装置，所述喷液装置设置在所述基片旋转机构的正上方。

本技术方案中，喷液装置设置在基片旋转机构的正上方有利于清洗介质均匀地喷洒在基片表面。

本实用新型的积极进步效果在于：相较于现有技术而言，基片旋转机构和腔体都不需要作升降运动，基片旋转机构和腔体是固定不动的，是在基片旋转机构和工艺腔体中间增加了一个多层的废液回收环，额外增加了废液回收环使得升降机构能够驱动其在腔体内作升降运动，避免了现有技术中管路排布、内部元件设置复杂，影响装置使用寿命并且成本高的问题；利用升降机构的驱动，使得若干个分液通道将废液引入腔体中与其对应废液收集腔中，能够实现精准的废液收集。

附图说明

图1为本实用新型一实施例的蚀刻液收集装置结构示意图；

图2为本实用新型一实施例的蚀刻液收集装置第一分液通道工作示意图；

图3为本实用新型一实施例的蚀刻液收集装置第二分液通道工作示意图；

图4为本实用新型一实施例的蚀刻液收集装置第三分液通道工作示意图。

附图标记说明：

基片旋转机构1

腔体2

第一废液收集腔21

第二废液收集腔22

第三废液收集腔23

废液回收环3

第一分液通道31

第二分液通道32

第三分液通道33

排风装置4

分液口5

升降机构6

喷液装置7

具体实施方式

下面通过实施例的方式进一步说明本实用新型，但并不因此将本实用新型限制在所述的实施例范围之中。

如图1所示，本实施例提供一种蚀刻液收集装置，包括：基片旋转机构1、腔体2、升降机构6、分液口5，腔体2包括若干个废液收集腔，装置还包括废液回收环3，废液回收环3和腔体2环绕于基片旋转机构1布置，废液回收环3在靠近基片旋转机构的一侧设有若干个分液口5，各分液口5沿垂直于基片旋转机构的方向依次布置、并分别在废液回收环内延伸并形成与废液收集腔数量相匹配的分液通道，废液收集腔容纳对应的分液通道，废液收集腔具有足够的空间能够使得分液通道在高度方向上上下活动，升降机构6驱动废液回收环在废液收集腔内沿垂直于基片旋转机构的方向作升降运动。升降机构6设置在腔体2的一侧。

在本实施例中，分液回收环和腔体的形状均为圆柱形，但不限于此，只要腔体能够有足够的空间容纳分液回收环，并且使得其能够在升降机构的驱动下在腔体内作升降运动不影响废液分类收集即可。

本技术方案相较于现有技术而言，基片旋转机构和腔体都不需要作升降运动，基片旋转机构和腔体是固定不动的，是在基片旋转机构和工艺腔体中间增加了一个多层的废液回收环，额外增加了废液回收环使得升降机构能够驱动其在腔体内作升降运动，避免了现有技术中管路排布、内部元件设置复杂，影响装置使用寿命并且成本高的问题；利用升降机构的驱动，使得若干个分液通道将废液引入腔体中与其对应废液收集腔中，能够实现精准的废液收集。

具体地，分液通道包括第一分液通道31、第二分液通道32、第三分液通道33；废液收集腔包括第一废液收集腔21、第二废液收集腔22、第三废液收集腔23，第一分液通道31与第一废液收集腔21连通，第二分液通道32与第二废液收集腔22连通，第三分液通道33与第三废液收集腔23连通。各个分液通道和废液收集腔都是呈同心布置的。

分液通道和废液收集腔的数量均为三种，因此可以收集三种不同类型的废液，可以预先定义第一废液收集腔21、第二废液收集腔22、第三废液收集腔23收集的废液类型，比如，第一废液收集腔21收集酸性化学品，第二废液收集腔22收集碱性化学品，第三废液收集腔23收集废水。通过升降机构6的驱动带动废液回收环3作升降运动，并将相应的废液类型的分液口5对准基片旋转机构1的平面，使得不同类型的废液可以对应不同的分液口，并通过该废液回收环引导甩出的废液进入到腔体2内的不同废液收集腔内，以实现分类收集的功能。

需要说明的是，分液通道和废液收集腔的数量不限于上述三种，可以根据实际需要设置不同数量的分液通道和废液收集腔，这里不做具体限定。

本实施例中，第一分液通道31、第二分液通道32、第三分液通道33和第一废液收集腔21、第二废液收集腔22、第三废液收集腔23均呈阶梯式布置。分液通道和废液收集腔呈阶梯式布置也就是说每个分液通道和废液收集腔之间存在高度差，第一分液通道31的高度＞第二分液通道32的高度＞第三分液通道33的高度；第一废液收集腔21的高度＞第二废液收集腔22的高度＞第三废液收集腔23的高度。这是为了使得不同的清洗介质能够通过升降机构对废液回收环的驱动能够精准的进入到与其对应的废液收集腔，避免混入其他腔体中。

在本实施例中，废液回收环3的轴线与基片旋转机构1和腔体2的轴线相重合。需要说明的是，废液回收环的轴线也可以与旋转机构或者腔体的轴线不重合，这里不做具体限定。重合的好处在于防止废液回收环与腔体和基片旋转机构在装置运行的过程中壁面与壁面之间产生碰撞，损坏装置。

在本实施例中，分液口5倾斜于基片旋转机构1，分液口5的一端能够贴合于基片旋转机构1的平面。能够使得废液在甩出时能够顺延倾斜的分液口精准地流进相对应的分液通道防止废液溅出装置，更不会使得废液在分离流进其他分液通道。

蚀刻液装置还包括排风装置4，该排风装置4设置在腔体2的一侧，排风装置4的入风口与腔体2连通，并且设置在腔体2的底部。在基片清洗的时需要使用各种清洗介质，旋转的基片由于离心力，表面的清洗介质会被甩出成为废液，废液会包含有若干种化学品和废水，这些废液在废液收集腔内会具有浓重的气味，排风装置是为了使这些气味快速散发。进一步地，由于大量的废液在收集在废液收集腔的底部，整个装置的底部区域相较于上部区域比较脏，且废液长时间停留在废液收集腔中可能形成硫酸结晶等杂质，排风装置从底部抽风也是为了使得这些杂质从装置排出。

本实施例中，蚀刻液收集装置还包括喷液装置7，该喷液装置7设置在基片旋转机构1的正上方。能够使得喷液装置使得清洗介质均匀地喷洒在基片上。

在本实施例中，蚀刻液收集装置工作原理如下：

待机状态下，升降装置位于最低点；当基片载入到基片旋转装置上，升降装置升起，并带动废液回收环上升。当进行化学品A工艺时，上升至如图2所示的排液位置，此时基片上的化学品由于离心力作用会从第一分液通道31内通过，并从第一分液通道31排出至第一废液收集腔21；

当进行化学品B工艺时，上升至如图3所示的排液位置，此时基片上的化学品B会从第二分液通道32内通过，并从第二分液通道32排出至第二废液收集腔22；

当进行化学品C工艺时，上升至图4所示的排液位置，此时基片上的化学品会从第三分液通道33内通过，并从第三分液通道33排出至第三废液收集腔23。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。

虽然以上描述了本实用新型的具体实施方式，但是本领域的技术人员应当理解，这仅是举例说明，本实用新型的保护范围是由所附权利要求书限定的。本领域的技术人员在不背离本实用新型的原理和实质的前提下，可以对这些实施方式做出多种变更或修改，但这些变更和修改均落入本实用新型的保护范围。

Claims (10)

1.一种蚀刻液收集装置，包括：基片旋转机构、腔体、升降机构、分液口，所述腔体包括若干个废液收集腔，其特征在于，所述装置还包括废液回收环，所述废液回收环和所述腔体环绕于所述基片旋转机构布置，所述分液回收环在靠近所述基片旋转机构的一侧设有若干个所述分液口，各所述分液口沿垂直于所述基片旋转机构的方向依次布置、并分别在所述废液回收环内延伸并形成与所述废液收集腔数量相匹配的分液通道，所述废液收集腔容纳对应的所述分液通道，所述升降机构驱动所述废液回收环在所述废液收集腔内沿垂直于所述基片旋转机构的方向作升降运动。

2.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述分液通道和所述废液收集腔呈同心布置。

3.如权利要求2所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述分液通道包括第一分液通道、第二分液通道、第三分液通道；所述废液收集腔包括第一废液收集腔、第二废液收集腔、第三废液收集腔，所述第一分液通道与所述第一废液收集腔连通，所述第二分液通道与所述第二废液收集腔连通，所述第三分液通道与所述第三废液收集腔连通。

4.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述分液通道和和所述废液收集腔均呈阶梯式布置。

5.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述废液回收环的轴线与所述基片旋转结构和所述腔体的轴线相重合。

6.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述蚀刻液收集装置还包括排风装置，所述排风装置设置在所述腔体的一侧，所述排风装置的入风口与所述腔体连通。

7.如权利要求6所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述排风装置设置在所述腔体一侧的底部。

8.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述升降机构设置在所述腔体的一侧，所述升降机构与所述分液通道驱动连接。

9.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述分液口倾斜于所述基片旋转机构，所述分液口的一端能够贴合于所述基片旋转机构的平面。

10.如权利要求1所述的蚀刻液收集装置，其特征在于，所述蚀刻液收集装置还包括喷液装置，所述喷液装置设置在所述基片旋转机构的正上方。

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